崔國棟,呂偉強(qiáng),鄭 毅
(固體激光技術(shù)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,北京100015)
溫度對半導(dǎo)體激光器二極管的波長、使用壽命和輸出功率都有很大的影響。所以,必須給激光二極管提供恒定而且能夠精密調(diào)整的工作溫度,才能保證激光二極管穩(wěn)定工作。傳統(tǒng)的溫度控制系統(tǒng)由單片機(jī)控制,采用傳統(tǒng)的PID算法實(shí)現(xiàn),其功率一般偏小,而已有的大功率溫度控制系統(tǒng)存在控溫時(shí)間長、精度低等問題,無法滿足大功率半導(dǎo)體激光器對溫度的要求。鑒于以上原因,采用C8051F021單片機(jī),改進(jìn)PID算法,優(yōu)化硬件設(shè)計(jì),滿足了大功率半導(dǎo)體激光器對溫度控制的要求[1-3]。
激光器溫度控制系統(tǒng)的硬件電路整體框圖如圖1所示。溫度采樣電路將LD的實(shí)際溫度值送給單片機(jī)C8051F021,單片機(jī)將此溫度值與設(shè)置溫度值經(jīng)PID計(jì)算后轉(zhuǎn)換成PWM信號,經(jīng)過光電隔離,由IRF2184驅(qū)動半導(dǎo)體致冷器TEC加熱或制冷,從而實(shí)現(xiàn)對LD的恒定溫度控制,圖中PVDD為TEC供電電壓,本文中該電壓為72 V。
溫度傳感電路采用熱敏電阻采樣溫度,其靈敏度高,體積小,阻值變化與溫度呈反比。為了提高溫度采樣精度,本電路采用穩(wěn)流源REF200,其提供穩(wěn)定電流100μA±0.5%,采樣電壓送入單片機(jī)進(jìn)行A/D轉(zhuǎn)換,得到數(shù)字量,計(jì)算出熱敏電阻阻值,在單片機(jī)中查找廠家提供的表格,可以得到當(dāng)前TEC溫度。單片機(jī)的A/D分辨率為10位,經(jīng)測量,溫度精度可達(dá)到±0.1℃。
圖1 溫度控制系統(tǒng)的硬件電路整體框圖
TEC驅(qū)動電路采用的是自舉式驅(qū)動電路,驅(qū)動芯片采用的是IRF2184,其自帶500 ns的死區(qū)時(shí)間,提供的門極驅(qū)動電壓為14 V。TEC的額定工作電壓為24 V,功率為250 W,試驗(yàn)中需要兩片TEC串聯(lián)使用。此外,采用PWM方式驅(qū)動TEC,要保證TEC正常工作,紋波電壓必須小于10%,所以在輸出端采用LC濾波器[4],LC參數(shù)值計(jì)算公式為:
式中,R為負(fù)載內(nèi)阻;Fc為截止頻率。
由于PWM電路具有很高的頻率和很高的瞬態(tài)功率,存在較為嚴(yán)重的開關(guān)干擾,如果濾波處理不當(dāng),尖峰電流和沖擊噪聲會損壞MOS管,在電源腳處加220μF電容濾掉低頻干擾,加2.2μF電容濾掉高頻干擾。
數(shù)字PID控制在生產(chǎn)過程中是一種普遍采用的控制方法[5]。這里對數(shù)字PID算法進(jìn)行改進(jìn)后的表達(dá)式為:
式中,k為采樣序號,k=1,2,…;e(k-1)和e(k)分別為第(k-1)和第k時(shí)刻所得的偏差信號;u(k)為全量輸出;a為溫度范圍,溫度超過此范圍時(shí)全脈寬輸出。從式(1)可看出,該算法并沒在全溫度范圍內(nèi)都采用PID算法,而是在溫度偏離設(shè)置溫度較大時(shí),采用全脈寬制冷或加熱,此時(shí)輸出功率最大,可以迅速減小溫差。當(dāng)采樣溫度接近設(shè)置溫度時(shí),采用PID調(diào)節(jié),比例環(huán)節(jié)可以控制調(diào)節(jié)速度,積分環(huán)節(jié)可以消除靜差,提高精度,微分環(huán)節(jié)可以降低溫度瞬間變化對輸出結(jié)果的影響。圖2為改進(jìn)后PID算法子程序流程圖。
圖2 改進(jìn)后PID算法子程序流程圖
當(dāng)算法中引進(jìn)積分量后,如果溫差過大,加上溫度的滯后性,很容易造成積分項(xiàng)累計(jì)過大,溫度穩(wěn)定需要的時(shí)間延長。這里給積分項(xiàng)設(shè)定兩個極限值,可以減少上面原因造成溫度穩(wěn)定需要的時(shí)間。同時(shí),算法中加入溫度采樣濾波程序,排除干擾造成的溫度抖動。
試驗(yàn)條件為室溫環(huán)境,工作頻率為28.8 kHz,最大占空比設(shè)置為72%,最小占空比設(shè)置為18%,設(shè)置控溫溫度為20℃,判斷到溫依據(jù)為是否控溫到(20±1)℃內(nèi),負(fù)載熱量模擬LED工作時(shí)釋放的熱量,采用加熱陶瓷片模擬LED,最大負(fù)載熱量是指系統(tǒng)能控溫到設(shè)置溫度附加的最大負(fù)載熱量。試驗(yàn)中熱源最大輸出熱量為102.65 W,滿足LED工作釋放的熱量要求,表中“——”表明負(fù)載熱量為102.65 W時(shí),系統(tǒng)能正??販氐皆O(shè)置溫度。表1為溫度控制系統(tǒng)在不同溫度下控溫到20℃需要的時(shí)間和最大負(fù)載熱量。表1中數(shù)據(jù)說明該溫控系統(tǒng)在60℃以上,效率會降低很多,最大輸出功率可達(dá)到480 W,控溫精度達(dá)到±0.1℃。
表1 在不同環(huán)境溫度下溫度控制系統(tǒng)控溫到20℃需要的時(shí)間和最大負(fù)載熱量
圖3所示為MOS管兩端電壓互補(bǔ),開通和關(guān)斷間死區(qū)時(shí)間大約為500 ns,圖4為達(dá)到設(shè)置溫度后流過TEC的電流波形,同時(shí)顯示電流根據(jù)溫度變化實(shí)時(shí)進(jìn)行調(diào)整。
圖3 MOS管開通和關(guān)斷間的死區(qū)時(shí)間
圖4 控溫系統(tǒng)穩(wěn)定后流過TEC的電流波形
圖5 中豎軸代表溫度,橫軸代表時(shí)間(以10 s為一個單位,圖中2代表20 s)。該試驗(yàn)數(shù)據(jù)的工作條件為:LD環(huán)境為30℃,設(shè)置溫度為20℃,開啟溫控,由圖可看出LD穩(wěn)定到20℃時(shí)需要40 s,最大超調(diào)為-1.1℃,控溫精度達(dá)到±0.1℃,在70 s時(shí)給LD突加102.65 W的熱源,可見溫度最大偏離0.7℃,隨后經(jīng)過30 s,溫度再次達(dá)到20℃。
圖5 溫度變化曲線圖
在實(shí)驗(yàn)中加入了電壓和電流保護(hù)功能,當(dāng)出現(xiàn)電壓故障和電流故障時(shí),系統(tǒng)自動關(guān)閉電源,快速有效地保護(hù)了電源系統(tǒng)。如圖6所示溫度控制系統(tǒng)模塊化,方便插拔維修。同時(shí)將電路板單獨(dú)置于-40~55℃的環(huán)境下,重新做上面的試驗(yàn),結(jié)果顯示電路板在要求的溫度范圍內(nèi)可以正常工作,而且滿足各項(xiàng)指標(biāo)。
圖6 模塊化的控溫系統(tǒng)板
本文基于C8051F021單片機(jī),改進(jìn)PID控制算法,建立大功率半導(dǎo)體激光器溫度控制系統(tǒng)。試驗(yàn)表明:該電路可以快速有效地對半導(dǎo)體激光器的工作溫度進(jìn)行控制,控溫精度可達(dá)±0.1℃,使其工作在設(shè)置的穩(wěn)定環(huán)境下,有效地保證激光器的安全和發(fā)射波長的穩(wěn)定性。
[1] SUN Lifei,TIAN Xiaojian.High precision PWM power amplifier based on thermoelectric cooler[J].Journal of Optoelectronics·Laser,2004,9(15):1026-1030.(in Chinese)孫麗飛,田小建.基于半導(dǎo)體制冷器的高精度PWM功率驅(qū) 動 器[J].光 電 子·激 光,2004,9(15):1026-1030.
[2] XIE Haihe,ZOU Wendong,HUANG Changhui,et al.LD temperature control system based on PWM comparison amplifier[J].Chinese Journal of Scientific Instrument,2009,30(7):1530-1534.(in Chinese)謝海鶴,鄒文棟,黃長輝,等.基于PWM比較放大的LD溫控系統(tǒng)[J].儀器儀表學(xué)報(bào),2009,30(7):1530-1534.
[3] LIU Yu,DUAN Shilong.A digital controlled laser power supply system[J].Laser&Infrared,2009,39(10):1064-1067.(in Chinese)劉玉,段士龍.一種全數(shù)字控制的工業(yè)激光器驅(qū)動電源[J].激光與紅外,2009,39(10):1064-1067.
[4] ZHU Hong,ZHENG Yi,GAO Zhongnan,et al.Development of high repetition narrow duration fiber laser driver[J].Laser&Infrared,2012,42(4):385-388.(in Chinese)朱虹,鄭毅,高中楠,等.高重頻窄脈寬光纖激光器驅(qū)動源研制[J].激光與紅外,2012,42(4):385-388.
[5] XU Guangping,F(xiàn)ENG Guoxu,GENG Lin.Temperature control of high density TECbased on MCU operation[J].Laser&Infrared,2009,39(3):254-256.(in Chinese)徐廣平,馮國旭,耿林.基于單片機(jī)控制的高精度TEC溫控[J].激光與紅外,2009,39(3):254-256.