任聰,李勇,趙曉紅,陳偉,王書彥,李居正
(1.中國石油 西南油氣田分公司 勘探事業(yè)部,成都 610041;2.成都理工大學(xué) 油氣藏地質(zhì)及開發(fā)工程國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,成都 610059)
四川盆地中部高石梯—磨溪地區(qū)(以下簡稱高磨地區(qū))震旦系燈影組為典型的碳酸鹽巖氣藏儲(chǔ)集層,儲(chǔ)集層發(fā)育廣泛,具有巨大的氣藏地質(zhì)儲(chǔ)量。但由于該區(qū)儲(chǔ)集層埋藏深度大,成巖作用多樣,導(dǎo)致儲(chǔ)集層微觀孔隙結(jié)構(gòu)發(fā)育不均,滲流規(guī)律復(fù)雜多變,對(duì)儲(chǔ)集層微觀孔隙特征及可動(dòng)流體飽和度特征的認(rèn)識(shí)仍相對(duì)薄弱。已有的關(guān)于微觀孔隙結(jié)構(gòu)的研究,只是基礎(chǔ)性的對(duì)實(shí)驗(yàn)現(xiàn)象進(jìn)行表述,將孔隙結(jié)構(gòu)特征與滲流特征相結(jié)合進(jìn)行研究的相對(duì)較少,嚴(yán)重制約氣藏的高效開發(fā)[1-4]。鑒于致密碳酸鹽巖儲(chǔ)集層復(fù)雜的孔滲特征,筆者以掃描電鏡、高壓壓汞實(shí)驗(yàn)為依托,對(duì)比分析不同儲(chǔ)集層孔隙結(jié)構(gòu)特征,并結(jié)合核磁共振,從微觀機(jī)理上揭示可動(dòng)流體與孔隙結(jié)構(gòu)的關(guān)系,為高磨地區(qū)氣藏高效開發(fā)提供參考。
高磨地區(qū)構(gòu)造上位于四川盆地中部,處于川中古隆中斜平緩構(gòu)造帶中部,樂山—龍女寺加里東古隆起東段,面積約5 300 km2(圖1)。震旦系燈影組燈四段是在陡山沱組之后發(fā)育的大規(guī)模碳酸鹽臺(tái)地沉積,整體呈西高東低的寬緩坡度,發(fā)育臺(tái)內(nèi)灘、灰泥丘等對(duì)形成優(yōu)質(zhì)儲(chǔ)集層有利的沉積類型,油藏平均埋深3 800~4 000 m,受桐灣運(yùn)動(dòng)二幕影響,燈四段受到不同程度剝蝕,不同地區(qū)砂體發(fā)育程度不同,儲(chǔ)集層平均厚度200~250 m,以淺灰—深灰色層狀粉晶白云巖、溶孔粉晶白云巖和藻白云巖為主[5-7]。
圖1 研究區(qū)構(gòu)造位置
根據(jù)鑄體薄片、掃描電鏡等測(cè)試結(jié)果,高磨地區(qū)燈影組主要發(fā)育粒間溶孔、殘余粒間孔、晶間孔、溶蝕孔洞等4類孔隙。其中粒間溶孔最發(fā)育,最大面孔率達(dá)1.4%,平均為0.9%;其次為溶蝕孔洞,平均為0.8%;殘余粒間孔平均面孔率為0.6%,晶間孔平均面孔率為0.3%;研究區(qū)部分巖心可見裂縫發(fā)育,平均面孔率最低,但對(duì)儲(chǔ)集及滲流起較大作用。研究區(qū)各類儲(chǔ)集空間在經(jīng)歷高強(qiáng)度成巖作用后,原生孔隙被強(qiáng)烈改造,次生孔隙逐步發(fā)育。儲(chǔ)集空間多次改造的疊加,使得燈影組的孔隙類型復(fù)雜,發(fā)育多種孔隙組合[3-6],主要有粒間溶孔—?dú)堄嗔ig孔組合、粒間溶孔—晶間孔組合和晶間孔—溶蝕孔洞組合(表1)。
表1 高磨地區(qū)燈四段儲(chǔ)集層孔隙組合
(1)粒間溶孔—?dú)堄嗔ig孔組合 粒間溶孔是在粒間孔、殘余粒間孔的基礎(chǔ)上,經(jīng)過骨架顆粒、粒間膠結(jié)物溶蝕產(chǎn)生的次生孔隙,是研究區(qū)最為重要的孔隙類型(圖2a)。殘余粒間孔是沉積時(shí)期原生孔隙在成巖作用后保留部分,主要發(fā)育在未被白云石膠結(jié)充填的砂屑或鮞粒白云巖中(圖2b)。
圖2 高磨地區(qū)燈四段儲(chǔ)集層鑄體薄片
(2)粒間溶孔—晶間孔組合 主要發(fā)育于粉晶、細(xì)晶白云巖中,晶間孔主要為晶體顆粒集合堆積而形成,晶間孔形態(tài)多樣,與晶體自生形態(tài)有關(guān),呈現(xiàn)港灣狀、鋸齒狀等(圖2c),白云石化及重結(jié)晶作用是影響晶間孔發(fā)育的主要因素。在重結(jié)晶過程中發(fā)生的溶蝕作用,對(duì)晶體顆粒及晶體間填隙物溶蝕,形成晶間孔,由于重結(jié)晶及溶蝕程度的不一致,導(dǎo)致晶間孔分布不均勻。溶蝕作用在擴(kuò)大原始晶間孔體積的同時(shí),連通了初期由于膠結(jié)作用而不連通的孔隙,提高了儲(chǔ)集層的滲透性。
(3)晶間孔—溶蝕孔洞組合 溶蝕孔洞是指不規(guī)則溶蝕性孔隙,多被白云石、方解石、硅質(zhì)及瀝青充填。此類孔隙比微觀孔隙大,具有良好的連通性,孔洞多終結(jié)于硅質(zhì)膠結(jié)發(fā)育處,但在研究區(qū)發(fā)育程度較低。
儲(chǔ)集層微觀孔隙結(jié)構(gòu)是指巖石中各類儲(chǔ)集空間的分布狀況、發(fā)育程度及其連通性。本文利用高壓壓汞實(shí)驗(yàn)結(jié)果,從不同角度表征儲(chǔ)集層孔隙結(jié)構(gòu),將高磨地區(qū)儲(chǔ)集層劃分為以下3種類型[8-11]。
(1)Ⅰ類儲(chǔ)集層 儲(chǔ)集空間以粒間溶孔—?dú)堄嗔ig孔為主,屬于研究區(qū)較好的儲(chǔ)集層??紫杜膨?qū)壓力為4.1 MPa,中值壓力為18.7 MPa,毛細(xì)管壓力曲線表現(xiàn)為粗歪度,表明汞最先進(jìn)入該類儲(chǔ)集層??紫逗淼腊霃綖?.01~0.09μm的部分占比為78.6%~84.3%,此類孔隙喉道分布范圍最大,進(jìn)汞飽和度增量主要集中在0~0.10μm的孔隙喉道所控制的空間內(nèi),貢獻(xiàn)了85.3%的滲流能力,孔隙喉道粗,滲透率大。此類儲(chǔ)集層主要分布在丘灘相中心區(qū)域,相對(duì)集中,是研究區(qū)物性較好的儲(chǔ)集層(圖3a,圖3b,圖4)。
圖3 高磨地區(qū)燈四段儲(chǔ)集層高壓壓汞曲線
圖4 高磨地區(qū)燈四段儲(chǔ)集層分布
(2)Ⅱ類儲(chǔ)集層 儲(chǔ)集空間以粒間溶孔—晶間孔型為主,排驅(qū)壓力為9.3 MPa,中值壓力為31.4 MPa,毛細(xì)管壓力曲線表現(xiàn)為中等歪度,表明汞同樣較易于進(jìn)入此類孔隙空間。與Ⅰ類儲(chǔ)集層孔隙類型相比,此類儲(chǔ)集層孔隙喉道分布范圍相對(duì)較窄,孔隙喉道半徑在0.01~0.06μm的占比為61.2%~75.6%,進(jìn)汞飽和度增量主要集中在0.01~0.06μm的孔隙喉道所控制的空間內(nèi),貢獻(xiàn)了82.5%的滲流能力。此類儲(chǔ)集層孔隙喉道相對(duì)較粗,滲透率大,主要分布在丘灘相與灘間相過渡區(qū)域,分布相對(duì)分散,是研究區(qū)物性中等的儲(chǔ)集層(圖3c,圖3d,圖4)。
(3)Ⅲ類儲(chǔ)集層 儲(chǔ)集空間以晶間孔—溶蝕孔洞型為主,屬于研究區(qū)相對(duì)較差的成巖相類型。此類成巖相的排驅(qū)壓力為27.6 MPa,中值壓力為76.8 MPa,毛細(xì)管壓力曲線表現(xiàn)為細(xì)歪度,表明汞難于進(jìn)入此類儲(chǔ)集空間。與前兩類成巖相儲(chǔ)集層相比,此類成巖相儲(chǔ)集層孔隙喉道分布范圍最窄,孔隙喉道半徑在0.01~0.03μm的部分占比為45.8%~51.5%,進(jìn)汞飽和度增量主要集中在0.01~0.03μm的孔隙喉道所控制的空間內(nèi),分布范圍相對(duì)較小。此類儲(chǔ)集層孔滲較差,主要在灘間相零星分布,是研究區(qū)物性較差的儲(chǔ)集層(圖3e,圖3f,圖4)。
研究區(qū)儲(chǔ)集層滲流特征復(fù)雜,極大地增加了儲(chǔ)集層開發(fā)難度,開展儲(chǔ)集層微觀滲流特征研究,可以更深層次地整體認(rèn)識(shí)儲(chǔ)集層。本文應(yīng)用核磁共振T2譜,對(duì)可動(dòng)流體飽和度進(jìn)行定量表征[12-14]。
通過對(duì)研究區(qū)9塊巖心進(jìn)行核磁共振實(shí)驗(yàn),研究區(qū)儲(chǔ)集層可動(dòng)流體飽和度相對(duì)較低,為17.1%~45.9%,平均為33.1%.粒間溶孔—?dú)堄嗔ig孔型儲(chǔ)集空間可動(dòng)流體飽和度最高,為35.8%~45.9%,平均為41.5%,T2譜中弛豫時(shí)間為0.1~8 500.0 ms,以雙峰狀為主,反映此類儲(chǔ)集空間主要以大孔隙為主,同時(shí)存在一部分中孔隙。粒間溶孔—晶間孔型儲(chǔ)集空間可動(dòng)流體飽和度較高,為32.1%~37.7%,平均為34.5%,T2譜中弛豫時(shí)間為0.1~7 500.0 ms,以雙峰—三峰狀為主,反映此類儲(chǔ)集空間中大孔隙、中孔隙及小孔隙同時(shí)存在,且以中孔隙為主。晶間孔—溶蝕孔洞型儲(chǔ)集空間可動(dòng)流體飽和度較低,為17.9%~28.9%,平均為23.2%,T2譜中弛豫時(shí)間為0.1~6 000.0 ms,以單峰狀為主,弛豫時(shí)間范圍較小,此類儲(chǔ)集空間主要以小孔隙為主(圖5)。根據(jù)核磁共振結(jié)果,結(jié)合高壓壓汞實(shí)驗(yàn)分析,儲(chǔ)集層可動(dòng)流體飽和度受微觀孔隙結(jié)構(gòu)發(fā)育程度的影響,儲(chǔ)集層孔隙發(fā)育程度越高,可動(dòng)流體飽和度越高。
圖5 研究區(qū)燈四段實(shí)驗(yàn)樣品T2譜
儲(chǔ)集層的好壞可通過物性參數(shù)來表征,通過相關(guān)性分析可知,可動(dòng)流體飽和度與孔隙度的相關(guān)性較小,例如2號(hào)巖心孔隙度為2.1%,可動(dòng)流體飽和度為32.1%,3號(hào)巖心孔隙度為4.3%,可動(dòng)流體飽和度為35.8%,兩者可動(dòng)流體飽和度基本相近;而可動(dòng)流體飽和度與滲透率間的相關(guān)系數(shù)為0.848 8,滲透率變化時(shí),可動(dòng)流體飽和度變化較大(圖6)。因此,儲(chǔ)集層物性影響可動(dòng)流體飽和度的大小,其中滲透率起主要作用。
圖6 研究區(qū)物性與可動(dòng)流體飽和度相關(guān)性分析
高磨地區(qū)燈影組儲(chǔ)集層平均總面孔率為2.5%,孔隙類型以粒間溶孔、殘余粒間孔、晶間孔、溶蝕孔洞為主,溶孔發(fā)育并提供較大比例的面孔率??偯婵茁逝c可動(dòng)流體飽和度相關(guān)系數(shù)為0.756 9,其中粒間溶孔與可動(dòng)流體飽和度的相關(guān)性較好,相關(guān)系數(shù)為0.848 8,粒間溶孔對(duì)面孔率的貢獻(xiàn)越大,可動(dòng)流體飽和度越大;而晶間孔對(duì)面孔率的貢獻(xiàn)增加時(shí),自生礦物隨之發(fā)育,充填原生孔隙及次生溶蝕孔,導(dǎo)致有效面孔率降低,孔喉匹配關(guān)系變差,晶間孔的發(fā)育與可動(dòng)流體飽和度相關(guān)性較差(圖7)。
圖7 研究區(qū)面孔率與可動(dòng)流體飽和度相關(guān)性分析
研究區(qū)碳酸鹽巖儲(chǔ)集層喉道發(fā)育程度存在較大差異。通過對(duì)比不同物性的9塊巖心樣品,解析孔隙結(jié)構(gòu)對(duì)可動(dòng)流體賦存特征的影響[15-17]。
利用高壓壓汞實(shí)驗(yàn)參數(shù),可以定量獲取孔隙結(jié)構(gòu)特征參數(shù),其中表征孔喉大小的參數(shù)為孔喉中值半徑。研究區(qū)平均孔喉半徑中值為0.033μm,通過相關(guān)性分析可知,孔喉半徑中值與可動(dòng)流體飽和度相關(guān)性較強(qiáng),相關(guān)系數(shù)為0.728 6(圖8)。分析認(rèn)為,研究區(qū)由于強(qiáng)烈的溶蝕作用,粒間溶孔及溶蝕孔洞聯(lián)合發(fā)育造成孔喉半徑增加,有效儲(chǔ)集空間顯著增加,提高了可動(dòng)流體飽和度。
毛細(xì)管壓力曲線中,退汞曲線視為喉道體積,退汞效率不僅反映孔喉匹配程度,也決定非潤濕相的采收率,是評(píng)價(jià)孔喉連通性的重要參數(shù)。9塊巖心樣品高壓壓汞退汞效率為24.8%~45.9%,平均為35.5%,其與可動(dòng)流體飽和度具有好的正相關(guān)性。退汞時(shí),汞由微細(xì)的喉道擠出后,部分孔隙間不連通造成孔隙的孤立,反映了細(xì)小喉道阻礙孔隙空間流體的滲流。無論樣品的物性好壞,微細(xì)喉道的增加會(huì)使樣品空間內(nèi)部的連通性變差,降低可動(dòng)流體飽和度,孔喉連通性對(duì)孔隙空間的賦存能力起著重要的作用。
圖8 研究區(qū)高壓壓汞參數(shù)與可動(dòng)流體飽和度相關(guān)性分析
不同微觀孔隙結(jié)構(gòu)制約著可動(dòng)流體飽和度,最終影響氣井采收率[18-19]。以粒間溶孔—?dú)堄嗔ig孔為主的5號(hào)巖心樣品為例,孔隙發(fā)育程度好且分布均勻,孔隙之間連通性好,孔喉半徑最大,可動(dòng)流體飽和度為45.9%.從生產(chǎn)曲線上,該井初期日產(chǎn)氣24.5×104m3,壓力保持穩(wěn)定,日產(chǎn)氣量穩(wěn)定在20.0×104m3,屬于高產(chǎn)穩(wěn)產(chǎn)型。以晶間孔—溶蝕孔洞為主的9號(hào)巖心樣品,巖心面孔率較低,孔喉半徑微細(xì),可動(dòng)流體飽和度為28.9%,從生產(chǎn)曲線上,該井初期日產(chǎn)氣20.1×104m3,壓力一直呈下降趨勢(shì),日產(chǎn)氣量逐步下降至10.5×104m3,屬于高產(chǎn)遞減型。由生產(chǎn)動(dòng)態(tài)分析可知,儲(chǔ)集層的微觀孔隙結(jié)構(gòu)影響著儲(chǔ)集層的可動(dòng)流體飽和度及滲流能力,同時(shí)對(duì)最終采收率起著較大的制約作用。
(1)高石梯—磨溪地區(qū)燈影組燈四段儲(chǔ)集層孔隙類型以粒間溶孔、殘余粒間孔、晶間孔、溶蝕孔洞為主,平均總面孔率為2.5%;根據(jù)微觀孔隙結(jié)構(gòu),可將儲(chǔ)集層分為Ⅰ,Ⅱ,Ⅲ類,其孔隙發(fā)育程度依次降低,儲(chǔ)集及滲流能力逐步下降。
(2)研究區(qū)平均可動(dòng)流體飽和度為33.1%,T2譜中弛豫時(shí)間為1~10 000 ms,儲(chǔ)集層存在部分大孔隙,隨孔隙發(fā)育程度降低,其弛豫時(shí)間相應(yīng)減小。
(3)滲透率及粒間溶孔發(fā)育程度是影響可動(dòng)流體飽和度的重要參數(shù),孔喉半徑中值與退汞效率的提高,對(duì)可動(dòng)流體飽和度起建設(shè)性作用。對(duì)于致密儲(chǔ)集層,投產(chǎn)初期通過適當(dāng)加大壓裂改造規(guī)模,提高滲透率及孔喉發(fā)育程度,是提高氣井產(chǎn)量的重要手段。