王高亮,孟 明,王 強(qiáng)
(周口師范學(xué)院 物理與電信工程學(xué)院,河南 周口 466001)
1690年,荷蘭物理學(xué)家惠更斯在《論光》一書中,提出了惠更斯原理:波陣面上每一點都可以看作是發(fā)射子波的波源,各自發(fā)出球面子波,其后任意時刻,這些子波的包跡就是新的波陣面,惠更斯發(fā)展了光的波動學(xué)說[1]. 1802年,英國的托馬斯?楊在研究人眼對顏色視覺效應(yīng)時,他想出了一個巧妙的方法,演示了光的干涉現(xiàn)象,進(jìn)一步為光的波動性提供了堅實的實驗基礎(chǔ)[2]. 楊氏雙縫干涉實驗是大學(xué)物理光學(xué)實驗中的重要實驗之一,在科學(xué)研究和工程技術(shù)上有著廣泛的應(yīng)用. 以往大學(xué)物理課本中,只給出了原理,及形成的一系列的平行等間距的明暗相間的干涉條紋,并指出中央明紋最亮,其他級次的條紋亮度逐級減小,這給學(xué)生們的理解產(chǎn)生了很大的困惑[3-4]. 并且傳統(tǒng)的楊氏雙縫實驗對實驗條件、設(shè)備和場地等有特別的要求,必須在專業(yè)的實驗室內(nèi)進(jìn)行,而有部分院校缺少實驗儀器等等[5]. 根據(jù)楊氏雙縫干涉的理論基礎(chǔ),利用Mathematica為計算工具,對楊氏雙縫現(xiàn)象進(jìn)行仿真,建立了基于計算機(jī)系統(tǒng)的模型,在脫離了實驗環(huán)境和實驗設(shè)備的約束下,引導(dǎo)讀者通過物理計算,進(jìn)行楊氏雙縫干涉的虛擬實驗,深化學(xué)生對楊氏雙縫實驗的理解,達(dá)到更好地掌握大學(xué)物理內(nèi)容的目的,對大學(xué)物理教育有非常重要的意義.
圖1 楊氏雙縫實驗原理圖
楊氏雙縫干涉實驗原理如圖1所示,其中小孔S發(fā)出球面波,可視為點光源,狹縫S1,S2到S的距離相等. 根據(jù)惠更斯原理,如果狹縫S1,S2所處位置是球面波的波陣面,則S1,S2可看成發(fā)射子波的新波源,其產(chǎn)生的波在空間相遇,因滿足頻率相同、振動方向相同、位相差恒定的相干條件,則在波場會產(chǎn)生干涉現(xiàn)象,這種方法稱為分波陣面法獲得相干光. 由于激光的產(chǎn)生,利用其良好的單色性,代替原來的普通光源,在重疊區(qū)域會產(chǎn)生干涉現(xiàn)象,便可在干涉屏上觀察到明暗相間的干涉條紋,在干涉場通過光與物質(zhì)的作用,曝光、顯影之后就可以在合適的感光材料上記錄全息圖樣,從而可以制作一維光子晶體[6-8].
根據(jù)原理圖,可以對干涉條紋的位置、間距做定量分析. 如圖1所示,雙縫S1,S2的間距為d,縫到干涉屏之間的距離為D,一般情況下d< (1) 則P點的光強(qiáng)決定于從S1,S2發(fā)出的兩束光的相位差,決定于光程差,也就是決定于兩束光的光程差δ. 相位差 (2) 由于分波面法,兩列相干波的初相相同,則有: (3) 干涉加強(qiáng)或減弱的條件 (4) k=0,±1,±2,±3,...,其中k為級次,明紋位置 (5) k=0,±1,±2,±3,...,從中可以看出,k=0,稱為中央明紋或零級明紋,干涉條紋的級次k越大,x越大,離中央明紋越遠(yuǎn). (6) k=0,±1,±2,±3,... 暗紋位置 (7) k=0,±1,±2,±3,... 其他都是界于最明和最暗之間. 相鄰的兩明(暗)條紋的距離為 (8) 說明,當(dāng)θ不太大時,干涉場是一系列的平行等間距的明暗相間的條紋,條紋是等間距分布的. 楊氏雙縫實驗在實際的應(yīng)用中,可以測量入射光的波長. 由式(5)可得 (9) 或根據(jù)式(8),可以得到 (10) Clear[t] %首先清除變量 λ=0.532; %設(shè)定波長 z=100;%觀察點,即干涉場點 a=125; r1=z+((x+a/2)2+y2)/(2z);%S1到P點的光程 r2=z+((x-a/2)2+y2)/(2z);%S1到P點的光程 t=Abs[u1+u2];%P點光強(qiáng) ContourPlot[t2,{x,-2,2},{y,-2,2},ContourLines→False,Frame→True,PlotRange→{Automatic,0.00014},ColorFunction?Black,FrameLabel→{"x(mm)","y(mm)"," ",""}] %仿真畫出P點光強(qiáng)的等高圖. 根據(jù)式(5)、(7)、(8),可以在實驗中設(shè)定入射光的波長λ,雙縫S1,S2的間距為d,縫到干涉屏之間的距離為D的值,進(jìn)一步觀察影響干涉條紋明(暗)紋位置、明(暗)紋間距的因素. 當(dāng)d,D一定時,同過改變?nèi)肷涔獾牟ㄩL,可以得到不同的干涉條紋. 模擬的結(jié)果如圖2所示,雙縫的間距d為10 μm,D為100 μm時的干涉圖樣,從圖中可以看出是一組平行的明暗相間的直條紋. 圖2(a)是入射光的波長為390 nm,形成的干涉條紋周期為422 nm,達(dá)到了光波長量級,可以看作是一維的光子晶體;圖2(b)是入射光的波長為532 nm,周期變化不大,但是明紋的寬度有了明顯的加寬;圖2(c)是入射光的波長為690 nm,其周期為542 nm;圖2(d)是入射光的波長為760 nm,其周期為600 nm. 從這幾幅圖中,可以看到,隨著光波長的增加,周期也在增加,即明暗條紋的間距也在增加,驗證了公式(8)的正確性. 當(dāng)入射光的光波長λ和雙縫的間距d一定時,同過改變縫和屏的間距,可以得到光柵常數(shù)不同的干涉條紋. 模擬的結(jié)果如圖3所示,入射波長λ=532 nm,d為10 μm時的干涉圖樣. 圖2 改變波長λ形成的干涉圖 圖3 改變D形成的干涉圖 圖3(a)是D=100 μm時的干涉圖樣,從圖中可以看到周期為0.420 μm;(b)是D=125 μm時的干涉圖樣,從圖中可以看到周期增大,變?yōu)?.615 μm;(c)是D=150 μm時的干涉圖樣,從圖中可以看到明紋增寬,周期為0.667 μm;(d)是D=200 μm時的干涉圖樣,從圖中可以看到周期為0.889 μm. 按照實驗原理搭建光路,用波長為532 nm的半導(dǎo)體激光器和波長為632 nm的氦氖激光器代替普通光源,在干涉場通過顯微鏡觀察干涉圖案,并用照相機(jī)或記錄介質(zhì)記錄干涉圖結(jié)構(gòu)[9-13]. 如圖4所示,可以清楚地看到平行直條紋的干涉圖樣,與圖2、圖3的理論計算結(jié)果吻合的非常好. 運用Mathematica理論計算了楊氏雙縫干涉光場的干涉圖樣,搭建了實驗光路,記錄了全息干涉圖,實驗觀察結(jié)果與理論模擬很好的吻合. 通過改變影響明紋位置、明紋間距因素的參數(shù)波長λ和縫到屏的間距D,得到了周期不同、光柵常數(shù)不同的干涉圖樣. 論文的創(chuàng)新之處,運用Mathematica理論計算楊氏雙縫干涉實驗,特別是對實驗條件達(dá)不到的院校,也可以使學(xué)生加深對實驗現(xiàn)象,實驗規(guī)律和實驗原理的掌握,仿真模型極大地節(jié)約了實驗成本,實現(xiàn)資源共享. 此外,運用激光干涉,也可以大規(guī)模地制作波長量級的一維光子晶體. 圖4 不同放大倍數(shù)的干涉圖樣2 仿真程序的編寫
3 仿真結(jié)果及波長、D對干涉條紋的影響
3.1 波長對干涉條紋的影響
3.2 改變D對干涉的影響
4 實驗結(jié)果分析
5 結(jié)論