鄧湘華 楊琳
摘要:采用表面反射紅外光譜(ATR)儀分析了激光模切壓敏膠的表面成分。研究發(fā)現(xiàn),靠近壓敏膠模切件邊緣位置有明顯的酯基吸收峰,酯基吸收峰主要來源于激光燃燒壓敏膠產(chǎn)生的氧化產(chǎn)物,這些氧化產(chǎn)物被吸附在壓敏膠模切件邊緣2mm以內(nèi)的表面,并且會(huì)讓壓敏膠模切件邊緣粘性失效。為此,提出了激光模切壓敏膠時(shí),壓敏膠兩面需要貼合離型膜或者離型紙保護(hù)的解決方案。
關(guān)鍵詞:激光模切;壓敏膠;失效分析;解決方案
中圖分類號(hào):TQ436+.3文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼:A 文章編號(hào):1001-5922(2019)06-0001-04
隨著電子行業(yè)的快速發(fā)展,尤其是消費(fèi)電子產(chǎn)品范圍的不斷擴(kuò)大,模切已成為電子工業(yè)產(chǎn)品輔助材料生產(chǎn)必不可少的環(huán)節(jié)。目前電子市場(chǎng)常見的模切工藝包括平刀沖切、圓刀模切和激光模切。激光模切用于平刀和圓刀模切無法滿足切削精度的材料,切削過程干凈、無切削熱生成,并且不需要事先制備刀模,只要按照CAD圖紙預(yù)設(shè)路徑進(jìn)行切割,適于大批量生產(chǎn)切割和快速制作測(cè)試樣品。
壓敏膠是電子設(shè)備,比如智能手機(jī)、平板電腦和可穿戴設(shè)備等不可缺少的粘接輔助材料,可根據(jù)需要將不規(guī)則形狀的電子元器件粘接起來。因此在組裝前,需要將壓敏膠帶模切成復(fù)雜的幾何形狀,并且需要制備成多層結(jié)構(gòu),以滿足流水線組裝的高效率要求。電子產(chǎn)品零部件尺寸都比較小,因此,膠帶模切片的尺寸也較小,或者寬度較窄,電子產(chǎn)品組裝工廠常常不能直接測(cè)試模切片的粘性,從而不能對(duì)模切片粘性進(jìn)行質(zhì)量管控,經(jīng)常因膠帶模切片粘性失效而降低生產(chǎn)效率和增加生產(chǎn)成本。激光模切是一種高效的切割方式,但是在電子行業(yè)應(yīng)用時(shí),由于膠帶模切件結(jié)構(gòu)復(fù)雜,所以某些環(huán)節(jié)必須將膠面裸露進(jìn)行激光模切,這樣可能會(huì)污染壓敏膠表面。為此,提高模切工藝水平,減少壓敏膠表面污染,對(duì)于保證壓敏膠模切片粘性質(zhì)量至關(guān)重要。
本研究選擇一種橡膠基雙面壓敏膠帶,用激光模切成電子產(chǎn)品常用的小尺寸,采用ATR檢測(cè)膠面成分變化,分析壓敏膠模切件粘性失效原因,并提出解決方案。
1 實(shí)驗(yàn)部分
1.1實(shí)驗(yàn)原料
一種橡膠基雙面膠帶(總厚度為0.2mm),3M中國有限公司。
1.2實(shí)驗(yàn)儀器
XLS10.150D激光模切機(jī),美國亞力桑那Univer-sal laser SYstems公司;Nicolet iS10型傅里葉變換紅外光譜(FT-IR)儀,Thermo Scientific公司;In-stron 5566電子拉力機(jī),Instron公司。
1.3激光模切
工藝一:將雙面膠帶輕離型膜撕除,讓膠面裸露到空氣,用激光模切機(jī)切割成半徑為1-10mm的圓形,激光切割產(chǎn)生的煙塵被吸風(fēng)帶走,如圖1所示。
工藝二:雙面膠帶2邊都用離型膜保護(hù),然后用激光模切機(jī)切割成半徑為1mm的圓形,激光切割產(chǎn)生的煙塵被吸風(fēng)帶走,如圖1所示。
1.4測(cè)試或表征
①結(jié)構(gòu)特征:采用ATR儀掃描壓敏膠模切片表面進(jìn)行表征2種掃描方法,一種是掃描半徑不同的壓敏膠模切片中心位置,研究模切過程中煙塵擴(kuò)散范圍對(duì)壓敏膠模切片的性能影響;另一種是固定壓敏膠模切片半徑為10mm,掃描模切片從邊緣到圓心不同位置的譜圖,分析煙塵在不同位置上的分布)。②180°剝離力:采用電子拉力機(jī)進(jìn)行測(cè)試(將膠帶按照工藝一和工藝二的方法用激光模切成長度為4mm×120mm、10mm×120mm和25min×l20mm這3種樣條。對(duì)于工藝一的樣品,測(cè)試裸露面的180°剝離力,對(duì)于工藝二,測(cè)試輕離型膜面180°剝離力。測(cè)試時(shí)將膠面貼合到干凈的不銹鋼板上,再貼合50um的PET膜做背材,2.5kg重滾輪來回壓合一次,室溫放置30min后測(cè)試,剝離速度為304mm/min。每種樣條測(cè)試5次取平均值,并且與未模切的樣品進(jìn)行對(duì)比)。
2 結(jié)果分析
2.1離型膜保護(hù)層的影響
與刀模模切工藝不同,激光模切可以直接切割裸露的壓敏膠,也可以切割帶離型膜保護(hù)層的膠帶,具體選擇哪種切割方式,取決于模切件結(jié)構(gòu)的復(fù)雜程度和出貨要求。本研究首先比較了激光模切工藝一和工藝二對(duì)壓敏膠表面成分的影響,結(jié)果如圖2所示。圖2顯示了半徑為1mm的壓敏膠圓片中心位置的ATR圖譜。由圖2可知:未模切的壓敏膠是典型的丁苯橡膠基材料,由于不含有酯基,所以在1700-1800cm-1處沒有明顯強(qiáng)特征吸收峰;而在1730cm-1處只有非常弱的特征吸收峰,其主要來自添加劑。工藝一激光模切的壓敏膠圓片,其圓心位置在1730cm-1和1700cm-1處出現(xiàn)2個(gè)明顯的吸收峰,此對(duì)應(yīng)于不同結(jié)構(gòu)上的C=O基;另在1286cm-1、1260cm-1、1140cm-1和1100cm-1處也出現(xiàn)了強(qiáng)特征吸收峰,說明壓敏膠表面出現(xiàn)了酯基和羧基。這主要是因?yàn)閴好裟z在激光切割過程中燃燒產(chǎn)生的氧化反應(yīng),氧化降解產(chǎn)物含有酯基和羧基,它們部分被壓敏膠表面吸附。工藝二中,壓敏膠表面有一層離型膜保護(hù)層,所以激光切割過程中產(chǎn)生的氧化降解產(chǎn)物無法被吸附到壓敏膠表面,因而其ATR光譜和未切割前的壓敏膠是一樣的。將工藝一壓敏膠模切片表面刮去薄薄一層,然后再掃描ATR,結(jié)果發(fā)現(xiàn),內(nèi)層膠ATR和未切割前的一樣,說明氧化產(chǎn)物并未滲透整個(gè)膠層,只是在壓敏膠表面。
2.2壓敏膠模切片氧化產(chǎn)物的分布
從2.1中可以看出,裸露膠層進(jìn)行激光模切,有氧化降解產(chǎn)物被吸附到壓敏膠表面。但在實(shí)際應(yīng)用中,裸露膠層激光模切又是不可避免的,激光模切產(chǎn)生的燃燒氧化產(chǎn)物對(duì)膠面影響范圍是非常值得研究的。以不同半徑的激光模切壓敏膠圓片為研究對(duì)象,采用ATR掃描其中心位置的圖譜,結(jié)果如圖3所示。
由圖3可知:半徑為2mm裸露模切圓片中心位置在1730cm-1處有明顯的C=O特征吸收峰,并且在1260cm-1、1140cm-1和1100m-1處也存在明顯的C~O伸縮振動(dòng)特征吸收峰,這說明半徑2mm模切圓片中心位置吸附了激光燃燒產(chǎn)生的氧化降解產(chǎn)物。而半徑為5mm和10mm的裸露模切圓片中心位置并沒有明顯氧化降解產(chǎn)物的ATR特征吸收峰,說明壓敏膠膠面吸附氧化降解產(chǎn)物與模切件尺寸存在重要關(guān)系。
為了進(jìn)一步了解氧化降解產(chǎn)物在壓敏膠表面的分布,本研究選取了半徑為10mm的激光模切壓敏膠圓片為研究對(duì)象,在離圓邊緣2mm(B處)、5mm(A處)和10mm(圓心O處)位置(如圖4所示)進(jìn)行ATR掃描,結(jié)果如圖5所示。
由圖5可知:靠近邊緣處2mm(B處)的位置,還是有降解的氧化物之明顯特征吸收峰,但是在離邊緣切割線5mm(A處)和10mm(圓心O)處,已經(jīng)看不到氧化物的特征吸收峰,壓敏膠面幾乎沒有被污染,壓敏膠的性能也不會(huì)受到影響。激光模切產(chǎn)生膠層降解氧化物主要位于切割線邊緣2mm的范圍內(nèi),離切割線較遠(yuǎn)的區(qū)域并沒有受到影響。
2.3裸露激光模切對(duì)粘性的影響
由ATR圖譜分析結(jié)果可知:將膠帶裸露進(jìn)行激光模切,模切件邊緣2mm以內(nèi)會(huì)有明顯的吸收降解氧化產(chǎn)物,這些氧化產(chǎn)物位于膠帶的表層,這會(huì)給膠帶粘性帶來影響,不同尺寸的長方形模切樣條粘性如圖6所示。由圖6可知:工藝一激光模切4mm寬裸露膠帶樣條的粘性只有1.22N/mm,比未模切的空白樣1.79N/mm要低得多;隨著裸露膠帶模切片寬度的增加,模切片邊緣影響減弱,當(dāng)模切片寬度達(dá)到25mm時(shí),其粘性接近空白樣品。工藝二模切時(shí),由于有離型膜保護(hù)層,壓敏膠表面并未受到污染,所以粘性和未模切的樣品比較接近。
3 結(jié)論
采用激光模切壓敏膠時(shí),壓敏膠因激光燃燒會(huì)產(chǎn)生氧化降解產(chǎn)物,這容易被吸附到裸露的壓敏膠切割線邊緣的表面,并且會(huì)引起膠帶粘性的明顯下降。在電子行業(yè)中,由于壓敏膠模切片的尺寸或者實(shí)際寬度較窄,比如只有1-3mm,故壓敏膠激光模切片較容易出現(xiàn)粘性降低。因此,電子行業(yè)中采用激光模切壓敏膠時(shí),壓敏膠表面建議貼合一層保護(hù)層,避免激光燃燒膠層產(chǎn)生的氧化降解產(chǎn)物污染膠層表面。