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Si原子轟擊石墨烯形成取代結(jié)構(gòu)的帶隙研究

2019-10-24 01:16:24張晉敏
關(guān)鍵詞:帶隙結(jié)構(gòu)圖能帶

陳 瑞,張晉敏*,賀 騰,陳 立,謝 泉

(1.貴州大學(xué) 大數(shù)據(jù)與信息工程學(xué)院,貴州 貴陽 550025; 2.貴州大學(xué) 光電子材料與技術(shù)研究所,貴州 貴陽 550025)

石墨烯具有優(yōu)秀的電學(xué)性質(zhì)和機(jī)械性能,因此石墨烯成為后摩爾時代替代Si的候選材料之一。但是想要成功替代Si成為未來的微電子材料,還需要深入研究其帶隙問題,因為本征石墨烯的能帶交疊,是零帶隙材料,無法在半導(dǎo)體領(lǐng)域直接應(yīng)用。因此,目前研究領(lǐng)域的熱點之一就是如何打開和調(diào)控石墨烯的帶隙。

打開石墨烯帶隙方法主要有:1)吸附或摻雜其他元素。如:溴摻雜石墨烯[1],硼摻雜石墨烯[2];2)利用對稱性破缺,通過破壞雙層石墨烯的對稱性實現(xiàn)帶隙的打開[3];3)利用量子限制效應(yīng)和邊緣效應(yīng),通過制作特殊的石墨烯納米結(jié)構(gòu)來形成帶隙[3];4)其他方式,如襯底調(diào)控、應(yīng)力調(diào)控等。如:石墨烯形變和缺陷[4],應(yīng)力和張應(yīng)力作用下的石墨烯[5-6]。

本文采用Si原子轟擊石墨烯形成取代結(jié)構(gòu)的方法研究其帶隙性質(zhì)。

1 Si原子轟擊石墨烯取代結(jié)構(gòu)的形成

1.1 原理及方法

石墨烯中的C原子被Si原子取代的原理是通過原子轟擊,即賦予Si原子一定的初始速度,以單層石墨烯作為受體轟擊,這個過程會隨著初始速度的不同產(chǎn)生不同的結(jié)構(gòu)。一般會出現(xiàn)如吸附、取代、和缺陷結(jié)構(gòu)。

在xy方向上選取周期性邊界條件,z方向選取自由邊界條件,時間步長選取為0.001 fs以便使整個轟擊過程都有足夠時間反應(yīng)[7-8]。采用Berendsen控溫方法使體系從20 K升溫至300 K,升溫時間為100 fs;然后保持溫度在300 K下弛豫100 fs,在此條件下系統(tǒng)達(dá)到平衡狀態(tài)。最后在NVE系綜下,給Si原子沿著-z方向一個初始速度使其轟擊Si原子對應(yīng)在xy平面上投影處的C原子。

(a)轟擊模型xy方向投影 (b)轟擊模型xz方向投影

圖1 Si原子轟擊石墨烯
Fig.1 Bombarding graphene with Si atom

1.2 模擬結(jié)果

單個Si原子以不同初速度轟擊石墨烯時得到如下結(jié)論:

(1)當(dāng)速度為0~153 ?/fs時,Si原子被吸收。如圖2(a)所示;

(3)當(dāng)速度為170~589 ?/fs時,Si原子完全取代C原子,被轟擊的C原子遠(yuǎn)離石墨烯。如圖2(c)所示;

(5)當(dāng)速度為598 ?/fs 以上時,被轟擊處形成空缺。Si原子遠(yuǎn)離石墨烯。如圖2(e)所示。

圖2 單個Si原子以不同初速度轟擊石墨烯的取代結(jié)構(gòu)變化
Fig.2 Substitutional structure changes of graphene bombarded by a single Si atom at different initial velocities

模擬結(jié)果表明,當(dāng)Si原子速度在170~589 ?/fs區(qū)間時,可以得到石墨烯基的取代結(jié)構(gòu)。通過多次模擬實驗,如果選擇的速度過大,就會由于Si原子的動能過大,導(dǎo)致取代結(jié)構(gòu)形成以后對石墨烯本身結(jié)構(gòu)破壞比較大。因此,為了保證石墨烯基的取代結(jié)構(gòu)的相對穩(wěn)定,選擇了速度為200 ?/fs時形成的取代結(jié)構(gòu)。與上述條件相同的狀態(tài)下,分別用2~5個Si原子以速度為200 ?/fs轟擊石墨烯形成對應(yīng)的取代結(jié)構(gòu)。

2 Si原子轟擊石墨烯取代結(jié)構(gòu)的能帶結(jié)構(gòu)和分析

2.1 取代結(jié)構(gòu)的模型與計算方法

通過lammps軟件包的計算,得到的模型導(dǎo)入到MS。如圖3所示:

圖3 不同數(shù)目Si原子轟擊石墨烯取代結(jié)構(gòu)圖
Fig.3 Different number of Si atoms bombarded graphene substitution structure diagram

由基于密度泛函理論(density functional theory, DFT)的第一性原理贗勢平面波方法[10-12]對Si原子轟擊石墨烯取代結(jié)構(gòu)的能帶結(jié)構(gòu)進(jìn)行計算和分析。采用MS中的CASTEP模塊來完成幾何優(yōu)化以及能帶結(jié)構(gòu)的計算。為了使體系的結(jié)構(gòu)更加穩(wěn)定同時使取代結(jié)構(gòu)模型接近實際結(jié)構(gòu),首先采用BFGS算法[13]對取代結(jié)構(gòu)模型進(jìn)行結(jié)構(gòu)優(yōu)化,再計算其能帶結(jié)構(gòu)。設(shè)定平面波截斷能量Ecut為400 eV,采用廣義梯度近似(GGA)下的Perdew Burke Ernzerhof[14]處理其電子間相互作用的交換關(guān)聯(lián)能。迭代收斂判據(jù)SCF tolerance為5.0×10-7eV/atom,電子與離子間的作用則用USPP (ultra soft pseudo-potentials)[15]計算。迭代次數(shù)設(shè)置為500次,以保證在絕對的收斂條件下得到穩(wěn)定的結(jié)構(gòu)。

2.2 取代結(jié)構(gòu)的能帶結(jié)構(gòu)

對Si原子轟擊石墨烯取代結(jié)構(gòu)的能帶結(jié)構(gòu)進(jìn)行計算(取費(fèi)米面所在的能級為0 eV),石墨烯本身結(jié)構(gòu)的計算得到的能帶結(jié)構(gòu)圖中,費(fèi)米面附近兩個能帶交疊,如圖4中(a)所示,因此,石墨烯的帶隙為零;用不同數(shù)目的Si原子轟擊石墨烯所得取代結(jié)構(gòu)的能帶結(jié)構(gòu)圖有帶隙,如圖4(b)~(f)所示,但打開的帶隙不夠明顯,因此,從能帶結(jié)構(gòu)圖數(shù)據(jù)中提取了導(dǎo)帶底和價帶頂能量,通過計算得到禁帶寬度Eg,如表1所示。Si原子個數(shù)從1~5轟擊后取代結(jié)構(gòu)的帶隙值Eg分別為:Eg1=0.08144 eV;Eg2=0.11719 eV;Eg3=0.07156 eV;Eg4=0.07202 eV;Eg5=0.11516 eV。

圖4 0~5個Si原子轟擊石墨烯取代結(jié)構(gòu)的能帶圖
Fig.4 Energy band diagram of 0~5 Si atoms bombarding graphene substitution structure

表1 不同Si原子數(shù)取代結(jié)構(gòu)的能帶數(shù)據(jù) Tab.1 Band data of different Si atom number substitution structures

在結(jié)構(gòu)優(yōu)化的基礎(chǔ)上,利用了GGA+USPP的方法[16]計算了取代結(jié)構(gòu)的電子結(jié)構(gòu)。石墨烯的能帶結(jié)構(gòu)是來源于1個s電子和2個p電子的sp2雜化,Si原子轟擊取代以后,由于Si原子占據(jù)原來的C原子位置導(dǎo)致這種sp2雜化結(jié)構(gòu)被破壞,使得石墨烯本征結(jié)構(gòu)被改變,帶隙被打開。從上述表1可以得出4個Si原子取代結(jié)構(gòu)的能帶結(jié)構(gòu)導(dǎo)帶底和價帶頂?shù)牟ㄊ竗相同都為0.56555,因此他們具有相同的動量,電子躍遷時不發(fā)生動量的改變,只需要發(fā)生能量的改變,這種情形更容易發(fā)生電子躍遷,表現(xiàn)出直接帶隙半導(dǎo)體特征。Si原子數(shù)為1、2、3、5時,取代結(jié)構(gòu)的能帶結(jié)構(gòu)導(dǎo)帶底和價帶頂?shù)牟ㄊ竗值不相同,所以在電子躍遷過程會產(chǎn)生動量的變化,有聲子參與屬于間接躍遷,因此,這幾種結(jié)構(gòu)表現(xiàn)出間接帶隙半導(dǎo)體特征。

3 結(jié)論

本文研究了石墨烯和Si原子轟擊石墨烯形成取代結(jié)構(gòu)的模擬過程以及能帶結(jié)構(gòu)。從模擬和計算結(jié)果,可以得出以下結(jié)論:

(1)不同初速度的Si原子轟擊石墨烯可以得到不同的取代結(jié)構(gòu),其中包括吸收、取代、透射;

(2)通過MS計算并驗證了石墨烯本身具有零帶隙特性;

(3)通過Si原子轟擊石墨烯形成取代結(jié)構(gòu)打開了石墨烯的帶隙,但是這幾種取代結(jié)構(gòu)中,4個Si原子的取代結(jié)構(gòu)是直接帶隙,其它幾種結(jié)構(gòu)是間接帶隙;

通過本文的研究,發(fā)現(xiàn)通過Si原子轟擊石墨烯可以解決石墨烯零帶隙的問題,為打開石墨烯零帶隙提供了一種新的研究方法,但是從結(jié)果分析目前還不能精準(zhǔn)調(diào)控取代結(jié)構(gòu)的直接帶隙或間接帶隙性質(zhì)。

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