一、前言

我國經(jīng)濟(jì)建設(shè)飛速發(fā)展，經(jīng)濟(jì)總體規(guī)模已居于世界第二位?！秾＠ā穼?shí)施以來，國家在技術(shù)創(chuàng)新上也已取得驕人的成績。專利制度已成為激發(fā)技術(shù)創(chuàng)新活力的重要保障。在經(jīng)濟(jì)學(xué)界，學(xué)者們圍繞專利制度與技術(shù)創(chuàng)新展開了諸多理論研究和實(shí)證分析。我們不禁要探究，專利制度與技術(shù)創(chuàng)新的關(guān)系是什么，專利制度保護(hù)如何影響技術(shù)創(chuàng)新。因此，本文圍繞專利制度對技術(shù)創(chuàng)新影響的機(jī)制與路徑展開分析。

二、文獻(xiàn)回顧

專利權(quán)是一種無形財(cái)產(chǎn)權(quán)，具有獨(dú)占性特征。關(guān)于專利制度對技術(shù)創(chuàng)新影響的研究，學(xué)者們并未形成一致，主要存在 “正面促進(jìn)論”“負(fù)面抑制論”和“雙重影響論”等三種觀點(diǎn)。

持“正面促進(jìn)論”的學(xué)者認(rèn)為，專利制度能有效促進(jìn)技術(shù)創(chuàng)新水平的提升。諾斯認(rèn)為，專利制度能夠保障發(fā)明者獲得一定時間的壟斷利益，防止他人“搭便車”行為，專利權(quán)人可以通過制度來遏制、制裁惡意仿冒、直接免費(fèi)利用專利的侵權(quán)行為，能夠刺激發(fā)明者的積極性，使技術(shù)創(chuàng)新活動走向良性發(fā)展。[1]鄒薇（2002）建立創(chuàng)新者與跟隨者的連續(xù)博弈模型，以探討競爭市場中專利制度對產(chǎn)業(yè)技術(shù)創(chuàng)新的影響，認(rèn)為技術(shù)后進(jìn)國家應(yīng)強(qiáng)化專利保護(hù)，形成符合國際規(guī)則的專利制度體系，以有效促進(jìn)該國的技術(shù)創(chuàng)新發(fā)展[2]。

但另一部分學(xué)者持“負(fù)面抑制論”的觀點(diǎn)，他們認(rèn)為，加強(qiáng)專利制度保護(hù)不利于技術(shù)創(chuàng)新的發(fā)展。Deardorff（1992）在靜態(tài)局部均衡分析中使用一個簡單專利保護(hù)模型，研究了將知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)推廣到其他各國時可能產(chǎn)生的不利影響;他指出加強(qiáng)知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)會激勵創(chuàng)新，使得知識產(chǎn)權(quán)人獲得新產(chǎn)品上的壟斷利潤，但另一方面，壟斷價格也會使消費(fèi)者剩余受到損失，扭曲消費(fèi)者選擇[3]。韓玉雄等（2003）構(gòu)建內(nèi)生增長的技術(shù)擴(kuò)散模型，認(rèn)為加強(qiáng)跟隨國知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)力度，將對領(lǐng)先國的技術(shù)創(chuàng)新和跟隨國的技術(shù)模仿均會產(chǎn)生負(fù)面作用[4]。

“雙重影響論”學(xué)者認(rèn)為，專利制度與技術(shù)創(chuàng)新之間存在復(fù)雜的、非線性關(guān)系，過強(qiáng)或過弱的專利制度保護(hù)都會阻礙技術(shù)創(chuàng)新，因此，專利制度保護(hù)的水平需要保持在一個適度的水平。易先忠等（2007）對1987-2004年間中國的相關(guān)數(shù)據(jù)進(jìn)行實(shí)證分析，研究發(fā)現(xiàn)我國的技術(shù)進(jìn)步以模仿國外技術(shù)為主，提升知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)強(qiáng)度將抑制技術(shù)模仿，從而不利于提升我國的整體技術(shù)水平。當(dāng)我國技術(shù)水平提升到一定的層次后，通過技術(shù)模仿提升技術(shù)整體水平的效應(yīng)將降低，此時，提升知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)強(qiáng)度將促進(jìn)技術(shù)自主創(chuàng)新[5]。

三、專利制度對技術(shù)創(chuàng)新的作用機(jī)制

許多國家建立了知識產(chǎn)權(quán)國家戰(zhàn)略，提升知識產(chǎn)權(quán)創(chuàng)造、運(yùn)用、保護(hù)和管理能力，以實(shí)現(xiàn)建設(shè)創(chuàng)新型國家和促進(jìn)經(jīng)濟(jì)增長的目標(biāo)。專利制度對技術(shù)創(chuàng)新產(chǎn)生的作用主要體現(xiàn)在激勵、配置、調(diào)節(jié)和保障等四個方面。

（一）對技術(shù)創(chuàng)新的激勵作用

激勵作用是專利制度對技術(shù)創(chuàng)新最典型的作用。專利制度能夠激勵企業(yè)創(chuàng)新的根本原因是利益的驅(qū)動，對技術(shù)創(chuàng)新的產(chǎn)權(quán)保護(hù)，可以將創(chuàng)新所溢出的外部效應(yīng)在市場關(guān)系中內(nèi)化，使企業(yè)投資于技術(shù)創(chuàng)新所得到的私人收益率提升，同時，這也能夠刺激企業(yè)持續(xù)不斷地投資于智力創(chuàng)造活動，進(jìn)而實(shí)現(xiàn)新知識的積累和技術(shù)進(jìn)步。企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新成果具有稀缺、易被傳播和復(fù)制等特點(diǎn)，在缺乏法律保護(hù)的情況下，很容易被他人低成本的模仿或“搭便車”。專利制度能有效彌補(bǔ)這一不足。專利制度可通過法律形式保護(hù)技術(shù)發(fā)明創(chuàng)造者的專利權(quán)，使得他們能在一定時期內(nèi)擁有技術(shù)壟斷權(quán)，他人如需使用該專利權(quán)，必須向?qū)＠麢?quán)人付費(fèi)或經(jīng)得同意。企業(yè)必然會投入更多的資金用于技術(shù)創(chuàng)新，企業(yè)在技術(shù)創(chuàng)新上的努力既可使自身獲得經(jīng)濟(jì)利益，同時，也能提升國家整體的技術(shù)創(chuàng)新實(shí)力，從而有效地促進(jìn)經(jīng)濟(jì)增長。

（二）對技術(shù)創(chuàng)新的配置作用

對整個社會來說，受專利制度保護(hù)的技術(shù)創(chuàng)新成果屬于稀缺的資源，如果不能高效地對其加以轉(zhuǎn)化和利用，將會形成巨大的資源浪費(fèi)。專利制度是商品經(jīng)濟(jì)發(fā)展到一定階段的產(chǎn)物，專利交易制度為專利技術(shù)成果的廣泛傳播與利用提供了制度框架，從資源配置角度為其提供了解決途徑。在專利制度中，對專利權(quán)的產(chǎn)權(quán)交易制度為專利交易提供便捷的流程，主要有專利授權(quán)使用、專利法定許可、專利強(qiáng)制許可和專利合理使用等制度。此外，專利公開制度能使專利權(quán)人之外的其他主體能快速了解專利的權(quán)利內(nèi)容，有效地促進(jìn)了專利技術(shù)信息的傳播。通過公開的專利技術(shù)信息，他人也可迅速獲知技術(shù)創(chuàng)新的方向，在前人的專利基礎(chǔ)之上再度投入技術(shù)研發(fā)資源，以不斷地提高專利技術(shù)的創(chuàng)造水平;還可站在巨人肩膀上，減少不必要的、重復(fù)技術(shù)創(chuàng)新，有效地節(jié)約技術(shù)創(chuàng)新資源，使資源得到最優(yōu)化的配置。

（三）對技術(shù)創(chuàng)新的調(diào)節(jié)作用

技術(shù)創(chuàng)新離不開社會的技術(shù)知識存量積累，均需要在前人的基礎(chǔ)上進(jìn)行繼承與創(chuàng)新。因此，各國專利制度并不是一味單純地保護(hù)專利權(quán)人的利益，而是通過構(gòu)建個體利益與社會公共利益的調(diào)節(jié)平衡機(jī)制。專利制度中的產(chǎn)權(quán)限制是對專利權(quán)人的專有權(quán)利行使的限制，以平衡權(quán)利人與社會公眾之間的利益，實(shí)現(xiàn)專利權(quán)人利益和社會公共利益的均衡保護(hù)。因而，從這個意義上看，專利權(quán)利限制可視為建立在理性人假設(shè)基礎(chǔ)上的一種利益驅(qū)動機(jī)制，適度的專利權(quán)權(quán)利限制既能為專利技術(shù)提供源動力，又能促進(jìn)專利技術(shù)的傳播與運(yùn)用，從而最大限度地利于實(shí)現(xiàn)專利權(quán)制度的目的。

（四）對技術(shù)創(chuàng)新的保障作用

技術(shù)發(fā)明信息一旦對社會公布，最初的發(fā)明者很難對其進(jìn)行獨(dú)占性控制，因?yàn)槠渌丝梢栽讷@取該知識產(chǎn)品并進(jìn)行使用。正因?yàn)榧夹g(shù)發(fā)明的上述特征，將使得技術(shù)發(fā)明產(chǎn)生經(jīng)濟(jì)學(xué)上的“外部性”和“搭便車”效應(yīng)。專利制度保護(hù)的是技術(shù)發(fā)明，并通過法律的形式使得專利權(quán)人擁有壟斷性的權(quán)利。專利制度也為市場參與者構(gòu)建了一個公平競爭環(huán)境，一旦出現(xiàn)侵犯專利權(quán)的行為，就會受到專利行政執(zhí)法機(jī)關(guān)的懲處，這樣就為企業(yè)從事技術(shù)創(chuàng)新提供了制度保障。專利制度給予人們從事技術(shù)創(chuàng)新活動中必須共同遵守的行為準(zhǔn)則，進(jìn)而形成一個規(guī)范和保護(hù)機(jī)制。根據(jù)專利法律制度保護(hù)專利權(quán)，就是維護(hù)公平良性的市場競爭環(huán)境，保障技術(shù)創(chuàng)新者的合法利益，才能提升整個社會的技術(shù)創(chuàng)新能力和水平。

四、專利制度對技術(shù)創(chuàng)新影響的維度

1、專利長度

專利長度又稱專利保護(hù)期限，是指一國的專利行政管理機(jī)關(guān)依法授予給專利權(quán)人獨(dú)占其技術(shù)創(chuàng)新市場收益的期限。專利長度是影響企業(yè)技術(shù)創(chuàng)新投入和競爭的重要指標(biāo)。專利長度制度已成為解決技術(shù)創(chuàng)新發(fā)明人利益與社會利益之間關(guān)系的、最直接的量化工具。企業(yè)在技術(shù)創(chuàng)新中，如果只是一味的付出技術(shù)創(chuàng)新投入，而沒有預(yù)期的收益回報(bào)，那么，該企業(yè)從事研發(fā)投入的意愿將大大降低。專利長度制度恰好可成為平衡社會與個人利益的一個調(diào)節(jié)器，它通過賦予技術(shù)創(chuàng)新發(fā)明人一定時間的壟斷權(quán)來保護(hù)專利權(quán)人的利益，以激勵其研發(fā)創(chuàng)新。同時，專利長度制度又規(guī)定專利長度不可能無限期，因此，該制度可反過來使得社會公眾有機(jī)會利用專利權(quán)人的技術(shù)，這無疑促進(jìn)了社會資源的合理利用。

2、專利寬度

專利寬度是調(diào)整創(chuàng)新企業(yè)與模仿者在同一技術(shù)水平上技術(shù)空間的利益。專利寬度制度包括界定專利權(quán)的保護(hù)范圍和制約專利技術(shù)模仿行為等兩個方面的機(jī)制。研究專利寬度的學(xué)者Gilbert等（1990）認(rèn)為，專利寬度是專利長度內(nèi)專利權(quán)人獲得的利潤總流量，應(yīng)選擇適當(dāng)?shù)膶＠L度與寬度，使得社會福利最大化[6]。由于存在專利寬度，可減少模仿產(chǎn)品對專利產(chǎn)品的損害，促使專利權(quán)人在市場中獲得更多的經(jīng)濟(jì)利潤。專利寬度制度的存在，將促使模仿者投入更多的研發(fā)成本和采用迂回或繞過發(fā)明技術(shù)的方法來獲得不侵犯專利權(quán)的技術(shù)。此外，模仿者如果侵犯創(chuàng)新者的專利權(quán)，擁有專利權(quán)的創(chuàng)新者往往會通過法院提起專利權(quán)侵權(quán)訴訟，模仿者將不得不支付高額的經(jīng)濟(jì)賠償。專利寬度也將通過專利訴訟增加模仿者成本和風(fēng)險，保護(hù)專利權(quán)人的利益。

3、專利高度

目前，世界各主要國家專利法規(guī)定，專利技術(shù)應(yīng)具備新穎性和創(chuàng)造性后方可申請獲得專利權(quán)，其中，新穎性與創(chuàng)造性就是用來判斷原創(chuàng)者與改進(jìn)者之間專利高度的兩個原則。專利高度的概念最早由Van Dijk（1996）提出[7]，“專利寬度對模仿專利產(chǎn)品的行為進(jìn)行了界定。通過界定最大限度差別產(chǎn)品的種類，可以區(qū)分哪些是可以被模仿的。專利高度，則界定了對產(chǎn)品進(jìn)行質(zhì)量改進(jìn)所必須具備的、距離原產(chǎn)品特征最小的改進(jìn)程度”。設(shè)置專利高度制度，將促使產(chǎn)品技術(shù)水平提升，產(chǎn)品功能增強(qiáng)，產(chǎn)品質(zhì)量得到改善。當(dāng)這些得到改進(jìn)的產(chǎn)品與原有專利產(chǎn)品競爭時，改進(jìn)產(chǎn)品將憑借技術(shù)、質(zhì)量和功能的特點(diǎn)處于優(yōu)越的地位，從而體現(xiàn)出較強(qiáng)的產(chǎn)品競爭能力。設(shè)置合理的專利高度，可促使專利權(quán)人在專利長度內(nèi)容，享有合理的技術(shù)壟斷權(quán)及相應(yīng)的經(jīng)濟(jì)回報(bào)，維護(hù)了專利權(quán)人的利益。

五、專利制度對技術(shù)創(chuàng)新影響的路徑

按創(chuàng)新模式的不同，技術(shù)創(chuàng)新分為自主技術(shù)創(chuàng)新和模仿技術(shù)創(chuàng)新兩種方式。專利制度對這兩種技術(shù)創(chuàng)新方式均會產(chǎn)生影響，下文將展開分析。

（一）對國內(nèi)自主技術(shù)創(chuàng)新的影響

技術(shù)創(chuàng)新是技術(shù)研究立項(xiàng)、產(chǎn)品開發(fā)、產(chǎn)品推廣銷售在時空條件下的連續(xù)發(fā)展過程。在技術(shù)研究立項(xiàng)中，專利文獻(xiàn)能起到非常重要的作用，檢索專利文獻(xiàn)可避免重復(fù)研究，提高科研起點(diǎn)，加快科研速度。企業(yè)在產(chǎn)品技術(shù)研發(fā)階段，往往需要對該產(chǎn)品相關(guān)的技術(shù)進(jìn)行專利文獻(xiàn)檢索，專利文獻(xiàn)信息可為研發(fā)者提供當(dāng)前技術(shù)發(fā)展的重點(diǎn)、趨勢及應(yīng)用情況。企業(yè)可以在檢索專利文獻(xiàn)后充分認(rèn)識競爭對手在相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域所處的位置，分析自身的優(yōu)勢與不足，以便后續(xù)有針對性地采取技術(shù)措施，從而在技術(shù)競爭上謀求優(yōu)勢地位。此外，專利文獻(xiàn)可反映相關(guān)技術(shù)領(lǐng)域的創(chuàng)新發(fā)展趨勢與動態(tài)。

在創(chuàng)新產(chǎn)品開發(fā)階段，專利制度能發(fā)揮很重要的作用。技術(shù)創(chuàng)新者應(yīng)該有較強(qiáng)的專利保護(hù)意識，需及時將技術(shù)發(fā)明成果申請專利保護(hù)，以便確保自身的技術(shù)創(chuàng)新投入能得到法律上的認(rèn)可和保護(hù)，以便為后續(xù)產(chǎn)品設(shè)計(jì)、制造和銷售奠定堅(jiān)實(shí)的法律權(quán)利基礎(chǔ)。企業(yè)獲取專利情報(bào)可盡可能保障產(chǎn)品開發(fā)的方向正確，并進(jìn)一步拓展開發(fā)思路，解決產(chǎn)品開發(fā)過程終于到的技術(shù)難題，提升開發(fā)效率。為保護(hù)自身合法權(quán)益，企業(yè)需要及時對自身產(chǎn)品開發(fā)的成果申請專利保護(hù)，將自己技術(shù)創(chuàng)新成果予以產(chǎn)權(quán)化，避免他人侵犯自身的專利權(quán)。

在技術(shù)研究立項(xiàng)及產(chǎn)品開發(fā)完成后，企業(yè)需要將技術(shù)成果及時進(jìn)行商業(yè)化，并且將技術(shù)創(chuàng)新成果進(jìn)行擴(kuò)散和傳播，此時，必然涉及到諸多專利問題。企業(yè)如果要在新產(chǎn)品競爭中占有比較大的市場份額，就需要考慮及時將自己的創(chuàng)新產(chǎn)品及技術(shù)申請專利保護(hù)，以促使產(chǎn)品在未來市場上擁有堅(jiān)實(shí)的法律權(quán)利基礎(chǔ)。企業(yè)不單只自己需要考慮申請專利保護(hù)，還需要防止他人侵犯自身的專利權(quán)，此時，應(yīng)采取有效措施監(jiān)測市場上是否有競爭對手在未經(jīng)授權(quán)使用自己的專利。一旦發(fā)現(xiàn)他人實(shí)施了非法的專利侵權(quán)行為，技術(shù)創(chuàng)新企業(yè)應(yīng)及時通過法律途徑保護(hù)自己的專利權(quán)。

（二）對國際技術(shù)轉(zhuǎn)移的影響

國際技術(shù)轉(zhuǎn)移主要有外商直接投資（FDI）、國際商品貿(mào)易、技術(shù)引進(jìn)三種。在外商直接投資過程中，發(fā)達(dá)國家企業(yè)往往擁有先進(jìn)的技術(shù)優(yōu)勢，其資本進(jìn)入國內(nèi)后，國內(nèi)企業(yè)將面臨空前的競爭壓力，其不得不增加研發(fā)投入，提升自身的技術(shù)創(chuàng)新水平和核心競爭力。發(fā)達(dá)國家投資者在選擇投資目的地時，出于保護(hù)自身知識產(chǎn)權(quán)需要，往往會將當(dāng)?shù)氐膶＠Ｗo(hù)制度及水平作為重要的考量因素。專利保護(hù)水平對FDI流入的規(guī)模和質(zhì)量產(chǎn)生重要的影響，F(xiàn)DI技術(shù)溢出效應(yīng)變化，也會進(jìn)一步影響外資流入國的模仿技術(shù)創(chuàng)新能力。外資流入國提高專利保護(hù)水平，將強(qiáng)化國外投資者的技術(shù)競爭優(yōu)勢，為外商投資提供良好的技術(shù)法律保護(hù)環(huán)境，進(jìn)而對FDI的流入量具有積極影響。

在國際商品貿(mào)易過程中，一國為尋求貿(mào)易比較優(yōu)勢，會通過增強(qiáng)技術(shù)創(chuàng)新來促進(jìn)貿(mào)易量的增加。與發(fā)達(dá)國家進(jìn)行商品貿(mào)易時，發(fā)展中國家可獲得國外技術(shù)含量比較高的商品，也有機(jī)會接觸或參與發(fā)達(dá)國家的商品價值鏈，從而進(jìn)一步深化發(fā)展本國的勞動分工和技術(shù)創(chuàng)新。專利制度對發(fā)展中國家進(jìn)口商品貿(mào)易中的技術(shù)溢出產(chǎn)生影響，進(jìn)而間接對該國的技術(shù)創(chuàng)新能力和水平產(chǎn)生作用。發(fā)展中國家提高專利保護(hù)的標(biāo)準(zhǔn)，將對發(fā)達(dá)國家出口商技術(shù)含量比較高的商品或服務(wù)提供高標(biāo)準(zhǔn)的專利保護(hù)，促使出口商能更好地維持技術(shù)壟斷性優(yōu)勢，進(jìn)而獲得更多的經(jīng)濟(jì)利潤。由于進(jìn)口國企業(yè)在本國專利保護(hù)標(biāo)準(zhǔn)提高的情況下，其模仿成果將進(jìn)一步增加，進(jìn)口國企業(yè)為在競爭中獲得優(yōu)勢地位，其很可能會增加研發(fā)投資，不斷增進(jìn)自主技術(shù)創(chuàng)新的能力和水平。

在國際技術(shù)貿(mào)易中，發(fā)展中國家引進(jìn)的技術(shù)往往包括直接引進(jìn)的專利技術(shù)方案等資料，發(fā)展中國家企業(yè)通過對上述先進(jìn)技術(shù)的使用、消化和吸收，會直接促進(jìn)該國技術(shù)創(chuàng)新能力的提升。完善的專利制度能為國際技術(shù)貿(mào)易創(chuàng)造良好的環(huán)境，并提供法律保障。專利制度完善程度及保護(hù)水平，對國際技術(shù)貿(mào)易能否有序順利進(jìn)行產(chǎn)生重要影響。發(fā)展中國家提升專利保護(hù)水平，將強(qiáng)化保護(hù)技術(shù)輸出國的技術(shù)壟斷優(yōu)勢，降低技術(shù)輸出國的被非法模仿和復(fù)制風(fēng)險，從而促進(jìn)了技術(shù)輸出的順利進(jìn)行。對技術(shù)出口國來說，其可提高技術(shù)輸出的收入和利潤，這將促使更多的資源可投入到持續(xù)的技術(shù)創(chuàng)新活動中。

六、結(jié)語

在經(jīng)濟(jì)與科技國際競爭日趨激烈的今天，不論是加強(qiáng)國際競爭力，還是促進(jìn)國內(nèi)經(jīng)濟(jì)增長，技術(shù)創(chuàng)新都是一國重要的戰(zhàn)略選擇。然而，僅有技術(shù)創(chuàng)新成果并不夠，只有重視并利用好專利制度，把技術(shù)創(chuàng)新成果轉(zhuǎn)化為現(xiàn)實(shí)的生產(chǎn)力，才能充分發(fā)揮技術(shù)創(chuàng)新的巨大作用。我國專利制度發(fā)展時間尚短，準(zhǔn)備把握好專利制度對技術(shù)創(chuàng)新的機(jī)制與路徑，能為我國更好地促進(jìn)經(jīng)濟(jì)增長提供有益的參考。

參考文獻(xiàn)

[1]諾思. 經(jīng)濟(jì)史中的結(jié)構(gòu)和變遷[M].上海人民出版社，1991.

[2]鄒薇.知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)的經(jīng)濟(jì)學(xué)分析[J]. 世界經(jīng)濟(jì)，2002， （2）：3-11.

[3]Deardorff， A. V. Welfare Effects of Global Patent Protection [J]. Economica，1992， 59： 35-51.

[4]韓玉雄，李懷祖.知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)對經(jīng)濟(jì)增長的影響：一個基于垂直創(chuàng)新的技術(shù)擴(kuò)散模型[J].當(dāng)代經(jīng)濟(jì)科學(xué)，2003， 25（2）：33-41.

[5]易先忠，張亞斌，劉智勇.自主創(chuàng)新、國外模仿與后發(fā)國知識產(chǎn)權(quán)保護(hù)[J]. 世界經(jīng)濟(jì)，2007，（3）： 31-40.

[6]Richard Gilbert， Carl Shapiro. Optimal patent Length and breath[J]. Rand journal of Economics，1990，21（1）：106-112.

[7]Van Dijk Theon， Patent Height and Competition in Product Improvements [J]，The Journal of Industrial Economics， 1996， 44（2）： 151-167.

作者簡介：

馮明杰（1980-），男，漢族，湖南省湘潭市，深圳大學(xué)經(jīng)濟(jì)學(xué)院在讀博士生，研究方向：資源與知識產(chǎn)權(quán)。