楊 迎,張 杰
(中國(guó)電子科技集團(tuán)公司第三十八研究所,合肥230088)
頻率合成器是現(xiàn)代電子系統(tǒng)的核心設(shè)備,其頻譜純度、精度、頻率分辨率和變頻時(shí)間等技術(shù)指標(biāo)直接影響整個(gè)電子系統(tǒng)的性能表現(xiàn)。目前,主要的頻率合成技術(shù)有直接模擬頻率合成、鎖相環(huán)(PLL)、直接數(shù)字合成(DDS)等3種方式。直接模擬頻率合成的顯著優(yōu)點(diǎn)是電路原理相對(duì)簡(jiǎn)單,跳頻時(shí)間短,相位噪聲特性好,缺點(diǎn)是功耗、成本、體積較大。PLL則是建立在相位負(fù)反饋的理論基礎(chǔ)之上,用鎖相環(huán)路鎖定壓控振蕩器(VCO),由VCO間接產(chǎn)生所需頻率,其優(yōu)點(diǎn)是頻率穩(wěn)定度高、雜散抑制好、調(diào)試方便,但頻率轉(zhuǎn)換速度慢,且精細(xì)步進(jìn)會(huì)產(chǎn)生相噪的惡化。作為新一代的數(shù)字頻率合成技術(shù),DDS具有變頻時(shí)間短、頻率分辨率高、相對(duì)帶寬寬、可編程、易于單片集成等優(yōu)點(diǎn),缺點(diǎn)是由于D/A時(shí)鐘的限制,其最大輸出頻率較低。[1]采用單一的頻率合成技術(shù)目前難以達(dá)到高速高頻小型化頻率合成器的要求。為此,本文介紹了一種采用直接模擬頻率合成與DDS技術(shù)相結(jié)合的頻率合成方法,實(shí)現(xiàn)了一種S波段捷變頻頻率合成器,其頻率步進(jìn)為5 MHz,跳頻時(shí)間小于2μs,相位噪聲優(yōu)于-119 dBc/Hz@1 kHz,并具有體積小以及輸出信號(hào)頻率、功率可調(diào)的特點(diǎn)。
某系統(tǒng)對(duì)頻率合成器提出的主要技術(shù)指標(biāo)如表1所示。
可以看出,系統(tǒng)要求頻率合成器能實(shí)現(xiàn)S波段的兩種不同頻段信號(hào)輸出,要求其頻率捷變時(shí)間快,且對(duì)相位噪聲和雜散抑制指標(biāo)要求較高。
表1 頻率合成器的主要技術(shù)指標(biāo)要求
本次頻率合成器實(shí)現(xiàn)的主要技術(shù)路徑是采用高低頻標(biāo)進(jìn)行混頻濾波的方式產(chǎn)生系統(tǒng)所需的2.66~2.91 GHz/2.74~3.04 GHz信號(hào)。
若采用完全直接模擬頻率合成,雖然能滿足頻率捷變的特性,但其存在輸出頻點(diǎn)多時(shí)設(shè)備量大、濾波器頻點(diǎn)定制離散、拓?fù)浣Y(jié)構(gòu)基本無法統(tǒng)一、效率低下等缺點(diǎn)。為此,本次頻率合成器在設(shè)計(jì)時(shí)只有S波段高頻標(biāo)點(diǎn)源選擇由傳統(tǒng)的梳齒波發(fā)生器通過開關(guān)濾波產(chǎn)生,用以提供頻率粗調(diào);而頻點(diǎn)較多的P波段低頻標(biāo)信號(hào)則采用了DDS技術(shù),用以提供頻率精調(diào)。采用DDS實(shí)現(xiàn)小頻標(biāo)信號(hào),可一定程度減少硬件設(shè)備量,有利于頻率合成器的小型化設(shè)計(jì)。同時(shí),由于DDS的可編程性,還可方便地實(shí)現(xiàn)頻帶變化,對(duì)于S波段內(nèi)的不同頻帶頻率輸出可直接通過修改軟件實(shí)現(xiàn),避免了電訊的重復(fù)設(shè)計(jì),提高設(shè)計(jì)效率。
DDS的頻率切換時(shí)間取決于頻率控制字的傳輸時(shí)間及以LPF為主的器件響應(yīng)時(shí)間,一般在納秒級(jí)。[2]故選用梳妝譜點(diǎn)源和DDS低頻信號(hào)相混頻的方式,也能實(shí)現(xiàn)捷變頻特性。
方案的原理實(shí)現(xiàn)框圖如圖1所示。將梳狀譜產(chǎn)生的S波段高頻標(biāo)與DDS產(chǎn)生的P波段低頻標(biāo)信號(hào)進(jìn)行混頻處理,經(jīng)過多路開關(guān)濾波組件分時(shí)選取出對(duì)應(yīng)的頻點(diǎn)信號(hào),實(shí)現(xiàn)2 660~2 910 MHz(及2 740~3 040 MHz)的5 MHz間隔信號(hào)輸出,并在末級(jí)采用數(shù)控衰減放大以實(shí)現(xiàn)輸出信號(hào)的功率可調(diào)。
圖1 頻率合成器原理實(shí)現(xiàn)框圖
S波段高頻標(biāo)的產(chǎn)生方法主要有兩種:一是采用數(shù)字鎖相方式,優(yōu)點(diǎn)是電路簡(jiǎn)單,雜散抑制好,但其變頻時(shí)間相對(duì)較長(zhǎng),相位噪聲也較差,不能滿足系統(tǒng)要求;二是采用諧波發(fā)生器結(jié)合開關(guān)濾波組件方式,優(yōu)點(diǎn)是原理簡(jiǎn)單,頻率捷變快,一般達(dá)納秒級(jí),相位噪聲較好,但體積較大。為此,本次頻率合成器設(shè)計(jì)時(shí)將梳齒波發(fā)生器后的濾波器由傳統(tǒng)的聲表濾波器改進(jìn)為FBAR濾波器(體積更?。瑫r(shí)將梳齒波發(fā)生器與FBAR濾波器統(tǒng)一集成為模塊(點(diǎn)頻源),從而進(jìn)一步優(yōu)化了體積。
具體實(shí)現(xiàn)時(shí),S波段高頻標(biāo)FBAR點(diǎn)源以200 MHz為大步進(jìn),分別產(chǎn)生2.4、2.6 GHz信號(hào),并通過開關(guān)濾波組進(jìn)行切換。在實(shí)際工程應(yīng)用中,預(yù)留硬件可擴(kuò)充性,對(duì)梳齒波高頻標(biāo)點(diǎn)源的二選一實(shí)際選型為四選一開關(guān)濾波組,以備用頻寬擴(kuò)充之需,帶寬窄的時(shí)候另外兩路可閑置不用。此方案噪聲指標(biāo)優(yōu)異,集成度高,有利于頻率合成器的小型化設(shè)計(jì)。本次頻率合成器選取的恒溫晶振相位噪聲約為-155 dBc/Hz@1 kHz,根據(jù)倍頻器的相位噪聲理論,倍頻后輸出信號(hào)的相位噪聲值為
式中,Li為輸入信號(hào)的單邊帶相位噪聲;N為倍頻次數(shù);ΔL為電路的附加噪聲。[3]
通過電路的優(yōu)化設(shè)計(jì),可使附加噪聲對(duì)相位噪聲的惡化控制在5 dB以內(nèi)。對(duì)S波段高頻標(biāo)點(diǎn)源,晶振信號(hào)的最大倍頻次數(shù)為26次,理論上惡化約28 dB,加上電路的附加噪聲,實(shí)際輸出S波段頻標(biāo)源的相位噪聲應(yīng)該優(yōu)于-122 dBc/Hz@1 kHz。
低頻標(biāo)頻率為260~455 MHz(及340~535 MHz),頻率步進(jìn)5 MHz。本次頻率合成器設(shè)計(jì)時(shí)采用全數(shù)字化的信號(hào)產(chǎn)生方式DDS來生成P波段低頻標(biāo)信號(hào),其性能指標(biāo)如表2所示。
表2 DDS頻標(biāo)源的性能指標(biāo)
可以看出,DDS頻標(biāo)源在400 MHz輸出時(shí)相位噪聲典型值為-128 dBc/Hz@1 kHz,其參考輸入頻率為4 GHz,這可由100 MHz晶振參考信號(hào)通過梳齒波發(fā)生器并由窄帶濾波器選取產(chǎn)生。該DDS頻標(biāo)源的最大輸出頻率為1 600 MHz,使用時(shí)可通過軟件設(shè)定其輸出頻率為260~455 MHz(及340~535 MHz),頻率步進(jìn)設(shè)為5 MHz。
S波段高頻標(biāo)在2.6 GHz輸出時(shí)偏移1 kHz處的相噪噪聲優(yōu)于-122 dBc/Hz。P波段低頻標(biāo)在400 MHz輸出時(shí)相位噪聲為-128 dBc/Hz@1 kHz。根據(jù)混頻器的相位噪聲原理,當(dāng)兩路輸入信號(hào)相噪近似相等時(shí)輸出相噪惡化3 dB,而當(dāng)兩路輸入信號(hào)相噪相差較大時(shí),輸出相噪主要取決于相噪較差的輸入信號(hào)。[4]故理論輸出信號(hào)相噪約為-122 dBc/Hz@1 kHz,考慮到后級(jí)功率放大電路等附加噪聲影響,實(shí)際推導(dǎo)得到的輸出信號(hào)相噪指標(biāo)在1 kHz處應(yīng)該優(yōu)于-115 dBc/Hz。
該頻率合成器兼顧了跳頻時(shí)間、相位噪聲、雜散抑制以及結(jié)構(gòu)體積,研制結(jié)果如圖2~圖4所示。
圖2 S波段高頻標(biāo)FBAR點(diǎn)源的相位噪聲特性曲線
圖3 輸出2 740 MHz時(shí)的雜散抑制和相位噪聲特性曲線
圖4 頻率合成器研制實(shí)物圖
圖2為S波段FBAR點(diǎn)源的相位噪聲特性曲線。可以看出,2.4 GHz的相位噪聲實(shí)測(cè)為-125 dBc/Hz@1 kHz,2.6 GHz的相位噪聲實(shí)測(cè)為-123 dBc/Hz@1 kHz,與理論分析值基本相符。圖3為選取頻率合成器最高輸出頻點(diǎn)2 740 MHz,對(duì)其雜散抑制與相位噪聲特性進(jìn)行測(cè)試的結(jié)果??梢钥闯?,其雜散抑制大于69 dBc,相位噪聲優(yōu)于-119 dBc/Hz@1 kHz。該頻率合成器信號(hào)的最大輸出功率為12 dBm,末級(jí)的數(shù)控衰減可實(shí)現(xiàn)0~7 dB衰減控制,從而實(shí)現(xiàn)輸出信號(hào)功率從5~12 dBm可調(diào)。通過軟件的靈活設(shè)置,可實(shí)現(xiàn)系統(tǒng)所需頻率合成器的兩種不同頻帶信號(hào)輸出。圖4為頻率合成器的研制實(shí)物圖,其外形尺寸為175 mm?145 mm?25 mm,實(shí)現(xiàn)了小型化設(shè)計(jì)。由上,本次研制的S波段捷變頻頻率合成器的所有技術(shù)指標(biāo)均滿足設(shè)計(jì)要求。
本文采用直接模擬頻率合成與DDS技術(shù)相結(jié)合的方案,實(shí)現(xiàn)了S波段高集成、低雜散、低相位噪聲的捷變頻頻率合成器設(shè)計(jì),具有輸出信號(hào)的頻率、功率可調(diào)的特點(diǎn)。本次研制的頻率合成器其各項(xiàng)指標(biāo)均滿足系統(tǒng)的要求,已成功應(yīng)用于某大型陣地雷達(dá)系統(tǒng),工作穩(wěn)定可靠。