金振東 孫佳鋒 金哲海 趙亞萍 蔡再生
(東華大學(xué),上海,201620)
金屬有機(jī)框架(Metal Organic Frameworks,以下簡(jiǎn)稱MOFs)是一種新型多孔材料,由于其較大的表面積和孔隙率、高的熱穩(wěn)定性和可調(diào)節(jié)的孔徑結(jié)構(gòu)而受到廣泛關(guān)注[1-2]。MOFs 粉末由于易團(tuán)聚且可加工性差而限制了其實(shí)際應(yīng)用,最有應(yīng)用潛力的一種思路是將其分散于基體材料中,利用基體材料的可加工性拓寬其應(yīng)用領(lǐng)域[3]。目前,MOFs 已應(yīng)用于不同的基材,如碳材料、金屬、玻璃和紡織品等[4]。與其他基材相比,紡織品價(jià)格低廉,資源豐富,可為MOFs 提供有效支撐,并且其獨(dú)特的柔性可為MOFs 在多場(chǎng)景(如化學(xué)戰(zhàn)劑自解毒、空氣過濾器、氣體吸附與分離等)基礎(chǔ)應(yīng)用提供可能[5-7]。此外,MOFs 與其他導(dǎo)電物質(zhì)構(gòu)成導(dǎo)電功能層與紡織品結(jié)合,拓寬了功能紡織品在柔性導(dǎo)電材料領(lǐng)域的應(yīng)用[8-9]。本研究首先在棉織物表面化學(xué)鍍金屬鎳形成導(dǎo)電棉織物,利用電化學(xué)陽(yáng)極氧化預(yù)處理方式增加其表面粗糙程度,引入更多羥基官能團(tuán),為后續(xù)溶劑熱法原位制備MOFs 提供成核與生長(zhǎng)條件,并測(cè)試分析MOFs 導(dǎo)電棉織物的性能。
純棉平紋機(jī)織物(厚度0.4 mm,單位面積質(zhì)量230 g/m2)。試劑有六水合硝酸鈷、對(duì)苯二甲酸、六水合硫酸鎳、次亞磷酸鈉、檸檬酸鈉、氫氧化鉀、硼氫化鈉、N-N 二甲基甲酰胺(DMF)等,均為外購(gòu)的分析純。
1.2.1 導(dǎo)電棉織物的制備
首先,將5 cm×5 cm 的棉織物在85 ℃下浸漬于0.5 mol/L 的NaOH 溶液 中,2 h 后 取 出,用 去離子水洗滌,在60 ℃下干燥3 h 備用。其次,將處理后的棉織物浸入0.5 mol/L 的硼氫化鈉和0.1 mol/L 的NaOH 混合溶液中,超聲處理0.5 h 后取出,用去離子水清洗,在室溫下干燥。最后,將干燥后織物置于自制的化學(xué)鍍鎳溶液中,即0.1 mol/L 的六水合硫酸鎳、0.45 mol/L 的次亞磷酸鈉和0.19 mol/L 的檸檬酸鈉混合溶液中,反應(yīng)2 h 后用蒸餾水充分漂洗,在60 ℃下干燥3 h,制得導(dǎo)電棉織物,記為CT/Ni。
1.2.2 導(dǎo)電棉織物的預(yù)處理
以1 cm×2.5 cm 的CT/Ni 為工作電極,鉑電極為對(duì)電極,飽和甘汞電極為參比電極,以2 mol/L的KOH 為電解質(zhì)溶液,在10 mV/s 掃描速度下于0 V~0.6 V 進(jìn)行循環(huán)伏安掃描,完成50 次陽(yáng)極電氧化預(yù)處理,預(yù)處理的織物記為CT/Ni-a。
1.2.3 MOFs 導(dǎo)電棉織物的制備
將1 mmol 對(duì)苯二甲酸和1.5 mmol 的六水合硝酸鈷溶解于20 mL 的DMF 中形成混合液,將1 cm×1.25 cm 的CT/Ni-a 浸漬于混合液中,超聲0.5 h 后一起注入50 mL 的聚四氟乙烯內(nèi)膽中,擰緊蓋,在120 ℃下保持12 h。反應(yīng)結(jié)束后冷卻至室溫,將織物取出用DMF 和乙醇洗滌數(shù)次后于60 ℃下干燥12 h。制備的樣品記為CT/Nia@CoNiMOFs。
將上述過程中的基材換成1 cm×1.25 cm 的CT/Ni,經(jīng)過同樣步驟得到的樣品記為CT/Ni@CoNiMOFs。
采用SU8010 型場(chǎng)發(fā)射掃描電鏡觀察材料的表面形貌,如圖1 所示。從圖1(a)和圖1(b)可以看出,CT/Ni 表面的鎳層呈平均晶胞狀(直徑500 nm 左右),經(jīng)預(yù)處理后,金屬鎳球表面被刻蝕,形成一層20 nm~30 nm 納米片,增加了表面粗糙程度,引入了一定的活性位點(diǎn)。從圖1(c)和圖1(d)可以看到,CoNiMOFs 在CT/Ni 表面均能均勻生長(zhǎng),CT/Ni@CoNiMOFs 上沉積層呈現(xiàn)了尺寸較大的花狀形貌,花瓣局部放大為層狀結(jié)構(gòu),CT/Ni-a@CoNiMOFs 上沉積層在每根纖維上緊密生長(zhǎng),形成局部的小花狀,花瓣交錯(cuò)生長(zhǎng)呈現(xiàn)整體鱗片狀塊體結(jié)構(gòu)。從局部放大圖可看出,塊體結(jié)構(gòu)并不是光滑表面,而是存在許多分層與褶皺,這些分層與褶皺有利于電解質(zhì)離子的吸附和傳輸,從而可以改善材料的電化學(xué)性能[10]。
圖1 樣品的表面形貌
采用D/Max 2500X 型X 射線衍射儀確定材料的成分和內(nèi)部原子分子結(jié)構(gòu),結(jié)果如圖2 所示。CT/Ni 和CT/Ni-a 均出現(xiàn)了2θ=22.6°的特征峰,對(duì)應(yīng)纖維素(001)晶面,來(lái)源于棉織物基底中的纖維素;在2θ=45°出現(xiàn)明顯的衍射峰,對(duì)應(yīng)于Ni 的(111)晶面峰,說明經(jīng)化學(xué)鍍后,鎳層成功覆蓋于棉 織 物表面。與CT/Ni 相比,CT/Ni-a 的XRD 曲線中Ni 的特征峰變?nèi)?,且?7.5°、33.0°處出現(xiàn)了Ni(OH)2的(001)和(100)特征峰,說明電化學(xué)氧化后織物表面生成了少量的氫氧化鎳,為后續(xù)晶體成核生長(zhǎng)提供了一定的羥基[11]。比較CT/Ni@CoNiMOFs 和CT/Ni-a@CoNiMOFs 的 曲 線可以發(fā)現(xiàn),二者均出現(xiàn)了位于8.9°、14.1°、15.9°和17.8°的特征衍射峰,分別對(duì)應(yīng)于CoNiMOFs 的(100)、(101)、(011)和(110)晶面,表示合成后的MOFs 電 極 屬 于 分 層MOFs(CCDC、638866、MOFs-24)[12]。圖2(b)為 局 部 放 大 圖,可 看 出CT/Ni-a@CoNiMOFs 曲線中的(100)晶面對(duì)應(yīng)的衍射峰相對(duì)增強(qiáng),說明鍍鎳棉織物表面經(jīng)過電化學(xué)氧化后形成的Ni(OH)2納米片有利于CoNi-MOFs 向(100)晶 面 擇 優(yōu) 生 長(zhǎng),導(dǎo) 致CT/Ni@CoNiMOFs 和CT/Ni-a@CoNiMOFs 的 表 面形貌差異。
圖2 樣品的XRD 圖
采用Escalab 250Xi 型X 射線光電子能譜分析儀對(duì)樣品組成,尤其是活性物質(zhì)進(jìn)行分析和確定。圖3(a)可以證明CT/Ni-a@CoNiMOFs 中Co、Ni、O 和C 元素的存在。圖3(b)為C 1s 分峰譜圖,結(jié)合能284.6 eV 和285.2 eV 處的峰與苯環(huán)中的烷基碳有關(guān),而288.7 eV 處的峰可能對(duì)應(yīng)于—COO 基團(tuán)中的羧酸根碳[13]。圖3(c)為O 1s分峰譜圖531.4 eV 的峰,是典型的金屬-氧鍵,532.1 eV 和532.6 eV 的成分可能歸因于吸附的—OH 基 團(tuán)[14]。圖3(d)為Co 2p 分 峰 譜圖上位于797.6 eV 和781.4eV 的峰,分別屬于Co 2p1/2和Co 2p3/2,自旋能分離為16.2 eV。兩個(gè)衛(wèi)星峰(標(biāo)識(shí)為Sat.)2p1/2和2p3/2分別位于803.4 eV和786.3 eV。對(duì)于擬合曲線Co 2p3/2存在于781.4 eV,證實(shí)了CT/Ni-a@CoNiMOFs 中Co2+的 特 征 峰,表 明CoMOFs 的 存 在[15]。圖3(e)Co 2p 分峰譜圖上,位于856.1 eV 和874.7 eV 的典型峰分別歸屬于Ni 2p3/2和Ni 2p1/2電子配置,自旋能分離為17.6 eV。兩個(gè)衛(wèi)星峰(標(biāo)識(shí)為Sat.)2p3/2和2p1/2分別位于861.1 eV 和880 eV,證實(shí)了Ni2+的存在。結(jié)合XPS 測(cè)試結(jié)果可得到Co 和Ni元素的原子比例為9.50∶0.86,說明CoNiMOFs中Ni2+的含量較少,即少量摻雜,這可能是少部分金屬鎳被氧化生成的Ni2+[16]。
圖3 CT/Ni-a@CoNiMOFs 的XPS 能譜圖
2.4.1 循環(huán)伏安測(cè)試
循環(huán)伏安法(CV)測(cè)試施加線性循環(huán)的掃描電位,同時(shí)檢測(cè)響應(yīng)電流。圖4(a)為10 mV/s 下不同樣品的CV 曲線,可以看出CT/Ni-a、CT/Ni@CoNiMOFs 和CT/Ni-a@CoNiMOFs 樣 品 的CV 曲線上都有明顯的氧化還原峰,表明存在著可逆的氧化還原反應(yīng)。CT/Ni-a 的氧化還原峰位置(0.12 V/0.40 V)對(duì)應(yīng)代表Ni2+和Ni3+之間的相 互 轉(zhuǎn) 化[17]。CT/Ni@CoNiMOFs 與CT/Ni-a@CoNiMOFs 的氧化還原峰位置(0.13 V/0.37 V,0.08 V/0.39 V)與文獻(xiàn)報(bào)道的位置(0.16 V/0.40 V)相比,均向低電位略有移動(dòng)。這是由于鈷和鎳有自己的反應(yīng)電位,當(dāng)Ni 少量引入Co-MOFs 基體時(shí),活性材料主要是鈷、鎳的引入在提高電化學(xué)性能的同時(shí)也會(huì)導(dǎo)致氧化還原峰向低電位移動(dòng)[18]。圖4(b)為CT/Ni-a@CoNiMOFs 樣品在不同掃描速度下的CV 曲線,隨著掃描速度的增加,氧化還原峰越來(lái)越不明顯,說明在高掃描速度下主要是雙電層電容占主導(dǎo),這是由于CoNi-MOFs 的層狀結(jié)構(gòu)增加了材料的雙電層電容。
圖4 樣品的CV 曲線圖
2.4.2 恒電流充放電測(cè)試
恒電流充放電法(GCD)是考察電極在恒電流下充放電過程,記錄電位隨時(shí)間變化的規(guī)律,可根據(jù)公式C=IΔt/AΔV計(jì)算。其中,I表示充電/放電電流,單位mA;Δt為放電時(shí)間,單位s;A為電極的表面積,單位cm2;ΔV為測(cè)試電位窗口,單位V;C表示面積比電容,單位mF/cm2。
圖5(a)為10 mA/cm2下的GCD 曲線,可以看出:CT/Ni-a、CT/Ni@CoNiMOFs 和CT/Nia@CoNiMOF 根據(jù)上面公式計(jì)算出的面積比電容分 別 為 1 480 mF/cm2、1 608 mF/cm2和4 075 mF/cm2。圖5(b)為CT/Ni-a@CoNiMOFs在不同電流密度下的GCD 曲線,可以看出:當(dāng)電流 密 度 為3 mA/cm2、4 mA/cm2、5 mA/cm2、8 mA/cm2、10 mA/cm2和15 mA/cm2時(shí),根 據(jù) 上面公式計(jì)算出面積比電容分別達(dá)到4 475 mF/cm2、4 390 mF/cm2、4 350 mF/cm2、4 160 mF/cm2、4 075 mF/cm2和3 825 mF/cm2,可以得到電流密度從3 mA/cm2增加到15 mA/cm2的電容保持率為85.4%。相較于其余兩個(gè)樣品面積比電容得到提升,說明CoNiMOFs 對(duì)于電極材料性能提升起到一定作用,與MOFs 基柔性電極RGO/Ni-MOFs/鍍金屬織物(4 mA/cm2下具有260 mF/cm2)、PPy@UIO-66@CT(0.8 mA/cm2下 具 有1 993 mF/cm2)和NPC(0.66 mA/cm2下 具 有4 034 mF/cm2)相比有顯著提升[19]。
圖5 樣品的GCD 曲線
2.4.3 交流阻抗
交流阻抗(EIS)也叫電化學(xué)阻抗譜,用于檢測(cè)電極和電解液溶液界面的電荷傳遞和物質(zhì)擴(kuò)散的動(dòng)力學(xué)行為。本研究測(cè)試的頻率范圍為0.01 kHz~100 kHz,測(cè)試電壓為開路電壓。EIS曲線與X軸的截距表征了電極的內(nèi)阻(Rs),其來(lái)自于電解質(zhì)離子電阻、活性物質(zhì)內(nèi)阻以及各種界面電阻[20]。各樣品的交流阻抗見圖6。由圖6 可知,CT/Ni-a@CoNiMOFs 的Rs為1.17 Ω,相較于CT/Ni@CoNiMOFs 的1.38 Ω 和CT/Ni - a 的1.51 Ω 來(lái)說最小,同時(shí)在中頻區(qū)的Warburg 阻抗(與X軸成45°的線段長(zhǎng)度)也最小。這可能是由于CT/Ni-a@CoNiMOFs 材 料中CoNiMOFs 和Ni 之間的低接觸電阻所致。此外,低頻區(qū)域的EIS 曲線與擴(kuò)散電阻有關(guān),CT/Ni-a@CoNiMOFs離子擴(kuò)散阻力更小。
圖6 樣品的交流阻抗圖
(1)利用溶劑熱法,六水合硝酸鈷為金屬離子來(lái)源,以對(duì)苯二甲酸為配體,在鍍鎳棉織物表面以自生長(zhǎng)方式可成功制備CoNiMOFs。
(2)利用SEM、XRD 與XPS 測(cè)試技術(shù)表征了鍍鎳棉織物表面沉積的分層狀CoNiMOFs-24 晶型結(jié)構(gòu),且CoNiMOFs 中主要以CoMOFs 為主與少量Ni2+摻雜。
(3)由于CoNiMOFs 分離的納米板和超薄納米片與Ni 層的高導(dǎo)電性,CT/Ni-a@CoNiMOFs在電流密度為3 mA/cm2時(shí),面積比電容可以達(dá)到4 475 mF/cm2。
(4)制備的MOFs 導(dǎo)電棉織物具有優(yōu)良的電化學(xué)性能,在驅(qū)動(dòng)可穿戴電子設(shè)備的輕薄高效儲(chǔ)能領(lǐng)域具有良好的應(yīng)用前景。