馬秀麗 滕凱 孫濤 張磊
(①徐州機(jī)電技師學(xué)院,江蘇 徐州 221131;②徐州工程學(xué)院,江蘇 徐州 221018)
高速走絲電火花線(xiàn)切割作為一種非接觸式的電火花特種加工技術(shù),被廣泛應(yīng)用于工程機(jī)械、裝備制造和航空航天等領(lǐng)域。為了進(jìn)一步提高線(xiàn)切割加工的切割速度和表面質(zhì)量,相繼進(jìn)行了氣體、水霧和混粉工作液等不同介質(zhì)的脈沖火花放電試驗(yàn)與研究。王彤等[1?4]分別在工作液、氣體與水霧等介質(zhì)中進(jìn)行了電火花放電對(duì)比研究。研究發(fā)現(xiàn),氣體、水霧介質(zhì)較工作液介質(zhì)中的加工表面粗糙度、尺寸精度和形位公差均有所提高,但也存在電火花放電間隙小,排屑困難,加工不穩(wěn)定的情況。張威等[5]在常規(guī)介質(zhì)中添加了質(zhì)量濃度為10 g/L 的TiC粉末,研究發(fā)現(xiàn),混粉介質(zhì)較常規(guī)介質(zhì)電火花加工表面更加平整,裂紋減少,表面質(zhì)量和表面硬度均得到提高。白雪等[6]發(fā)現(xiàn)當(dāng)混粉介質(zhì)被擊穿時(shí),均勻分布在電場(chǎng)中的SiC顆粒,迅速串聯(lián)、擴(kuò)展,在兩極之間形成多條放電通道,能夠增大放電間隙,減小短路率,提高加工穩(wěn)定性。
目前,混粉電火花加工研究主要集中在電火花成型加工領(lǐng)域,針對(duì)電火花線(xiàn)切割的研究較少。尤其在高速走絲電火花線(xiàn)切割加工研究方面,未見(jiàn)有基于納米級(jí)混粉工作液介質(zhì)的線(xiàn)切割高速低損加工研究。為此,采用SiC納米混粉工作液作為介質(zhì)進(jìn)行電火花線(xiàn)切割試驗(yàn)研究。利用SiC納米微粒,降低極間絕緣性,增大放電間隙,拓展放電通道,分散放電點(diǎn),以此提高電火花線(xiàn)切割加工的切割速度和表面質(zhì)量,并降低電極絲損耗。
線(xiàn)切割雙介質(zhì)供液系統(tǒng)集成了常規(guī)和納米介質(zhì)兩個(gè)供液系統(tǒng)。如圖1b所示,常規(guī)介質(zhì)供液系統(tǒng)的水基工作液由噴液板12的常規(guī)供液入口6進(jìn)入,通過(guò)噴嘴器11的通液孔7流入噴嘴螺母8與噴嘴器11之間的儲(chǔ)液腔,最后從兩者之間的縫隙(常規(guī)供液出口10)噴出。常規(guī)供液系統(tǒng)的供液量大,噴液壓力低,對(duì)電極絲3的擾動(dòng)較小。納米介質(zhì)供液系統(tǒng)的混粉工作液由供液導(dǎo)管2的混粉供液入口1進(jìn)入,通過(guò)導(dǎo)絲器5與噴嘴器11相連通的儲(chǔ)液腔,從噴嘴器11的混粉供液出口9噴出。納米介質(zhì)供液系統(tǒng)的噴液壓力較高,工作液直接徑向作用于電極絲3上,導(dǎo)致電極絲振動(dòng)加劇。為此,該系統(tǒng)設(shè)計(jì)了導(dǎo)模4來(lái)降低電極絲的振動(dòng)。
圖1 線(xiàn)切割雙介質(zhì)供液系統(tǒng)
試驗(yàn)所用機(jī)床為DK7763D高速走絲電火花線(xiàn)切割機(jī)床;電極絲為鉬絲,直徑0.18 mm;試驗(yàn)件材料為Cr12MoV模具鋼,板材厚度20 mm。常規(guī)介質(zhì)為BM-01水基工作液,與水的配比為1∶10。納米介質(zhì)為在常規(guī)介質(zhì)中加入SiC納米微粉,制備成混粉懸浮工作液;SiC粒徑50 nm,密度3.2 g/cm3,比表面積60 m2/g,濃度0.1~0.9 g/L;抗沉降穩(wěn)定劑為蒙脫土K10(Bentonite clay K-10),濃度0.3~0.5 g/L;分散劑為羧甲基纖維素鈉(CMC),濃度0.5~0.7 g/L。線(xiàn)切割具體加工工藝參數(shù)見(jiàn)表1。
表1 線(xiàn)切割工藝參數(shù)
由圖2可知,在其他加工條件不變的情況下,隨著混粉濃度的升高,電火花線(xiàn)切割加工的切割速度逐步提高,表面粗糙度逐步降低。當(dāng)混粉濃度為0.3 g/L時(shí),切割速度達(dá)到最大值120 mm2/min,較常規(guī)工作液提高了22.16%;表面粗糙度降低到最小值8.07 μm,較常規(guī)工作液降低了15.05%。隨著混粉濃度的繼續(xù)增高,切割速度先明顯降低,后又趨于緩和;表面粗糙度則變化較小,僅略有增大。分析認(rèn)為,放電間隙中充滿(mǎn)的SiC納米微粒,將放電介質(zhì)中的單一放電通道擴(kuò)展為多個(gè)火花通道,使得到達(dá)電極的脈沖能量在空間上被分割,電極表面放電點(diǎn)增多[7]。同時(shí),隨著半導(dǎo)體微粒的加入,極間隔離減小,電場(chǎng)強(qiáng)度增大,當(dāng)相鄰兩微粒之間的電場(chǎng)強(qiáng)度達(dá)到臨界電場(chǎng)強(qiáng)度時(shí),迅速在兩極間擴(kuò)展、串聯(lián),形成放電時(shí)間更短,蝕除面更分散的放電通道,有利于放電間隙的增大和放電穩(wěn)定性的提高[7?10]。但當(dāng)混粉濃度過(guò)高時(shí),放電加工短路率增高,電弧放電增多,導(dǎo)致切割速度、表面加工質(zhì)量有所降低。
圖2 混粉濃度對(duì)切割加工的影響
圖3a為常規(guī)介質(zhì)電火花極間放電示意圖。由圖可知,電極絲與工件之間充滿(mǎn)均勻的液體工作介質(zhì),當(dāng)兩極之間施以電壓,便產(chǎn)生了均勻電場(chǎng)。隨著電極絲的進(jìn)給運(yùn)動(dòng),極間間隙變小,電場(chǎng)強(qiáng)度逐步加強(qiáng),此時(shí)正、負(fù)帶電粒子在電場(chǎng)力作用下雪崩式碰撞電離,致使介質(zhì)中的電流迅速增大,從而擊穿液體介質(zhì),瞬間形成仿垂體狀的等離子放電通道。
圖3b為納米介質(zhì)電火花極間放電示意圖。與常規(guī)介質(zhì)不同,納米介質(zhì)中混有分散相SiC微粒,微粒在電場(chǎng)中被極化而產(chǎn)生的電場(chǎng)與外電場(chǎng)疊加,使得極間均勻電場(chǎng)畸變。在介質(zhì)擊穿過(guò)程中,通道擴(kuò)張壓力遠(yuǎn)大于自生磁場(chǎng)的約束力和運(yùn)動(dòng)阻力,等離子體沿徑向向外運(yùn)動(dòng),使放電通道迅速擴(kuò)張[7]。由于電子質(zhì)量比正離子質(zhì)量小、加速度大,放電通道在陽(yáng)極拓展明顯大于與陰極,整個(gè)放電通道成喇叭口狀。又由于放電間隙的增大,致使單位面積上的放電能量大大減弱,提高了工件表面加工質(zhì)量。
圖3 電火花極間放電示意圖
如圖4a所示,在小脈沖間隔,大峰值電流切割條件下,常規(guī)工作液?jiǎn)蝹€(gè)脈沖放電形成的放電凹坑大,加工表面重鑄凸臺(tái)高,存在明顯的蝕除材料冷卻再黏連情況[9?11],容易造成拉弧放電、短路等情況,降低了切割速度和加工表面質(zhì)量。由圖4b可見(jiàn),混粉工作液較常規(guī)工作液的加工表面要平整的多,單個(gè)脈沖放電被SiC納米微粒分散,形成若干個(gè)均勻的小放電凹坑,重鑄層也較薄,基本不存在明顯的凸臺(tái),表面加工質(zhì)量大大提升。另外,加工表面的冷縮微孔洞多且均勻,表明極間冷卻效果好,放電較充分,有利于切割速度的提升。
圖4 不同工作介質(zhì)的蝕除微觀表面
研究發(fā)現(xiàn),線(xiàn)切割極間放電通道形成后,便以差動(dòng)方式進(jìn)行移動(dòng)(見(jiàn)圖3)。蝕除面的長(zhǎng)度約為走絲速度與脈沖寬度乘積的一半。通過(guò)對(duì)比兩種介質(zhì)的電蝕表面發(fā)現(xiàn),納米介質(zhì)較常規(guī)介質(zhì)的蝕除面長(zhǎng)度明顯加大,這表明納米介質(zhì)的放電通道的拓展更快、更大。
圖5為納米介質(zhì)與常規(guī)介質(zhì)電極絲初始火花放電電蝕表面微觀圖。由圖中可以看出,納米介質(zhì)放電痕輪廓清晰,蝕除面平整,沒(méi)有明顯的灼傷。常規(guī)介質(zhì)放電痕輪廓較模糊,蝕除面不平整,電蝕表面有灼傷,存在明顯的蝕除材料冷卻再黏連情況。
圖5 不同介質(zhì)電極絲初始電蝕表面
分析認(rèn)為,放電間隙的增大,極間放電條件的改善,放電通道的擴(kuò)大可有效降低電極絲的損耗。在電火花放電絕緣間隙不變的條件下,導(dǎo)電微粉的混入,無(wú)疑增大了極間的實(shí)際放電間隙,降低了瞬間放電合力對(duì)電極絲的轟擊力。SiC納米微粒削弱了電蝕產(chǎn)物對(duì)脈沖放電的引發(fā)作用,使得放電分布于整個(gè)加工表面,單位面積上瞬間放電合力小,放電通道擴(kuò)展快,蝕除表面較平整[12]。此外,納米微粒比表面積大、吸附性強(qiáng),有利于增加電極絲拖拽能力,增強(qiáng)極間的導(dǎo)熱能力,改善極間的放電條件,有效降低了電極絲的損耗。試驗(yàn)研究發(fā)現(xiàn),在Cr12MoV模具鋼105mm2(切割截面積)的切割量下,納米介質(zhì)的電極絲損耗為1.21 μm(直徑減小),較常規(guī)介質(zhì)降低21.87%。
(1)在脈沖寬度45 μs,脈沖間隔200 μs,峰值電流25 A,混粉濃度0.3 g/L的加工條件下,SiC納米介質(zhì)較常規(guī)介質(zhì)的切割速度提高22.16%,表面粗糙度降低15.05%,電極絲損耗降低21.87%。
(2)SiC納米微粒使極間的電場(chǎng)畸變,在電場(chǎng)力作用下,將單個(gè)脈沖放電通道拓展為多個(gè),放電點(diǎn)分散,改善了加工表面質(zhì)量,降低了電極絲損耗。
(3)SiC納米微粒降低了工作介質(zhì)的電阻率,使工作介質(zhì)的絕緣強(qiáng)度降低,極間的擊穿間隙增大,有利于工件切割速度的提高。