王 坤, 賀牧野, 劉廣峰
(安徽理工大學機械工程學院,安徽 淮南 232001)
隨著科技的快速發(fā)展,人們對電子元件的要求也越來越高,大規(guī)模集成電路的應(yīng)用導致產(chǎn)生大量的熱量,如何有效的散熱成為了科技發(fā)展必須攻克的難題。多束射流冷卻技術(shù)[1]與微通道技術(shù)[2]因其具有高性能、低消費的特點越來越得到人們的關(guān)注。
本文通過將多束射流冷卻技術(shù)與微通道冷卻技術(shù)相結(jié)合[3],研究其在不同雷諾數(shù)下的流動特性與換熱特性,并進行分析總結(jié)。
通過三維軟件建立模型,如圖1所示是射流微通道三維模型圖,上方為射流入口,側(cè)邊為出口,通道底面為加熱面,具體幾何尺寸見表1。
表1 射流微通道具體幾何尺寸
1.2.1 湍流模型與邊界條件
選取RNGk-ε模型可以對旋流進行捕捉,出口設(shè)置為壓力出口,一個標準大氣壓,進口為速度入口,流體溫度為300K,加熱面給定熱流密度為100W/cm2,除加熱面外都絕熱。
1.2.2 數(shù)值模擬方法
對模型采用結(jié)構(gòu)網(wǎng)格劃分,在流固耦合出劃分邊界層網(wǎng)格,選用 SIMPLE 算法計算壓力-速度耦合方程,選用二階迎風格式,壓力插值為Standard[4],如圖2。
1.2.3 網(wǎng)格無關(guān)性驗證
對模型進行網(wǎng)格無關(guān)性驗證,當網(wǎng)格數(shù)由110萬增至130萬時,換熱系數(shù)變化僅為4.6%,最終選擇網(wǎng)格數(shù)為110萬,如圖3。
圖4為射流微通道在Re=500~2500時的速度流線圖,如圖所示,流體從射流孔進入微通道肋,由于是單側(cè)出口,下游流體直接被高速的上游流體攜帶出去,并沒有直接與通道底面相接觸,隨著雷諾數(shù)的不斷增加,這種現(xiàn)象變得尤為明顯。流體進入通道內(nèi)后與壁面碰撞產(chǎn)生漩渦,隨著雷諾數(shù)的不斷增大通道內(nèi)流體渦旋增強,流線不斷變得密集,流速逐漸增加,換熱速率得到提升。
圖5為射流微通道在Re=500~2500時的通道平均溫度變化圖,低雷諾數(shù)時,隨著雷諾數(shù)的不斷增加,通道平均溫度減小迅速,但隨著雷諾數(shù)的持續(xù)增大,平均溫度的變化趨勢產(chǎn)生減緩,明顯低于低雷諾數(shù)時增長趨勢,雷諾數(shù)的降低了通道加熱面的平均溫度,由376 K降低至350 K,達到了20 K左右。
圖6為射流微通道在Re=500~2500時換熱系數(shù)變化關(guān)系圖,低雷諾數(shù)時換熱系數(shù)增長迅速,隨著雷諾數(shù)的不斷增大,射流微通道的換熱系數(shù)也不斷增大,但增長趨勢得到減緩,且換熱系數(shù)變化幾乎與雷諾數(shù)呈正比例關(guān)系。
通過將多束射流冷卻技術(shù)與微通道冷卻技術(shù)相結(jié)合,研究其在不同雷諾數(shù)下的流動特性與換熱特性,并進行分析總結(jié),得出結(jié)論如下:
(1)伴隨著雷諾數(shù)的增大流體在微通道內(nèi)的流速加快,上游流體的裹挾現(xiàn)象加劇,微通道內(nèi)渦旋增多,換熱效果得到提升。
(2) 低雷諾數(shù)時換熱系數(shù)增長迅速,隨著雷諾數(shù)的不斷增大,射流微通道的換熱系數(shù)也不斷增大,但增長趨勢得到減緩,且換熱系數(shù)變化幾乎與雷諾數(shù)呈正比例關(guān)系。