盧文敏,張建花,郭斯琪,郝 嶸,宋建成,雷志鵬
(太原理工大學a. 電氣與動力工程學院;b. 礦電氣設備與智能控制山西省重點實驗室;c. 礦用智能電器技術(shù)國家地方聯(lián)合工程實驗室,山西 太原 030024)
2000年,M A SUBRAMANIAN 等[1]首次報道了CaCu3Ti4O12(CCTO)陶瓷,后來許多研究者發(fā)現(xiàn)該陶瓷材料具有高介電常數(shù)(ε)(>10 000),并在100~300 K 內(nèi)表現(xiàn)出良好的溫度穩(wěn)定性[2],引起國內(nèi)外研究人員的極大興趣。CCTO 陶瓷還表現(xiàn)出非歐姆特性,使得這些陶瓷有望用于儲能電容器和過壓保護裝置等應用[3]。電容器中儲能密度(ω)的計算公式如式(1)所示[4]。
式(1)中:Eb為擊穿場強;ε0和εr分別為真空介電常數(shù)和相對介電常數(shù)[5]。
由式(1)可知,電容器的儲能密度由介電常數(shù)ε和擊穿場強(Eb)決定,且Eb對其影響更顯著。通常制備的CCTO 具有較高的ε和較好的溫度穩(wěn)定性,然而,由于其Eb一般低于2 kV/cm,儲能密度較小,限制了其在實際中的應用。表1 總結(jié)了CCTO 樣品的Eb、ε和介質(zhì)損耗因數(shù)(tanδ)。
表1 室溫下CCTO陶瓷的制備方法和介電性能Tab.1 Preparation method and dielectric properties of CCTO ceramics at room temperature
通過了解CCTO 介電陶瓷Eb的研究進展,發(fā)現(xiàn)CCTO陶瓷較大的晶粒尺寸有利于提高ε,而較小的晶粒尺寸有利于改善Eb[5,12]。說明Eb的提高是以犧牲ε為代價,也就是說ε和Eb是兩個不可同時優(yōu)化的參數(shù)。由于低頻tanδ的降低和Eb的提高都與晶界處的電性能相關(guān)[13],研究發(fā)現(xiàn)聚合物熱解法可以很好地改善CCTO 的介電性能[14],而且制備陶瓷樣品時的燒結(jié)溫度對樣品的微觀結(jié)構(gòu)和介電性能影響也很大。因此本研究選用聚合物熱解法制備CCTO粉體,然后在不同溫度下進行燒結(jié)得到CCTO 陶瓷樣品,研究不同燒結(jié)溫度對其微觀結(jié)構(gòu)和介電性能的影響。
用聚合物熱解法制備CCTO粉體,以硝酸銅、硝酸鈣、二鈦酸二異丙酯為原料,丙烯酸水溶液作為聚合單體,過硫酸銨水溶液作為引發(fā)劑。首先,將二鈦酸二異丙酯溶解在室溫下恒定攪拌的丙烯酸水溶液中,再將硝酸鈣和硝酸銅溶解在上述溶液中,直至獲得澄清的溶液;隨后加入5%的過硫酸銨水溶液,在80℃下加熱攪拌2.5 h獲得CCTO 凝膠前體。將凝膠前體置于90℃下保溫5 h,最后在850℃下燒結(jié)4 h 獲得CCTO 粉體。將CCTO 前驅(qū)體粉體在25 MPa下壓制成直徑為24 mm、厚度為15 mm的坯體,最后分別在1 040、1 060、1 080℃下燒結(jié)10 h,制成陶瓷樣品。
用X 射線衍射儀(XRD)表征樣品在2θ范圍為20°~80°的物相組成和晶體結(jié)構(gòu)。采用掃描電子顯微鏡(SEM)觀測樣品的微觀結(jié)構(gòu)。在介電測量之前,首先將CCTO 樣品的兩個表面都拋光并涂敷銀漿作為電容器電極,然后使用寬頻介電和阻抗譜分析儀測試陶瓷樣品的介電特性和阻抗,最后使用高壓測量設備(Keithley 6517B 型)在室溫下測量非線性DC電流密度-電場強度(J-E)特性。
為了研究不同燒結(jié)溫度對CCTO陶瓷相結(jié)構(gòu)的影響,分析了所有陶瓷樣品的XRD圖。不同燒結(jié)溫度陶瓷樣品的XRD 圖譜如圖1 所示,根據(jù)CCTO 標準PDF數(shù)據(jù)庫(JCPDS文件編號75-2188),CCTO 樣品的主要衍射峰均為空間群為Im3的純立方鈣鈦礦相關(guān)結(jié)構(gòu)[15]。由圖1 可知,大部分樣品中沒有檢測到任何雜相,可能是含量太少超出了XRD的檢測極限。1040℃樣品中存在TiO2雜相,可能是聚合反應不充分導致。通過MDI JADE軟件計算了樣品的晶格參數(shù)(a),均與標準CCTO 的晶格參數(shù)(7.391?)相近。
圖1 不同燒結(jié)溫度CCTO陶瓷樣品的X射線衍射圖譜Fig.1 X-ray diffraction pattern of CCTO ceramic samples at different sintering temperatures
不同燒結(jié)溫度CCTO 陶瓷的SEM 圖像如圖2所示。由圖2 可知,CCTO 陶瓷樣品的晶粒尺寸隨著燒結(jié)溫度的升高而增大,表明燒結(jié)條件對陶瓷樣品的微觀結(jié)構(gòu)影響顯著。用Nano Measurer 軟件計算的晶粒尺寸結(jié)果和SEM 圖的結(jié)果相符,1 040、1 060、1 080℃陶瓷樣品的平均晶粒尺寸分別約為3.56、6.42、13.02 μm。其中1 060℃樣品顯示出正常的晶粒生長狀態(tài),晶粒均勻且致密。1 040℃樣品晶粒尺寸較小,晶粒極不均勻,說明過低的燒結(jié)溫度不利于晶粒充分生長。1 080℃樣品表現(xiàn)出晶粒異常生長,孔洞較多,另外部分晶粒出現(xiàn)明顯的熔融現(xiàn)象。結(jié)合XRD 的分析結(jié)果可知,1 040℃樣品中有TiO2雜相,TiO2雜相在最終燒制成型的過程中會消耗富Cu 相,而晶界處CuO 在成相過程中會融為液相,有利于晶粒的生長[16-17],這可能是1 040℃樣品晶粒尺寸較小的另一個原因。
圖2 1 040、1 060、1 080℃燒結(jié)陶瓷樣品的SEM圖像Fig.2 SEM images of sintered ceramic samples at 1 040,1 060,1 080℃
對所有樣品進行復阻抗譜分析以進一步研究電異質(zhì)微結(jié)構(gòu)對CCTO陶瓷介電性能的影響。本實驗CCTO 陶瓷樣品的介電響應符合德拜響應模型,因此可使用阻抗譜圓弧擬合進行等效電路分析。根據(jù)IBLC 模型,兩個并聯(lián)的電阻-電容(R-C)的串聯(lián)電路是解釋CCTO陶瓷中晶粒和晶界異質(zhì)性的有效方法[18-20]。復阻抗Z?可以通過公式(2)[20]計算。
式(2)中:Rg和Cg分別代表晶粒電阻和晶粒電容;Rgb和Cgb代表晶界電阻和晶界電容;ω為角頻率。一般情況下,由于晶粒和晶界之間存在較大的電不均勻性,晶粒阻抗半圓弧在高頻下幾乎不可見,而另一個則由于測試頻率范圍的限制而僅顯示出部分阻抗半圓弧。因此,通??梢詮淖杩棺V的半圓弧直徑估算Rgb,從Z軸的非零截距估算Rg。
圖3為不同燒結(jié)溫度陶瓷樣品的阻抗譜圖。從圖3 中復阻抗的實部和虛部可得CCTO 樣品的阻抗譜,可以觀察到,CCTO 陶瓷的Rgb隨著燒結(jié)溫度的升高先增大后減小,說明適當?shù)臒Y(jié)溫度可完善晶界的形成,而過高的燒結(jié)溫度會導致晶界不穩(wěn)定。1 060 和1 080℃陶瓷樣品的Rg幾乎相同,1 040℃樣品的Rg較大,使其電介質(zhì)極化較弱。
圖3 不同燒結(jié)溫度陶瓷樣品的阻抗譜圖Fig.3 Impedance spectra of ceramic samples with different sintering temperatures
使用理查森-肖特基模型可以計算所有樣品的勢壘高度(Φb),熱電子發(fā)射電流密度(J)與E的關(guān)系式如式(3)~(4)所示。
當lnJ-= lnJ0,得到式(5)。
式(3)~(5)中:A是理查森常數(shù);Φb為勢壘高度;β為前置因子;kB為玻爾茲曼常數(shù);T為絕對溫度。
圖4 為室溫下CCTO 樣品的lnJ與E1/2關(guān)系圖,可以觀察到所有樣品的lnJ與E1/2明顯呈現(xiàn)的線性關(guān)系。通過圖4 的線性關(guān)系計算出陶瓷樣品的Φb,得到1 040、1 060、1 080℃樣品的Φb分別約為0.95、1.12、0.67 eV,在沒有直流(DC)偏置的情況下,Φb可以表示為式(6)[21]。
圖4 室溫下不同燒結(jié)溫度陶瓷樣品lnJ與E1/2的關(guān)系Fig.4 The relationship between lnJ and E1/2 of ceramic samples with different sintering temperatures at room temperature
式(6)中:εr是材料的相對介電常數(shù);q是電子電荷;Ns和Nd分別是n型半導體晶粒中的表面電荷和電荷載體濃度。陶瓷樣品的Φb隨著燒結(jié)溫度的升高先增大后減小,1 040℃樣品的Φb小于1 060℃樣品,表明過低的燒結(jié)溫度不利于勢壘形成。
Arrhenius方程[22]如式(7)所示。
式(6)中:σg和σgb分別是晶粒和晶界電導率;σ0是指前因子;Eg和Egb分別是晶粒和晶界活化能。
根據(jù)式(7)對lnσg/lnσgb與1 000/T進行擬合,結(jié)果如圖5所示。
圖5 晶粒和晶界抗阻抗的Arrhenius圖Fig.5 Arrhenius plots of the grain and grain boundary resistance data
從圖5 可以看出,CCTO 陶瓷的lnσg/lnσgb值與1 000/T具有良好的線性關(guān)系,說明在外電場作用下的電子傳輸遵循熱發(fā)射模型[23]。通過圖5 中擬合直線的斜率可以得到燒結(jié)溫度為1 040、1 060、1 080℃的CCTO 陶瓷的Eg分別為0.10、0.08 和0.09 eV,Egb分別為0.54、0.87和0.51 eV。
CCTO 陶瓷樣品在室溫下的壓敏電阻非線性(J-E)特性如圖6所示,當電流密度J=1 mA/cm2時,獲得擊穿場強(Eb)值。從圖6 可以看出,在所有樣品中都可以發(fā)現(xiàn)非線性行為,1 040、1 060、1 080℃樣品的Eb分別約為8.06、11.45、0.47 kV/cm,這比先前報道的氧化物法制備的純CCTO 陶瓷的Eb高近1個數(shù)量級[14,24]。文獻[25]研究表明,CCTO 陶瓷的晶粒尺寸越小,Eb越高,結(jié)合SEM 結(jié)果發(fā)現(xiàn),1 040℃和1 060℃樣品的Eb較大,這主要是由于晶粒尺寸的減小。眾所周知,CCTO 陶瓷Eb的增加不僅與其晶粒大小有關(guān),還與J-E特性的起源與肖特基勢壘高度有關(guān),通過圖4 和圖5 可知1 060℃樣品的Eb大于1 040℃樣品主要是由于其較大的勢壘高度引起的。此外,陶瓷樣品的Eb與晶界電阻(Rgb)密切相關(guān),因此過低和過高的燒結(jié)溫度制備的CCTO陶瓷樣品壓敏性能較差。
圖6 不同燒結(jié)溫度陶瓷樣品的非線性電氣特性(J-E)Fig.6 The nonlinear electrical characteristics(J-E)of ceramic samples with different sintering temperatures
圖7為不同燒結(jié)溫度樣品的ε頻譜,大多數(shù)研究者發(fā)現(xiàn)較低的燒結(jié)溫度有利于Eb的提高,但不利于ε的增大,且一般ε隨晶粒尺寸的增大而增大。結(jié)合圖2 和圖7 發(fā)現(xiàn)本實驗也恰好證明了此觀點,這主要與燒結(jié)溫度對晶粒尺寸的影響相關(guān)。1 040、1 060、1 080℃樣品在1 kHz 時的ε值分別為2 281、9 110 和24 743。根據(jù)內(nèi)層阻擋層電容器(IBLC)模型,大晶粒的CCTO陶瓷可以產(chǎn)生明顯的電異質(zhì)性,從而引起巨大的介電響應[26]。本研究中1 080℃樣品的ε約為1 040℃樣品的10 倍,這是由于溫度過高、晶粒異常生長造成的。1 040℃樣品與1 060℃樣品在102~106Hz 內(nèi)的頻率穩(wěn)定性比1 080℃樣品更好,因此適合的燒結(jié)溫度更利于得到具有高ε和良好頻率穩(wěn)定性的陶瓷樣品。
圖7 不同燒結(jié)溫度陶瓷樣品ε的頻率相關(guān)性Fig.7 Frequency correlation of ε for ceramic samples with different sintering temperatures
通常,商業(yè)應用的高性能電介質(zhì)tanδ值應低于0.05,因此tanδ也是CCTO 陶瓷材料的另一重要介電參數(shù)。不同燒結(jié)溫度陶瓷樣品的tanδ頻譜如圖8所示。從圖8 可以看出,1 040、1 060、1 080℃樣品的tanδ最小值分別為0.09、0.03、0.10,顯然1 060℃樣品的tanδ符合要求。CCTO 陶瓷的高tanδ值通常出現(xiàn)在低頻和高頻范圍內(nèi)[12],這分別與高直流電導率和介電弛豫現(xiàn)象有關(guān)[27]。結(jié)合圖3和5可以發(fā)現(xiàn),1 060℃陶瓷的低頻tanδ明顯降低與其Rgb和Egb的顯著增強有關(guān),較大的Rgb和Egb改善了1 060℃陶瓷的晶界介電特性。較大的低頻tanδ值不適合實際應用,而本實驗采用聚合物熱解法在1 060℃下燒結(jié)制備的CCTO樣品低頻tanδ很低。因此聚合物熱解法制備陶瓷樣品的最佳燒結(jié)溫度為1 060℃。
圖8 不同燒結(jié)溫度陶瓷樣品tanδ的頻率相關(guān)性Fig.8 Frequency correlation of tanδ for ceramic samples with different sintering temperatures
(1)本實驗采用聚合物熱解法在1 060℃下燒結(jié)制備的CCTO 樣品Eb值約為11.45 kV/cm,比固相反應法制備的樣品Eb值大1個數(shù)量級,在室溫下ε和tanδ分別約為9 110和0.03。
(2)CCTO 陶瓷樣品的微觀結(jié)構(gòu)變化受燒結(jié)溫度的影響顯著,晶粒尺寸隨著燒結(jié)溫度的升高而增大,燒結(jié)溫度較低不利于晶界的完善和勢壘的形成,而燒結(jié)溫度過高使得晶粒生長過快,晶粒大小極不均勻。
(3)適合的燒結(jié)溫度使得晶粒均勻長大,有利于陶瓷樣品ε的提高和頻率穩(wěn)定性的改善。此外,適合的燒結(jié)溫度還可以增大陶瓷樣品的Rgb,進而使得陶瓷樣品的tanδ降低和Eb提高。