辛金鋒, 王 軍
(西南科技大學 信息工程學院,四川 綿陽621010)
對 SiGe HBT器件的內部噪聲源進行精確建模是應用它進行電路設計的基礎。迄今為止,能在射頻微波頻率范圍內較精確地模擬 SiGe HBT的基極電流和集電極電流噪聲的模型有van Vliet模型[1]和transport模型[2]。它們都建立在對基極少數載流子的輸入非準靜態(tài)效應進行建模的基礎之上,而對現代的雙極型晶體管而言,載流子在基極和集電極的空間電荷區(qū)傳輸延遲可比基極渡越時間,甚至要大于后者。因此為了更精確的模擬晶體管的高頻噪聲特性,需要在晶體管高頻噪聲模型中加入基極集電極空間電荷區(qū)傳輸延遲效應。
根據基本的器件物理,當雙極型晶體管的基極和發(fā)射極之間的電壓發(fā)生變化時,基極的少數載流子會向發(fā)射極和集電極傳輸并被接收,這就是電荷分區(qū)的基本概念[3]。該物理過程可通過集電極轉移電流和傳輸到發(fā)射結及集電結的基區(qū)電荷進行模擬,進而被用于雙極型晶體管的簡單模型之中。因為載流子運動的速率有限以及準中性層的分散性,所以轉移電流和分區(qū)電荷都是非準靜態(tài)的。我們把基極電荷的這種非準靜態(tài)效應稱作輸入非準靜態(tài)效應[4]。van Vliet KM通過晶體管的Y參數對基極和集電極電流噪聲進行建模,從而建立了包含輸入非準靜態(tài)效應的van Vliet噪聲模型。
然而,該模型沒有考慮載流子在基極集電極空間電荷區(qū)的傳輸延遲,而對現代的雙極型晶體管而言,該延遲對晶體管的噪聲性能的影響較大[5]。Kejun Xia,Guofu Niu等人已經對van Vliet模型進行了擴展,如下所示[6]:
其中,τc是載流子通過基極集電極空間電荷區(qū)的延遲時間。當時,上面的近似關系成立。
van vliet模型對噪聲源的建模依賴于本征晶體管Y參數的提取,原則上不需要用到任何精確的噪聲模型參數,這是該模型的主要優(yōu)勢。然而,實驗測量的Y參數不可避免的要受到寄生元件(如基極寄生電阻)的影響,這也使得非準靜態(tài)效應下本征晶體管 Y參數的提取非常困難,Y參數提取的精度也就直接影響到噪聲模型的精確度[7]。參考文獻[6]中,作者根據他們提出的輸入非準靜態(tài)效應模型,用2個和噪聲相關的延遲時間對transport噪聲模型進行了改進,從而,在沒有得到精確的包含輸入非準靜態(tài)效應的晶體管Y參數的情況下,我們也可以對晶體管噪聲進行精確建模。
改進之后的transport模型如下:
在原來的transport噪聲模型中只用到了一個延遲時間,即這里用2個時間延遲來更精確的模擬噪聲性能。
我們基于擴展的van Vliet模型,由晶體管Y參數計算出了基極和集電極的電流噪聲以及他們的相關系數,并將得到的基極集電極噪聲電流譜Sib、Sic和歸一化相關系數繪于圖1。另外,為了便于分析比較,由Langevin等式得到的噪聲電流解析解[8]以及由擴展的transport噪聲模型得到的結果也在圖中表示出來。其中叉號表示由Langevin等式得到的噪聲電流解析解,實線表示的是又擴展的 van Vliet模型得到的結果,點劃線表示由擴展的transport噪聲模型得出的結果。
從圖中我們可以看到,擴展的van Vliet模型和計算得到的解析值吻合得非常好,由擴展的transport模型可以得到精確的Sib和以及較好的 Re(c)和Sic。
圖1 基極和集電極電流噪聲功率譜及其歸一化相關系數c
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