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基于改進(jìn)的差分進(jìn)化算法的非均勻陣列綜合

2012-12-01 07:12:14宋曉俠郭陳江
探測與控制學(xué)報(bào) 2012年4期
關(guān)鍵詞:旁瓣電平差分

宋曉俠,郭陳江,丁 君

(西北工業(yè)大學(xué)電子信息學(xué)院,陜西 西安 710129)

0 引言

在許多工程應(yīng)用中,通常要求陣列天線要有窄的掃描波束和低的副瓣。同均勻陣列天線相比,非均勻陣列天線自由度更大,因而能在減少天線陣列建造成本、降低系統(tǒng)復(fù)雜度的同時(shí),滿足工程要求[1]。

非均勻陣列天線的綜合問題(給定陣元數(shù)和陣列響應(yīng),確定位置和激勵(lì)分布)一直未得到很好的解決。由于非均勻陣列天線的最大相對旁瓣電平是陣元位置的非線性函數(shù),沒有現(xiàn)存的解析方法來確定最大相對旁瓣電平,也就是說,即使已知所有陣元的位置,也沒有可憑借的解析方法來求得最大相對旁瓣電平出現(xiàn)的位置,因而陣元間距的優(yōu)化是一個(gè)非線性問題[2],一直都是非均勻陣列天線研究的難點(diǎn)和重點(diǎn)。

雖然已有許多經(jīng)典的優(yōu)化方法(如微擾法、窮舉法及統(tǒng)計(jì)法等)可以借用,但隨著計(jì)算機(jī)技術(shù)的發(fā)展和天線系統(tǒng)變得復(fù)雜,越來越多的優(yōu)化方法用于陣列天線的綜合,常見的有共扼梯度法、擬牛頓法、神經(jīng)網(wǎng)絡(luò)、單純形法、遺傳算法和模擬退火法。差分進(jìn)化算法(Differential Evolution,DE)是由 R.Stone和K.Price在1995年提出的一種簡單而高效啟發(fā)式的全局優(yōu)化算法[3],在1996年的國際進(jìn)化優(yōu)化競賽上,DE表現(xiàn)優(yōu)異,被證明是最快的進(jìn)化算法之一。差分進(jìn)化算法具有參數(shù)少、算法簡單、易編程等優(yōu)點(diǎn),對于高維、非線性及不可微等特性的函數(shù)優(yōu)化問題表現(xiàn)出極強(qiáng)的生命力,因而廣泛應(yīng)用于各個(gè)領(lǐng)域。與遺傳算法相比,收斂速度更快,且易于其他方法相結(jié)合[4],而且此算法無論在數(shù)學(xué)還是在天線陣列優(yōu)化[4-5]方面都有很好的魯棒性。標(biāo)準(zhǔn)的DE算法一個(gè)重要缺陷就是在求解后期收斂速度較慢,對于有些多峰復(fù)雜函數(shù)容易出現(xiàn)“早熟”現(xiàn)象,文獻(xiàn)[6]針對這一缺點(diǎn)設(shè)計(jì)了一種快速高效的差分進(jìn)化算法。目前該改進(jìn)算法尚未在天線領(lǐng)域中應(yīng)用,因此,將該改進(jìn)的差分進(jìn)化算法引入到非均勻線陣綜合。

1 優(yōu)化模型及差分進(jìn)化算法

考慮優(yōu)化的不對稱非均勻線陣如圖1所示,陣列的孔徑為L,陣元數(shù)為N(N為正整數(shù)),為了保證陣列的孔徑為L,令dN=L,d1=0,取陣元位置為(d2,…,dN-1),滿足 min {di+1-di≥d} ,使該線陣的最大峰值旁瓣電平(maxPSLL)最低。取陣元位置為優(yōu)化變量,且In為第n個(gè)電流激勵(lì),u=cosθ,θ是掃描角,0≤θ≤π,k=2π/λ,u的取值區(qū)間排除主瓣區(qū)域,各陣元的激勵(lì)等副同相,即In=1(n=1,…,N),則非均勻線陣的方向圖為:

圖1 不對稱非均勻線陣的結(jié)構(gòu)Fig.1 Geometry of non-uniformly linear asymmetric array

以降低非均勻線陣的峰值旁瓣電平(PSLL)為優(yōu)化目標(biāo),依據(jù)最大峰值旁瓣電平構(gòu)造適應(yīng)度函數(shù):

式(2)中,fmax為主瓣峰值。

目標(biāo)函數(shù)為:

1.1 標(biāo)準(zhǔn)差分進(jìn)化算法

標(biāo)準(zhǔn)DE算法首先要隨機(jī)產(chǎn)生一個(gè)種群,然后對種群中的個(gè)體進(jìn)行變異、交叉和選擇操作,從而產(chǎn)生新的一代,如此反復(fù)迭代最終收斂到最優(yōu)個(gè)體[7]。具體操作如下:

1)變異操作

對每個(gè)目標(biāo)矢量變異如下

式中,r1、r2、r3∈ [1,2,…,N]為隨機(jī)選擇的不同于i的互不相同的3個(gè)數(shù);di(n)為第n代產(chǎn)生的新個(gè)體,F(xiàn) ∈ [0,2]為縮放因子。

2)交叉操作

對于目標(biāo)矢量di(n),將與式(1)中產(chǎn)生的變異矢量Di(n+1),按如下規(guī)則進(jìn)行交叉產(chǎn)生實(shí)驗(yàn)矢量:

式中,R∈[0,1]為交叉概率因子。

3)選擇操作

DE在交叉操作之后,通常采用貪婪選擇產(chǎn)生如下子代:凡交叉后所產(chǎn)生個(gè)體之目標(biāo)函數(shù)優(yōu)于其父體,就代替父代進(jìn)入再下一代循環(huán);否持父代不變。

1.2 改進(jìn)的差分進(jìn)化算法

針對標(biāo)準(zhǔn)DE算法易陷入早熟的缺點(diǎn),在變異和交叉操作中引入文獻(xiàn)[6]提出的自適應(yīng)縮放因子F及交叉概率因子R:

式中,F(xiàn)max為0.6,F(xiàn)min為0.2,Rmin為0.2,Rmax為0.9,nmax為迭代的最大代數(shù)。縮放因子F和交叉概率因子R的大小對算法的收斂性和收斂速度有極大的影響。為了在搜索的初始階段保持種群的多樣性,進(jìn)行全局搜索,而在搜索的后期應(yīng)加強(qiáng)局部搜索能力和加速收斂速度,以提高算法的精度。該改進(jìn)DE算法能夠很好地平衡局部搜索能力和全局搜索能力。該改進(jìn)算法的具體步驟如下:

1)創(chuàng)建初始群體;

2)計(jì)算群體中個(gè)體的適應(yīng)度;

3)判斷是否滿足收斂準(zhǔn)則,若滿足則輸出最佳個(gè)體,否則繼續(xù)迭代;

4)自適應(yīng)變異操作;

5)自適應(yīng)交叉操作;

6)選擇最佳個(gè)體作為新父代;轉(zhuǎn)到第2)步驟。

2 用改進(jìn)的差分進(jìn)化算法綜合非均勻線陣

將該改進(jìn)的差分進(jìn)化算法用來綜合非均勻線陣,在進(jìn)化過程中增加了改進(jìn)DE算法預(yù)處理和后處理兩個(gè)步驟,因而在優(yōu)化過程中不需要反復(fù)測定陣元是否滿足條件,簡化了優(yōu)化過程。具體描述如下:

1)初始群體的創(chuàng)建

該直線陣的優(yōu)化參數(shù)即各點(diǎn)源的坐標(biāo)di,在[0,L]的范圍內(nèi)隨機(jī)產(chǎn)生,并在優(yōu)化的過程中不斷趨近于最優(yōu)值。無論是隨機(jī)產(chǎn)生的還是進(jìn)化得到的最優(yōu)值di,都需要測定其是否滿足最小間距條件,這樣會使優(yōu)化過程非常復(fù)雜。非均勻線陣的約束條件為:為了從物理上保證最大陣列孔徑,在兩端各放置一個(gè)陣元,即,dN=L,d1=0,假設(shè)前N-1個(gè)陣元都向后占據(jù)長度為d,則共有(N-1)d的區(qū)間上不能分布陣元,這樣孔徑上共剩余的區(qū)間為:S=L-(N-1)d,在區(qū)間[0,S]上隨機(jī)生成N-2個(gè)隨機(jī)數(shù)并按照從小到大的順序排列,這樣即可生成陣元向量:

不難證明,上述方法生成的個(gè)體滿足了陣元數(shù)為N,孔徑為L,最小陣元間距為d。再根據(jù)上述描述,可以隨機(jī)生成M個(gè)向量X構(gòu)成初始種群。

2)改進(jìn)DE算法預(yù)處理和后處理

由于陣列的陣元間距約束,通過通用的DE算法交叉變異得到子代群體很有可能不再滿足陣元間的距離約束。為了避免該問題的出現(xiàn),需要對父代群體進(jìn)行差分操作預(yù)處理提取基因信息,然后對基因信息進(jìn)行自適應(yīng)交叉和自適應(yīng)變異兩種差分操作,最后對新的基因信息矩陣進(jìn)行差分操作后處理,得到子代群體。

令由陣元數(shù)N和最小陣元間距d確定的數(shù)量矩陣為約束矩陣:

定義1:由選擇后的形式如F父代群體F1到差分操作(廣義交叉和廣義變異)前的基因矩陣P的如下變換為DE算法操作預(yù)處理:

定義2:交叉和變異操作之后的基因信息矩陣P1到子代群體F2的DE算法操作后處理:

3)改進(jìn)DE算法的變異和交叉操作

通過預(yù)處理得到的父代個(gè)體,按照式(4)進(jìn)行自適應(yīng)變異操作,產(chǎn)生變異矢量Di(n+1),自適應(yīng)縮放因子F由式(6)確定。再判斷變異矢量是否在[0,S],若不在,將變異矢量用[0,S]區(qū)間內(nèi)的隨機(jī)數(shù)取代,最后對該變異矢量的元素從小到大排列;對于目標(biāo)矢量和變異矢量按照式(5),產(chǎn)生實(shí)驗(yàn)矢量Ui,j,其中自適應(yīng)交叉因子按照式(7)確定。

3 仿真實(shí)例

為了驗(yàn)證改進(jìn)的DE算法在天線應(yīng)用中的有效性和穩(wěn)健性,下面用它綜合兩例線陣具有不同陣元數(shù)同一孔徑非均勻線陣,并分別與同一孔徑同一陣元數(shù)的均勻線陣進(jìn)行比較。

仿真實(shí)例1:對于陣列孔徑為9.744λ(λ為波長),陣元數(shù)為17,任意陣元間距不小于0.5λ的非均勻線陣。算法的基本參數(shù)為:種群數(shù)為100,終止代數(shù)為300,采用截?cái)噙x擇,截?cái)嚅y值為0.5。為保證該方法的有效性,隨機(jī)進(jìn)行了9次仿真實(shí)驗(yàn),表1列出了優(yōu)化后的PSLL最優(yōu)線陣的陣元坐標(biāo)和陣元間距,PSLL值為-20.080 1dB,圖2為最優(yōu)非均勻線陣和均勻線陣方向圖。仿真結(jié)果表明:該方法可用于非均勻天線綜合,有效地降低陣列天線最大旁瓣電平。

表1 仿真實(shí)例優(yōu)化的陣元坐標(biāo)Tab.1 The element positions in simulation

圖2 陣元數(shù)為17均勻陣與非均勻陣方向圖比較Fig.2 Comparison of Radiation pattern for the non-uniformly and uniform 17-element array

仿真實(shí)例2:圖3為陣列孔徑為9.744λ(λ為波長),陣元數(shù)為10的均勻陣列和非均勻線陣的方向圖,算法參數(shù)與仿真實(shí)例1相同。從圖中可以看出,均勻陣列的方向圖會出現(xiàn)柵瓣,而DE優(yōu)化的非均勻陣列沒有,因此該方法能有效避免柵瓣。圖4為仿真實(shí)例的收斂曲線,可以看出該方法具有高魯棒性,快速達(dá)到預(yù)期目標(biāo)。

圖3 陣元數(shù)為10均勻陣與非均勻陣方向圖比較Fig.3 Comparison of Radiation pattern for the non-uniformly and uniform 10-element array

圖4 DE收斂曲線Fig.4 Convergence characteristics of DE

仿真實(shí)例3:運(yùn)用遺傳算法(GA)綜合仿真實(shí)例1,GA的基本參數(shù)為:種群數(shù)為200,最大迭代次數(shù)為300,采用截?cái)噙x擇,截?cái)嚅撝禐?.5,單點(diǎn)交叉,交叉概率0.6,變異概率為m =0.3-0.29n/nmax,隨機(jī)運(yùn)行9次。圖5為DE和GA算法隨機(jī)運(yùn)行9次最大旁瓣電平值對比,由圖可知,DE算法得到的結(jié)果比GA算法更優(yōu),算法更加穩(wěn)定。

圖5 GA和DE算法運(yùn)行9次的maxPSLL對比Fig.5 Contrast of maxPSLL by GA and DE running nine times

4 結(jié)論

本文將改進(jìn)的差分進(jìn)化算法引入非均勻陣列綜合。該改進(jìn)的DE算法在天線綜合過程中,增加了預(yù)處理和后處理兩個(gè)步驟,簡化了綜合過程。仿真結(jié)果表明:該方法能有效地改善其陣列天線的性能,迅速找到最佳陣列天線單元的位置,簡單實(shí)用,快速有效,魯棒性和穩(wěn)定性好,為解決天線綜合這一問題提供了有益的參考。

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