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太陽模擬器中正方形光學(xué)積分器的設(shè)計(jì)與分析

2014-11-08 06:58李光云張國玉王鵬偉豆寶峰宋文武
應(yīng)用光學(xué) 2014年1期
關(guān)鍵詞:積分器均勻度透鏡

李光云,張國玉,2,付 明,王鵬偉,豆寶峰,宋文武

(1.長春理工大學(xué)光電工程學(xué)院,吉林 長春130022;2.吉林省光電測控儀器工程技術(shù)研究中心,吉林 長春130022;3.白城兵器試驗(yàn)中心,吉林 白城137001;4.國營第5308廠,江蘇 揚(yáng)州225009)

引言

太陽模擬器是一種在實(shí)驗(yàn)室中模擬太陽光輻照特性的試驗(yàn)與測試設(shè)備,可以在地面提供與真實(shí)太陽相似的光譜分布和穩(wěn)定均勻且連續(xù)可控的輻照強(qiáng)度??稍诳臻g技術(shù)、遙感技術(shù)、氣象監(jiān)測、生物育種和太陽能產(chǎn)業(yè)等領(lǐng)域應(yīng)用。太陽模擬器主要是由氙燈、橢球面聚光鏡、光學(xué)積分器(場鏡和投影鏡)、準(zhǔn)直物鏡等組成。采用具有軸對稱性且接近太陽光譜的氙燈作為光源,位于橢球面聚光鏡第一焦點(diǎn)處的光源發(fā)出的光束會聚后反射通過光學(xué)積分器、視場光闌和準(zhǔn)直物鏡后以平行光射出,形成一個(gè)輻照均勻分布的輻照面,從而模擬了來自“無窮遠(yuǎn)”處的太陽[1-2]。

隨著技術(shù)的發(fā)展和應(yīng)用領(lǐng)域越來越廣泛,對于高質(zhì)量高精度的太陽模擬器的研究更加迫切,輻照均勻性是衡量太陽模擬器的一個(gè)重要指標(biāo),光學(xué)積分器是實(shí)現(xiàn)其高指標(biāo)輻照均勻性的關(guān)鍵部件,所以研究高質(zhì)量的光學(xué)積分器具有很大的應(yīng)用價(jià)值。本文根據(jù)正方形光學(xué)積分器的組成和工作原理,對正方形光學(xué)積分器的設(shè)計(jì)原理進(jìn)行了研究,通過模擬仿真驗(yàn)證了設(shè)計(jì)的合理性。

1 光學(xué)積分器系統(tǒng)

光學(xué)積分器是滿足太陽模擬器輻照均勻性要求的關(guān)鍵部件,它是由前后兩組對稱排列的透鏡陣列組成,如圖1所示。前組透鏡陣列稱為場鏡元素透鏡組,后組透鏡陣列稱為投影鏡元素透鏡組。場鏡組和投影鏡組各由多個(gè)小元素透鏡按中心對稱方式排列組成,并且分別膠合在光膠板上。場鏡組中每一個(gè)元素透鏡分別與投影鏡組的元素透鏡一一對應(yīng),且同光軸,構(gòu)成一個(gè)光通道。從結(jié)構(gòu)上講,光學(xué)積分器是一個(gè)并列多光通道系統(tǒng),圖1中所示為對稱型透射式光學(xué)積分器。

圖1 對稱型透射式光學(xué)積分器Fig.1 Symmetric transmissive optical integrator

對稱型透射式光學(xué)積分器系統(tǒng)2個(gè)陣列中的元素透鏡的數(shù)目和光學(xué)參數(shù)都相同。元素透鏡通光口徑形狀和要求的太陽模擬器輻照面的形狀為相似形,當(dāng)輻照面為長方形時(shí),光學(xué)積分器也應(yīng)當(dāng)是長方形,且長寬比一致,以達(dá)到最佳的勻光效果。本文所研究的太陽模擬器輻照面形狀為長寬比是1:1的正方形,元素透鏡的形狀也應(yīng)選擇長寬比為1:1的正方形[3]。

光學(xué)積分器的作用是保證光源對輻照面均勻照明,體現(xiàn)在對由光源發(fā)出的光線進(jìn)行微分再積分,從而實(shí)現(xiàn)均勻照明。工作原理如圖2所示,它把光源經(jīng)橢球聚光鏡在場鏡組通光口徑內(nèi)所形成的照度分布,經(jīng)場鏡組分割,投影鏡組成像,然后由疊加透鏡再成像,實(shí)現(xiàn)了照度分布不均勻的光照明均勻化,最后傳遞到所要求的輻照面上[4]。

圖2 光學(xué)積分器成像原理Fig.2 Principle of integrator imaging

2 光學(xué)積分器的光學(xué)系統(tǒng)設(shè)計(jì)

2.1 光學(xué)積分器通道數(shù)的確定

不同的光學(xué)系統(tǒng)對光學(xué)積分器的通道數(shù)目要求不一樣,選擇適當(dāng)?shù)耐ǖ罃?shù)對充分發(fā)揮積分器的勻光作用非常關(guān)鍵。通道數(shù)太少,則失去了利用元素透鏡將寬光束分割成細(xì)光束的作用,輻照面達(dá)不到均勻的效果。通道數(shù)太多,通常能改善高斯光束的照明均勻性,但在均勻光照面和光學(xué)積分器通光口徑一定的前提下,積分器元素透鏡的口徑會變小,它們被成像的倍率變大,將使積分器系統(tǒng)的結(jié)構(gòu)變得復(fù)雜。同時(shí)積分器元素透鏡的尺寸過小將給加工和定位帶來困難,可能由于這些難以掌握的誤差反而降低了輻照面的均勻性[5-6]。因此,合理地選定積分器的光通道數(shù)目是光學(xué)積分器設(shè)計(jì)中必須考慮的問題。

考慮到光源在橢球面反光鏡第2焦點(diǎn)處(即場鏡處)所形成光斑的大?。é?0.0mm)以及視場光闌口徑的大?。é?4.68mm),選擇積分器的口徑為Φ48.0mm(場鏡組和投影鏡組相同)。設(shè)計(jì)的原則為既可以充分分割在橢球面反射鏡第2焦點(diǎn)處所形成的光斑,又可以使光線經(jīng)積分器分割疊加后充滿整個(gè)視場光闌的口徑,從而最大限度地利用光源能量。考慮到加工的難度和定位的精度以及對照明系統(tǒng)的勻光作用,選擇積分器系統(tǒng)為36個(gè)光通道,6×6陣列。由于元素透鏡的形狀為正方形,所以每個(gè)元素透鏡的尺寸為8mm,可以滿足輻照面均勻性的要求,又不會因?yàn)槌叽邕^小而給加工帶來困難。積分器的二維及三維圖如圖3和圖4所示。

2.2 光學(xué)積分器元素透鏡參數(shù)的確定

根據(jù)積分器與準(zhǔn)直鏡相對孔徑的匹配性,光學(xué)積分器每個(gè)元素透鏡的相對孔徑與準(zhǔn)直鏡相對孔徑相同,即1:4。小元素透鏡的焦距可由相對孔徑公式D/f′=1/4得出:

式中D為小正方形元素內(nèi)切圓的直徑,即小正方形元素的邊長。

正方形平凸元素透鏡的曲率半徑:

式中n為光學(xué)玻璃的折射率。

取元素透鏡厚度為d1(3mm),光膠板厚度為d2(7mm),積分器場鏡像方主面與投影鏡物方主面的間隔為焦距f′,透鏡間隔L為

2.3 積分器像差對均勻性的影響

由像差理論可知,增大像面彎曲、畸變、光闌和彗差等像差可提高軸外的照度。積分器成像的共軛關(guān)系如圖5所示,增大場鏡的物面畸變,則均勻輻照面軸外點(diǎn)光線高度向輻照面中心收斂,減少了均勻面邊緣輻照度過渡帶的寬度,所以增大場鏡面畸變對提高均勻性有利。但在光學(xué)積分器系統(tǒng)中聚光鏡的出瞳經(jīng)場鏡成像在該場鏡同一光通道中的投影鏡的通光口徑之內(nèi),場鏡光闌彗差大時(shí),其光闌球差也大,大的光闌軸外球差使得聚光鏡出瞳邊緣的成像光線中,有相當(dāng)一部分落在同一光通道的投影鏡通光口徑之外,這些光線在無像差影響時(shí)本應(yīng)由場鏡同一光通道的投影鏡投射到均勻輻照面的邊緣,但由于場鏡光闌軸外球差的影響,這些光線卻落到了相應(yīng)投影鏡口徑外而成為有害的雜光[7-10]。這實(shí)際上降低了輻照面邊緣的輻照度,也即降低了輻照面的均勻度,同時(shí)減少了均勻輻照面內(nèi)的有效輻射通量。所以場鏡元素透鏡應(yīng)當(dāng)處于光闌球差小的彎曲狀態(tài)[11]。

圖5 光學(xué)積分器成像共軛關(guān)系Fig.5 Conjugation relationship of integrator imaging

3 基于Lighttools軟件對正方形光學(xué)積分器的仿真分析

將每個(gè)光學(xué)元件的參數(shù)輸入到Lighttools照明仿真軟件進(jìn)行建模,選擇2 000萬條光線進(jìn)行蒙特卡洛光線追擊,仿真結(jié)果如圖6所示。

由圖6可知,光學(xué)系統(tǒng)的設(shè)計(jì)滿足輻照面為200mm×200mm的正方形要求,并且最小輻照度達(dá)到了一個(gè)太陽常數(shù)(1 353W/m2)。在200 mm×200mm輻照面范圍內(nèi),輻照度的最大值為1 470.6W·m-2,最小值為1 414.8W·m-2,由公式

可計(jì)算出在200mm×200mm的輻照面內(nèi)不均勻度為1.93%。雖然滿足±2%的指標(biāo)要求,但是仿真結(jié)果與指標(biāo)接近會給實(shí)際的裝調(diào)帶來困難,所以需要對光學(xué)系統(tǒng)進(jìn)行進(jìn)一步的優(yōu)化。

圖6 仿真結(jié)果Fig.6 Simulation results

4 投影鏡離焦改善輻照面的均勻性

雖然光學(xué)積分器的相對孔徑不宜過大,但有時(shí)為了縮短太陽模擬器的光學(xué)系統(tǒng)使整體結(jié)構(gòu)緊湊,要求光學(xué)積分器必須有較大的相對孔徑。這種情況下,光學(xué)積分器過大的球差和軸外球差使均勻光照面內(nèi)成像光線離散很大。受材料和結(jié)構(gòu)限制,光學(xué)積分器本身又不能校正這些像差,這對均勻度不利。利用光學(xué)積分器的成像特性,縮短其場鏡組和投影鏡組的空氣間隔,即投影鏡組內(nèi)各小透鏡離焦,可以減小軸外光線成像高度的,從而離散取得好的效果[12]。利用這種方法可以改善輻照面的均勻度。

下面通過在Lighttools軟件中對投影鏡組離焦并且進(jìn)行模擬仿真來驗(yàn)證這種方法的正確性,同時(shí)優(yōu)化所設(shè)計(jì)的光學(xué)系統(tǒng)。離焦后的仿真效果如圖7所示。

圖7 仿真效果Fig.7 Simulation results

在輻照面上,以輻照面中心為基點(diǎn),把輻照面分為50mm×50mm,100mm×100mm,150mm×150mm和200mm×200mm 4個(gè)區(qū)域進(jìn)行輻照不均勻度測試,并且根據(jù)公式(4)可得出每個(gè)區(qū)域輻照不均勻度,如表1所示。

表1 測試數(shù)據(jù)Table 1 Text data

由表1中數(shù)據(jù)可知,投影鏡離焦可進(jìn)一步改善輻照面的均勻性,在200mm×200mm的方形輻照面上輻照不均勻度為1.72%,滿足輻照面輻照不均勻度≤±2%的指標(biāo)要求。

5 結(jié)論

本文設(shè)計(jì)了一種可以明顯提高太陽模擬器輻照均勻性的正方形光學(xué)積分器,著重對光學(xué)積分器的光學(xué)參數(shù)進(jìn)行理論計(jì)算,分析了積分器像差對均勻性的影響,并且通過Lighttools仿真軟件驗(yàn)證了設(shè)計(jì)的合理性,最后通過采取投影鏡的離焦方法進(jìn)一步提高了輻照面的輻照均勻性,在200 mm×200mm的方形輻照面上輻照不均勻度達(dá)到了1.72%,滿足了使用要求。

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