周秀峰　凌偉峰　周玲

摘 要：晶片電容生產(chǎn)企業(yè)的“球磨-涂工-印刷”是在“無(wú)塵室”車間完成的。經(jīng)過(guò)詳細(xì)的工藝分析與物料衡算，得出該類車間廢氣在整個(gè)電容生產(chǎn)工藝中是重要的大氣污染源。以珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目為例，對(duì)該企業(yè)現(xiàn)有項(xiàng)目“無(wú)塵室”廢氣治理措施進(jìn)行分析，指明了現(xiàn)有項(xiàng)目難以滿足印刷行業(yè)VOCs排放標(biāo)準(zhǔn)及珠三角有機(jī)廢氣控制要求，在冷凝法、膜分離法、吸附法、生物法、燃燒法及低溫等離子體法的對(duì)比選擇中選擇了“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”作為改進(jìn)措施，并核算了采用該種方法后VOCs減排量與廢活性炭更換量。

關(guān)鍵詞：環(huán)評(píng) 無(wú)塵室 VOCs 電子 低溫等離子體方法

中圖分類號(hào)：X83 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A 文章編號(hào)：1674-098X（2014）07（b）-0099-02

目前，由于廣東省經(jīng)濟(jì)高速發(fā)展，印刷、汽車等行業(yè)VOCs排放量大，加上對(duì)VOCs排放導(dǎo)致的光化學(xué)煙霧污染問題認(rèn)識(shí)不足，對(duì)VOCs污染防治重視不夠，以及VOCs排放監(jiān)控難度大，導(dǎo)致珠江三角洲地區(qū)光化學(xué)煙霧污染時(shí)有發(fā)生，區(qū)域性灰霾天數(shù)每年維持在高位水平。為此，廣東省出臺(tái)了《關(guān)于珠江三角洲地區(qū)嚴(yán)格控制工業(yè)企業(yè)揮發(fā)性有機(jī)物（VOCs）排放的意見》，意見指出應(yīng)實(shí)行VOCs總量控制制度，同時(shí)開展印刷及涉及表面涂裝電子設(shè)備企業(yè)的整治。

晶片電容生產(chǎn)企業(yè)中使用印刷等生產(chǎn)工藝，其“球磨-涂工-印刷”工藝中通常會(huì)采用大量的有機(jī)溶劑，由于工藝需要，一般廠家都會(huì)將其集中在“無(wú)塵室”內(nèi)進(jìn)行生產(chǎn)，廢氣統(tǒng)一收集，無(wú)組織散發(fā)量較少。但由于該車間的有機(jī)溶劑除部分進(jìn)入到廢料中，大部分進(jìn)入了廢氣中，導(dǎo)致后續(xù)廢氣治理工藝的負(fù)荷較大。

該以“珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目”為例，對(duì)現(xiàn)有項(xiàng)目“無(wú)塵室”車間的產(chǎn)污環(huán)節(jié)和物料平衡進(jìn)行了詳細(xì)的分析，找出“無(wú)塵室”在正常工況下的主要大氣污染源，并在總結(jié)已有廢氣治理措施存在的問題基礎(chǔ)上提出相關(guān)“以新帶老”措施，為相關(guān)VOCs類企業(yè)廢氣減排提供參考。

1 “無(wú)塵室”裝置的工藝流程

以珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目為例，晶片電容“無(wú)塵室”典型工藝流程的示意圖見圖1。

1.1 球磨與涂工工藝

通過(guò)球磨機(jī)將陶瓷粉末及相關(guān)添加劑混合形成漿料，并使陶瓷漿料達(dá)到一定的粒徑和粘度，球磨轉(zhuǎn)數(shù)35～45 rpm，球磨時(shí)間4～25 h。再利用流涎方式將漿料刮到PET film上，形成具有一定厚度的陶瓷薄膜，烘干溫度30～90 ℃。原料使用比例為（陶瓷粉末：粘接劑：塑化劑：二甲苯：酒精=45∶3∶1∶15∶10）。

內(nèi)電極印刷工藝

通過(guò)絲網(wǎng)印刷方式將內(nèi)電極鎳膏印刷至陶瓷薄膜上形成內(nèi)層薄帶，烘干溫度70～85 ℃。原料使用比例為（鎳：松油醇：陶瓷粉：乙基纖維素=42∶28∶20∶10）。

2 大氣污染源分析及污染源核算

2.1 大氣污染源分析

通過(guò)對(duì)晶片電容“無(wú)塵室”裝置的工藝流程可知，主要的大氣污染物主要為二甲苯、VOCs等。由于這些工藝都集中在封閉車間內(nèi)，無(wú)組織散發(fā)影響極小，故忽略不計(jì)。

2.2 VOCs污染源核算（不考慮無(wú)組織）

對(duì)現(xiàn)有項(xiàng)目“無(wú)塵室”實(shí)際使用有機(jī)溶劑統(tǒng)計(jì)資料，根據(jù)物料平衡推算源強(qiáng)，另外以廠方提供的監(jiān)測(cè)資料來(lái)驗(yàn)證源強(qiáng)數(shù)據(jù)。具體的物料衡算圖見圖2。

（1）根據(jù)VOCs物料衡算情況，生產(chǎn)使用的有機(jī)溶劑部分用于清洗漿料過(guò)濾及清洗內(nèi)壁，剩余部分幾乎全部進(jìn)入廢氣中。（2）廢氣經(jīng)過(guò)噴淋以及活性炭處理后，VOCs的排放量依然很大，其中二甲苯的比例較大。（3）由于乙醇易溶于水，而噴淋液最終進(jìn)入到廢水處理設(shè)施，對(duì)后續(xù)廢水處理影響較大。

3 已有大氣防治措施存在的主要問題

（1）廠方已采用的廢氣治理措施是“水噴淋+活性炭吸附”，根據(jù)驗(yàn)收監(jiān)測(cè)報(bào)告及廠方的歷年監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)，“無(wú)塵室”廢氣處理裝置出口風(fēng)量高達(dá)80000 m3/h（標(biāo)況），二甲苯與VOCs排放濃度分別小于40 mg/m3與80 mg/m3，排放速率分別約為3.5 kg/h和5.8 kg/h，污染物去除率約為80%左右，兩個(gè)指標(biāo)均滿足地方廢氣排放要求，但不能滿足《印刷行業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放標(biāo)準(zhǔn)》（DB44/815-2010）的二甲苯及VOCs排放要求，同時(shí)難以滿足珠三角相關(guān)VOCs總量控制要求。（2）由于二甲苯與乙醇用量較大，且活性炭吸附裝置無(wú)再生設(shè)備，故廢活性炭更換量較大，更換量甚至達(dá)到150 t/年以上。

4 廢氣治理措施改造及改造后VOCs與活性炭用量消減核算

為減少最終VOCs排放量與活性炭更換量，擬通過(guò)各類廢氣處理措施比選后選擇最合適的措施對(duì)現(xiàn)有治理措施進(jìn)行改造。

4.1 有機(jī)廢氣處理方法對(duì)比選擇

參照《大氣污染治理工程技術(shù)導(dǎo)則》（HJ2000-2010）及《大氣污染控制工程》（第二版）（參考文獻(xiàn)），本項(xiàng)目將各類有機(jī)廢氣處理方法的適用范圍列于表1。

該企業(yè)風(fēng)量較大，濃度較低，同時(shí)企業(yè)已具備活性炭吸附裝置，參照上表各類措施適用范圍，擬選定“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”來(lái)作為改造后的廢氣防治措施。參照《低溫等離子體技術(shù)處理低濃度甲苯廢氣的工業(yè)應(yīng)用》（第13屆中國(guó)電除塵學(xué)術(shù)會(huì)議論文集）低溫等離子體措施在佛山某化學(xué)有限公司的應(yīng)用，該公司進(jìn)口甲苯濃度為1～2mg/m3，處理效率可到95%以上。考慮工程的保證性因素，本項(xiàng)目將低溫等離子體的去除效率定為90%。故“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”去除率可保證在95%以上。

4.2 改造后VOCs的排放及活性炭消減情況

（1）大氣治理措施改造后，由于去除率提高到95%以上，廢氣VOCs與二甲苯外排量大大減少，并能夠達(dá)到《印刷行業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放標(biāo)準(zhǔn)》（DB44/815-2010）的二甲苯及VOCs排放要求。

（2）由于活性炭采取了高溫脫附催化燃燒設(shè)備，活性炭更換量大大減少，由之前150 t/年可減少到50 t/年。

5 結(jié)語(yǔ)

（1）晶片電容“無(wú)塵室”生產(chǎn)裝置產(chǎn)生的VOCs量較大，單純采用活性炭吸附，廢氣污染物很難滿足環(huán)境要求，同時(shí)更換的活性炭用量很大。

（2）對(duì)這類VOCs產(chǎn)生量較大的污染源，應(yīng)優(yōu)先考慮多種治理措施聯(lián)用，盡量減少外排量，降低其對(duì)外環(huán)境的影響程度。endprint

摘 要：晶片電容生產(chǎn)企業(yè)的“球磨-涂工-印刷”是在“無(wú)塵室”車間完成的。經(jīng)過(guò)詳細(xì)的工藝分析與物料衡算，得出該類車間廢氣在整個(gè)電容生產(chǎn)工藝中是重要的大氣污染源。以珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目為例，對(duì)該企業(yè)現(xiàn)有項(xiàng)目“無(wú)塵室”廢氣治理措施進(jìn)行分析，指明了現(xiàn)有項(xiàng)目難以滿足印刷行業(yè)VOCs排放標(biāo)準(zhǔn)及珠三角有機(jī)廢氣控制要求，在冷凝法、膜分離法、吸附法、生物法、燃燒法及低溫等離子體法的對(duì)比選擇中選擇了“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”作為改進(jìn)措施，并核算了采用該種方法后VOCs減排量與廢活性炭更換量。

關(guān)鍵詞：環(huán)評(píng) 無(wú)塵室 VOCs 電子 低溫等離子體方法

中圖分類號(hào)：X83 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A 文章編號(hào)：1674-098X（2014）07（b）-0099-02

目前，由于廣東省經(jīng)濟(jì)高速發(fā)展，印刷、汽車等行業(yè)VOCs排放量大，加上對(duì)VOCs排放導(dǎo)致的光化學(xué)煙霧污染問題認(rèn)識(shí)不足，對(duì)VOCs污染防治重視不夠，以及VOCs排放監(jiān)控難度大，導(dǎo)致珠江三角洲地區(qū)光化學(xué)煙霧污染時(shí)有發(fā)生，區(qū)域性灰霾天數(shù)每年維持在高位水平。為此，廣東省出臺(tái)了《關(guān)于珠江三角洲地區(qū)嚴(yán)格控制工業(yè)企業(yè)揮發(fā)性有機(jī)物（VOCs）排放的意見》，意見指出應(yīng)實(shí)行VOCs總量控制制度，同時(shí)開展印刷及涉及表面涂裝電子設(shè)備企業(yè)的整治。

晶片電容生產(chǎn)企業(yè)中使用印刷等生產(chǎn)工藝，其“球磨-涂工-印刷”工藝中通常會(huì)采用大量的有機(jī)溶劑，由于工藝需要，一般廠家都會(huì)將其集中在“無(wú)塵室”內(nèi)進(jìn)行生產(chǎn)，廢氣統(tǒng)一收集，無(wú)組織散發(fā)量較少。但由于該車間的有機(jī)溶劑除部分進(jìn)入到廢料中，大部分進(jìn)入了廢氣中，導(dǎo)致后續(xù)廢氣治理工藝的負(fù)荷較大。

該以“珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目”為例，對(duì)現(xiàn)有項(xiàng)目“無(wú)塵室”車間的產(chǎn)污環(huán)節(jié)和物料平衡進(jìn)行了詳細(xì)的分析，找出“無(wú)塵室”在正常工況下的主要大氣污染源，并在總結(jié)已有廢氣治理措施存在的問題基礎(chǔ)上提出相關(guān)“以新帶老”措施，為相關(guān)VOCs類企業(yè)廢氣減排提供參考。

1 “無(wú)塵室”裝置的工藝流程

以珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目為例，晶片電容“無(wú)塵室”典型工藝流程的示意圖見圖1。

1.1 球磨與涂工工藝

通過(guò)球磨機(jī)將陶瓷粉末及相關(guān)添加劑混合形成漿料，并使陶瓷漿料達(dá)到一定的粒徑和粘度，球磨轉(zhuǎn)數(shù)35～45 rpm，球磨時(shí)間4～25 h。再利用流涎方式將漿料刮到PET film上，形成具有一定厚度的陶瓷薄膜，烘干溫度30～90 ℃。原料使用比例為（陶瓷粉末：粘接劑：塑化劑：二甲苯：酒精=45∶3∶1∶15∶10）。

內(nèi)電極印刷工藝

通過(guò)絲網(wǎng)印刷方式將內(nèi)電極鎳膏印刷至陶瓷薄膜上形成內(nèi)層薄帶，烘干溫度70～85 ℃。原料使用比例為（鎳：松油醇：陶瓷粉：乙基纖維素=42∶28∶20∶10）。

2 大氣污染源分析及污染源核算

2.1 大氣污染源分析

通過(guò)對(duì)晶片電容“無(wú)塵室”裝置的工藝流程可知，主要的大氣污染物主要為二甲苯、VOCs等。由于這些工藝都集中在封閉車間內(nèi)，無(wú)組織散發(fā)影響極小，故忽略不計(jì)。

2.2 VOCs污染源核算（不考慮無(wú)組織）

對(duì)現(xiàn)有項(xiàng)目“無(wú)塵室”實(shí)際使用有機(jī)溶劑統(tǒng)計(jì)資料，根據(jù)物料平衡推算源強(qiáng)，另外以廠方提供的監(jiān)測(cè)資料來(lái)驗(yàn)證源強(qiáng)數(shù)據(jù)。具體的物料衡算圖見圖2。

（1）根據(jù)VOCs物料衡算情況，生產(chǎn)使用的有機(jī)溶劑部分用于清洗漿料過(guò)濾及清洗內(nèi)壁，剩余部分幾乎全部進(jìn)入廢氣中。（2）廢氣經(jīng)過(guò)噴淋以及活性炭處理后，VOCs的排放量依然很大，其中二甲苯的比例較大。（3）由于乙醇易溶于水，而噴淋液最終進(jìn)入到廢水處理設(shè)施，對(duì)后續(xù)廢水處理影響較大。

3 已有大氣防治措施存在的主要問題

（1）廠方已采用的廢氣治理措施是“水噴淋+活性炭吸附”，根據(jù)驗(yàn)收監(jiān)測(cè)報(bào)告及廠方的歷年監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)，“無(wú)塵室”廢氣處理裝置出口風(fēng)量高達(dá)80000 m3/h（標(biāo)況），二甲苯與VOCs排放濃度分別小于40 mg/m3與80 mg/m3，排放速率分別約為3.5 kg/h和5.8 kg/h，污染物去除率約為80%左右，兩個(gè)指標(biāo)均滿足地方廢氣排放要求，但不能滿足《印刷行業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放標(biāo)準(zhǔn)》（DB44/815-2010）的二甲苯及VOCs排放要求，同時(shí)難以滿足珠三角相關(guān)VOCs總量控制要求。（2）由于二甲苯與乙醇用量較大，且活性炭吸附裝置無(wú)再生設(shè)備，故廢活性炭更換量較大，更換量甚至達(dá)到150 t/年以上。

4 廢氣治理措施改造及改造后VOCs與活性炭用量消減核算

為減少最終VOCs排放量與活性炭更換量，擬通過(guò)各類廢氣處理措施比選后選擇最合適的措施對(duì)現(xiàn)有治理措施進(jìn)行改造。

4.1 有機(jī)廢氣處理方法對(duì)比選擇

參照《大氣污染治理工程技術(shù)導(dǎo)則》（HJ2000-2010）及《大氣污染控制工程》（第二版）（參考文獻(xiàn)），本項(xiàng)目將各類有機(jī)廢氣處理方法的適用范圍列于表1。

該企業(yè)風(fēng)量較大，濃度較低，同時(shí)企業(yè)已具備活性炭吸附裝置，參照上表各類措施適用范圍，擬選定“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”來(lái)作為改造后的廢氣防治措施。參照《低溫等離子體技術(shù)處理低濃度甲苯廢氣的工業(yè)應(yīng)用》（第13屆中國(guó)電除塵學(xué)術(shù)會(huì)議論文集）低溫等離子體措施在佛山某化學(xué)有限公司的應(yīng)用，該公司進(jìn)口甲苯濃度為1～2mg/m3，處理效率可到95%以上?？紤]工程的保證性因素，本項(xiàng)目將低溫等離子體的去除效率定為90%。故“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”去除率可保證在95%以上。

4.2 改造后VOCs的排放及活性炭消減情況

（1）大氣治理措施改造后，由于去除率提高到95%以上，廢氣VOCs與二甲苯外排量大大減少，并能夠達(dá)到《印刷行業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放標(biāo)準(zhǔn)》（DB44/815-2010）的二甲苯及VOCs排放要求。

（2）由于活性炭采取了高溫脫附催化燃燒設(shè)備，活性炭更換量大大減少，由之前150 t/年可減少到50 t/年。

5 結(jié)語(yǔ)

（1）晶片電容“無(wú)塵室”生產(chǎn)裝置產(chǎn)生的VOCs量較大，單純采用活性炭吸附，廢氣污染物很難滿足環(huán)境要求，同時(shí)更換的活性炭用量很大。

（2）對(duì)這類VOCs產(chǎn)生量較大的污染源，應(yīng)優(yōu)先考慮多種治理措施聯(lián)用，盡量減少外排量，降低其對(duì)外環(huán)境的影響程度。endprint

摘 要：晶片電容生產(chǎn)企業(yè)的“球磨-涂工-印刷”是在“無(wú)塵室”車間完成的。經(jīng)過(guò)詳細(xì)的工藝分析與物料衡算，得出該類車間廢氣在整個(gè)電容生產(chǎn)工藝中是重要的大氣污染源。以珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目為例，對(duì)該企業(yè)現(xiàn)有項(xiàng)目“無(wú)塵室”廢氣治理措施進(jìn)行分析，指明了現(xiàn)有項(xiàng)目難以滿足印刷行業(yè)VOCs排放標(biāo)準(zhǔn)及珠三角有機(jī)廢氣控制要求，在冷凝法、膜分離法、吸附法、生物法、燃燒法及低溫等離子體法的對(duì)比選擇中選擇了“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”作為改進(jìn)措施，并核算了采用該種方法后VOCs減排量與廢活性炭更換量。

關(guān)鍵詞：環(huán)評(píng) 無(wú)塵室 VOCs 電子 低溫等離子體方法

中圖分類號(hào)：X83 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A 文章編號(hào)：1674-098X（2014）07（b）-0099-02

目前，由于廣東省經(jīng)濟(jì)高速發(fā)展，印刷、汽車等行業(yè)VOCs排放量大，加上對(duì)VOCs排放導(dǎo)致的光化學(xué)煙霧污染問題認(rèn)識(shí)不足，對(duì)VOCs污染防治重視不夠，以及VOCs排放監(jiān)控難度大，導(dǎo)致珠江三角洲地區(qū)光化學(xué)煙霧污染時(shí)有發(fā)生，區(qū)域性灰霾天數(shù)每年維持在高位水平。為此，廣東省出臺(tái)了《關(guān)于珠江三角洲地區(qū)嚴(yán)格控制工業(yè)企業(yè)揮發(fā)性有機(jī)物（VOCs）排放的意見》，意見指出應(yīng)實(shí)行VOCs總量控制制度，同時(shí)開展印刷及涉及表面涂裝電子設(shè)備企業(yè)的整治。

晶片電容生產(chǎn)企業(yè)中使用印刷等生產(chǎn)工藝，其“球磨-涂工-印刷”工藝中通常會(huì)采用大量的有機(jī)溶劑，由于工藝需要，一般廠家都會(huì)將其集中在“無(wú)塵室”內(nèi)進(jìn)行生產(chǎn)，廢氣統(tǒng)一收集，無(wú)組織散發(fā)量較少。但由于該車間的有機(jī)溶劑除部分進(jìn)入到廢料中，大部分進(jìn)入了廢氣中，導(dǎo)致后續(xù)廢氣治理工藝的負(fù)荷較大。

該以“珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目”為例，對(duì)現(xiàn)有項(xiàng)目“無(wú)塵室”車間的產(chǎn)污環(huán)節(jié)和物料平衡進(jìn)行了詳細(xì)的分析，找出“無(wú)塵室”在正常工況下的主要大氣污染源，并在總結(jié)已有廢氣治理措施存在的問題基礎(chǔ)上提出相關(guān)“以新帶老”措施，為相關(guān)VOCs類企業(yè)廢氣減排提供參考。

1 “無(wú)塵室”裝置的工藝流程

以珠三角某電子企業(yè)電容擴(kuò)建項(xiàng)目為例，晶片電容“無(wú)塵室”典型工藝流程的示意圖見圖1。

1.1 球磨與涂工工藝

通過(guò)球磨機(jī)將陶瓷粉末及相關(guān)添加劑混合形成漿料，并使陶瓷漿料達(dá)到一定的粒徑和粘度，球磨轉(zhuǎn)數(shù)35～45 rpm，球磨時(shí)間4～25 h。再利用流涎方式將漿料刮到PET film上，形成具有一定厚度的陶瓷薄膜，烘干溫度30～90 ℃。原料使用比例為（陶瓷粉末：粘接劑：塑化劑：二甲苯：酒精=45∶3∶1∶15∶10）。

內(nèi)電極印刷工藝

通過(guò)絲網(wǎng)印刷方式將內(nèi)電極鎳膏印刷至陶瓷薄膜上形成內(nèi)層薄帶，烘干溫度70～85 ℃。原料使用比例為（鎳：松油醇：陶瓷粉：乙基纖維素=42∶28∶20∶10）。

2 大氣污染源分析及污染源核算

2.1 大氣污染源分析

通過(guò)對(duì)晶片電容“無(wú)塵室”裝置的工藝流程可知，主要的大氣污染物主要為二甲苯、VOCs等。由于這些工藝都集中在封閉車間內(nèi)，無(wú)組織散發(fā)影響極小，故忽略不計(jì)。

2.2 VOCs污染源核算（不考慮無(wú)組織）

對(duì)現(xiàn)有項(xiàng)目“無(wú)塵室”實(shí)際使用有機(jī)溶劑統(tǒng)計(jì)資料，根據(jù)物料平衡推算源強(qiáng)，另外以廠方提供的監(jiān)測(cè)資料來(lái)驗(yàn)證源強(qiáng)數(shù)據(jù)。具體的物料衡算圖見圖2。

（1）根據(jù)VOCs物料衡算情況，生產(chǎn)使用的有機(jī)溶劑部分用于清洗漿料過(guò)濾及清洗內(nèi)壁，剩余部分幾乎全部進(jìn)入廢氣中。（2）廢氣經(jīng)過(guò)噴淋以及活性炭處理后，VOCs的排放量依然很大，其中二甲苯的比例較大。（3）由于乙醇易溶于水，而噴淋液最終進(jìn)入到廢水處理設(shè)施，對(duì)后續(xù)廢水處理影響較大。

3 已有大氣防治措施存在的主要問題

（1）廠方已采用的廢氣治理措施是“水噴淋+活性炭吸附”，根據(jù)驗(yàn)收監(jiān)測(cè)報(bào)告及廠方的歷年監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)，“無(wú)塵室”廢氣處理裝置出口風(fēng)量高達(dá)80000 m3/h（標(biāo)況），二甲苯與VOCs排放濃度分別小于40 mg/m3與80 mg/m3，排放速率分別約為3.5 kg/h和5.8 kg/h，污染物去除率約為80%左右，兩個(gè)指標(biāo)均滿足地方廢氣排放要求，但不能滿足《印刷行業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放標(biāo)準(zhǔn)》（DB44/815-2010）的二甲苯及VOCs排放要求，同時(shí)難以滿足珠三角相關(guān)VOCs總量控制要求。（2）由于二甲苯與乙醇用量較大，且活性炭吸附裝置無(wú)再生設(shè)備，故廢活性炭更換量較大，更換量甚至達(dá)到150 t/年以上。

4 廢氣治理措施改造及改造后VOCs與活性炭用量消減核算

為減少最終VOCs排放量與活性炭更換量，擬通過(guò)各類廢氣處理措施比選后選擇最合適的措施對(duì)現(xiàn)有治理措施進(jìn)行改造。

4.1 有機(jī)廢氣處理方法對(duì)比選擇

參照《大氣污染治理工程技術(shù)導(dǎo)則》（HJ2000-2010）及《大氣污染控制工程》（第二版）（參考文獻(xiàn)），本項(xiàng)目將各類有機(jī)廢氣處理方法的適用范圍列于表1。

該企業(yè)風(fēng)量較大，濃度較低，同時(shí)企業(yè)已具備活性炭吸附裝置，參照上表各類措施適用范圍，擬選定“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”來(lái)作為改造后的廢氣防治措施。參照《低溫等離子體技術(shù)處理低濃度甲苯廢氣的工業(yè)應(yīng)用》（第13屆中國(guó)電除塵學(xué)術(shù)會(huì)議論文集）低溫等離子體措施在佛山某化學(xué)有限公司的應(yīng)用，該公司進(jìn)口甲苯濃度為1～2mg/m3，處理效率可到95%以上?？紤]工程的保證性因素，本項(xiàng)目將低溫等離子體的去除效率定為90%。故“活性炭吸附+高溫脫附催化燃燒工藝+低溫等離子體方法”去除率可保證在95%以上。

4.2 改造后VOCs的排放及活性炭消減情況

（1）大氣治理措施改造后，由于去除率提高到95%以上，廢氣VOCs與二甲苯外排量大大減少，并能夠達(dá)到《印刷行業(yè)揮發(fā)性有機(jī)化合物的排放標(biāo)準(zhǔn)》（DB44/815-2010）的二甲苯及VOCs排放要求。

（2）由于活性炭采取了高溫脫附催化燃燒設(shè)備，活性炭更換量大大減少，由之前150 t/年可減少到50 t/年。

5 結(jié)語(yǔ)

（1）晶片電容“無(wú)塵室”生產(chǎn)裝置產(chǎn)生的VOCs量較大，單純采用活性炭吸附，廢氣污染物很難滿足環(huán)境要求，同時(shí)更換的活性炭用量很大。

（2）對(duì)這類VOCs產(chǎn)生量較大的污染源，應(yīng)優(yōu)先考慮多種治理措施聯(lián)用，盡量減少外排量，降低其對(duì)外環(huán)境的影響程度。endprint