夏天東，張曉宇，徐仰濤，丁萬武，趙文軍

(1.蘭州理工大學(xué) 材料科學(xué)與工程學(xué)院，蘭州 730050；2.蘭州理工大學(xué) 有色金屬先進(jìn)加工與再利用省部共建國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室，蘭州 730050)

金屬鎳以其優(yōu)異的性能被廣泛應(yīng)用于航天、化工、電子、能源電池[1-2]等各個(gè)領(lǐng)域。通過電化學(xué)方法制備的電沉積鎳板，作為陽極原材料在電鍍工業(yè)中被大量使用。電沉積鎳板應(yīng)用于電鍍中所暴露的質(zhì)量問題主要表現(xiàn)為電鍍后有部分陽極殘?jiān)黐3]，且牌號(hào)相同、產(chǎn)地不同的電沉積鎳板用于電鍍后陽極殘?jiān)肯嗖詈艽骩4]，殘?jiān)鼤?huì)污染鍍液，增加企業(yè)生產(chǎn)成本。以上現(xiàn)象說明電沉積鎳作為原料應(yīng)用于生產(chǎn)后，其自身品質(zhì)對(duì)最終產(chǎn)品的出品率有一定作用，且國內(nèi)電沉積鎳板相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)中對(duì)電沉積鎳顯微組織結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能沒有明確要求，因此，人們對(duì)電沉積鎳板除化學(xué)成分之外的性能了解不多。另外，目前市場上已經(jīng)出現(xiàn)了一些新型鎳箔、鎳板帶產(chǎn)品，這些產(chǎn)品采用電沉積鎳板直接軋制得到。與原有鎳箔生產(chǎn)工藝相比，這些產(chǎn)品生產(chǎn)時(shí)省去了重熔、刨面、熱鍛、熱軋等工序。生產(chǎn)廠家認(rèn)為采用直接軋制的工藝，可以避免在重熔過程中引入雜質(zhì)，從而提高純度、降低內(nèi)阻和保證塑性。目前，該工藝只有少數(shù)廠家使用，并未大規(guī)模投入工業(yè)生產(chǎn)。為了探討電沉積鎳作為原料以及電沉積鎳的顯微組織結(jié)構(gòu)和力學(xué)性能否滿足鎳箔直接軋制的要求，本文作者使用國內(nèi)外最典型的兩種電沉積鎳板作為實(shí)驗(yàn)對(duì)象，使用多種分析方法進(jìn)行分析表征，對(duì)其進(jìn)行常溫拉伸、夏比V型沖擊試驗(yàn)，研究其作為工業(yè)原料的使用性能。由于采用直接軋制工藝生產(chǎn)的鎳箔、鎳板帶產(chǎn)品的牌號(hào)大多為N6，故加入軋制工藝不同但牌號(hào)均為N6的鎳板作為比較對(duì)象，并進(jìn)行分析對(duì)比。

表1 純鎳樣品的制備工藝與性能Table 1 Preparation technology and performance of pure nickel samples

1 實(shí)驗(yàn)

2種電沉積鎳和3種N6軋制純鎳樣品的制備工藝和性能如表1所列。使用直讀光譜儀對(duì)5種樣品進(jìn)行化學(xué)成分分析。對(duì)5種電沉積鎳板進(jìn)行X射線衍射(銅靶λ=1.5406 ?，步長 0.02°，掃描范圍 20°～90°)。采用Quanta FEG-450型場發(fā)射環(huán)境掃描電鏡觀察樣品與斷口形貌，采用附帶的Oxford HKLNordlys EBSD探頭進(jìn)行EBSD分析。按GB/T228.1-2010將樣品加工成標(biāo)距為15 mm的拉伸試樣(樣品4、5需將始極板與沉積層分離，只選取電沉積層)，以恒定拉伸速率1 mm/min進(jìn)行常溫拉伸實(shí)驗(yàn)。按GB/T229—2007將樣品1、3、4、5加工成尺寸為55 mm×10 mm×2.5 mm的夏比V型缺口試樣進(jìn)行常溫沖擊實(shí)驗(yàn)，由于樣品2厚度為1 mm，不滿足標(biāo)準(zhǔn)所要求的厚度，暫不進(jìn)行沖擊實(shí)驗(yàn)。

2 結(jié)果與分析

2.1 化學(xué)成分分析

5種樣品的化學(xué)成分如表2所列。5種樣品均符合美國標(biāo)準(zhǔn)[5]、中國標(biāo)準(zhǔn)[6]及國際標(biāo)準(zhǔn)[7]對(duì)于成品鎳板化學(xué)成分的要求，幾種鎳板的雜質(zhì)含量也遠(yuǎn)低于上述標(biāo)準(zhǔn)所規(guī)定的上限。國產(chǎn)電沉積鎳板的雜質(zhì)含量水平與進(jìn)口電沉積鎳板持平，某些雜質(zhì)含量甚至低于進(jìn)口電沉積鎳板。電沉積鎳制備過程中較難除去的雜質(zhì)為鈷、鐵、銅、砷，國產(chǎn)電沉積鎳中的雜質(zhì)鐵、鈷含量較低，但是國產(chǎn)電沉積鎳的含硫量和含鉛量較大，這是由于近年來國內(nèi)硫化鎳礦石品質(zhì)下降造成的。電沉積鎳板的中的錳、磷、硫、鉻等雜質(zhì)元素含量遠(yuǎn)低于其他3種軋制鎳板的，其他雜質(zhì)含量也低于軋制鎳板的，可見電沉積鎳用于直接接軋制制備鎳箔時(shí)，有利于直接軋制鎳箔產(chǎn)品的純度提升。3種軋制N6鎳板的化學(xué)成分相差很大，樣品2、3的鎳含量稍低于樣品1的，說明樣品2和3生產(chǎn)過程中重熔和多道軋制工藝易引入新的雜質(zhì)。以上結(jié)果說明，使用電沉積鎳板直接軋制用于降低鎳箔產(chǎn)品的雜質(zhì)含量和提升純度是可行的。

2.2 X射線衍射分析

圖1所示為5種純鎳的XRD譜。X射線衍射結(jié)果顯示，5種樣品都是面心立方純鎳相，衍射峰出現(xiàn)的角度與標(biāo)準(zhǔn)PDF卡片(04-0850)中純鎳相出現(xiàn)的角度相同。為了計(jì)算不同晶面的擇優(yōu)取向程度，引入擇優(yōu)取向系數(shù)Tc(texture coefficient)[8]，利用參數(shù)Tc計(jì)算不同晶面擇優(yōu)取向度。

表2 5種純鎳樣品的化學(xué)成分Table 2 Chemical composition of five kinds of pure nickel samples

圖1 不同純鎳樣品的XRD譜Fig.1 XRD patterns of different pure nickel samples

式中：I(hkl)為(hkl)晶面的X射線衍射強(qiáng)度；I0(hkl)代表相對(duì)強(qiáng)度，此處為PDF(04-0850)卡片中無擇優(yōu)取向的鎳(hkl)晶面的X射線衍射相對(duì)強(qiáng)度。純鎳的晶面參數(shù)及Tc值如表3所列。當(dāng)每個(gè)晶面的Tc值相同時(shí)，表現(xiàn)為各向同性。當(dāng)某一晶面的Tc值大于平均值時(shí)，該面存在擇優(yōu)取向。本實(shí)驗(yàn)共取3個(gè)晶面進(jìn)行了分析。故其擇優(yōu)取向系數(shù)的平均值Tc=33.33%，當(dāng)某一晶面擇優(yōu)取向系數(shù)大于33.33%時(shí)，表示該晶面有擇優(yōu)取向。

由表3可知，國產(chǎn)電沉積鎳(200)面Tc(200)=35.5%，該晶面呈現(xiàn)出明顯的擇優(yōu)取向。進(jìn)口電沉積鎳在(111)面具有最強(qiáng)衍射峰，3個(gè)晶面的織構(gòu)系數(shù)都接近33.3%，晶體取向較為隨機(jī)，擇優(yōu)生長現(xiàn)象并不明顯。面心立方(200)面原子面密度小于其密排面(111)面的原子面密度。根據(jù)布拉維法則[9]，面網(wǎng)密度小的面網(wǎng)優(yōu)先生長，晶體生長結(jié)束后，實(shí)際晶體為面網(wǎng)密度大的晶面所包圍，(200)面網(wǎng)密度小、面間距大，原子首先會(huì)在該面發(fā)生沉積，但最終(200)大部分會(huì)被(111)面淹沒。居里-吳里夫原理指出，晶體生長的平衡態(tài)應(yīng)具有最小的表面能，而面心立方(111)晶面具有最低表面能[10]，故兩種電沉積鎳晶粒生長都在(111)面形成優(yōu)勢，為其主要的生長方向，表現(xiàn)為該面衍射峰強(qiáng)度最高，這一結(jié)果與文獻(xiàn)[11]的結(jié)果一致。但布拉維法則沒有考慮溫度、壓力、濃度、環(huán)境等因素的影響，實(shí)際晶體也無法完全達(dá)居里-吳里夫平衡狀態(tài)。所以，當(dāng)體系內(nèi)任一因素發(fā)生變化，就會(huì)改變其擇優(yōu)取向。李瑞乾等[12]認(rèn)為電沉積反應(yīng)時(shí)，電流密度的增加會(huì)使(111)面的擇優(yōu)取向變?nèi)?；REN等[13]也通過嘗試不同的電沉積條件，探究電沉積最優(yōu)工藝；孫東來等[14]發(fā)現(xiàn)具備(111)面擇優(yōu)的電沉積鎳耐腐蝕性能最好。目前電沉積鎳制造工藝處于嚴(yán)格保密階段，暫時(shí)無法判斷是哪些因素導(dǎo)致了進(jìn)口電沉積鎳取向較為隨機(jī)，而國產(chǎn)電沉積鎳的晶粒在(200)面發(fā)生擇優(yōu)生長。在3種軋制鎳板中，冷態(tài)N6樣品經(jīng)由多次軋制，表現(xiàn)為(111)面衍射強(qiáng)度下降而(220)面衍射強(qiáng)度上升，其Tc(220)=49.7%，這說明軋制改變了原來鎳板的晶粒取向，使大多數(shù)晶粒出現(xiàn)了(220)面的織構(gòu)。同樣的問題也出現(xiàn)在了軟態(tài)N6鎳板上。只有熱加工態(tài)N6鎳板的擇優(yōu)取向不明顯。兩種電沉積鎳的晶粒尺寸較小，在納米級(jí)別；軋制鎳板的晶粒尺寸較大，在微米級(jí)別。閆海樂[15]和鐘立蓉[16]認(rèn)為，晶粒尺寸較小的面心立方鎳在大幅度冷軋變形下，(220)晶面織構(gòu)會(huì)消失。而晶粒尺寸大的面心立方鎳在大幅度冷軋變形下，(220)晶面的織構(gòu)會(huì)逐漸增多，并把這一現(xiàn)象歸因?yàn)閷渝e(cuò)能和晶體滑移、孿生的共同作用結(jié)果。這5種純鎳的織構(gòu)現(xiàn)象與上述結(jié)果一致。

表3 不同純鎳樣品的擇優(yōu)取向Table 3 Preferred orientation of different pure nickel samples

2.3EBSD及SEM分析

圖2所示為5種純鎳鎳EBSD晶粒取向成像(OIM)圖。通過使用EBSD的手段，首次看到電沉積純鎳的晶界。由圖2可以看出，兩種電沉積純鎳晶粒細(xì)小，平均晶粒尺寸在納米級(jí)別。3種軋制純鎳的晶粒較為粗大，大于兩種電沉積鎳樣品的，平均晶粒尺寸為幾十微米。在3種軋制鎳中，樣品1和2都經(jīng)歷冷軋工藝，軋制次數(shù)多，故它們的晶粒尺寸明顯大于樣品3的，且晶粒的取向性也更加明顯。特別是板厚最小，軋制次數(shù)最多的樣品2具有最為粗大的晶粒，并出現(xiàn)了沿軋制方向的織構(gòu)。兩種電沉積鎳板的晶粒尺寸較為細(xì)小，其中樣品4的晶粒尺寸小于樣品5的，樣品4的晶粒與樣品5的相比取向更加隨機(jī)、分布更加均勻。圖3和4所示為5種純鎳的SEM像。圖3中兩種電沉積鎳的表面形貌差別較大：進(jìn)口樣品的顯微組織更為密實(shí)，表面凹凸起伏較大；國產(chǎn)樣品表面平整但很疏松，有許多孔洞彌散分布其中。圖4中3種軋制純鎳都呈平面晶分布，可以看見明顯的晶界，晶粒尺寸與EBSD中觀察到的一致。

圖2 不同純鎳樣品板材的EBSD晶粒取向成像圖Fig.2 EBSD grain oriented images of different pure nickel plate samples:(a)Sample 1;(b)Sample 2;(c)Sample 3;(d)Sample 4;(e)Sample 5

2.4 力學(xué)性能分析

將純鎳樣品中樣品1、2、3沿其軋制方向取樣，將樣品4、5分別沿水平和重力方向取樣，分別進(jìn)行常溫力學(xué)拉伸后結(jié)果如表4所列。表5所列為純鎳常溫夏比V型沖擊功的平均值。

圖3 不同電沉積鎳板的SEM像Fig.3 SEM images of different electrodeposited nickel plates:(a)Foreign electrodeposited nickel;(b)Domestic electrodeposited nickel

圖4 不同N6鎳板的SEM像Fig.4 SEM images of different N6 nickel plates:(a)Sample 1;(b)Sample 2;(c)Sample 3

表4 不同純鎳樣品的常溫拉伸性能Table 4 Tensile properties of different nickel samples at room temperature

3種軋制鎳板中最薄的樣品2的抗拉強(qiáng)度最大σ=695 MPa，伸長率最小δ=7.3%，這是軋制后加工硬化導(dǎo)致的。沒有經(jīng)過冷軋的樣品3經(jīng)過退火處理后，抗拉強(qiáng)度在3種軋制純鎳中最低，σ=378 MPa，但其擁有最高的伸長率δ=47.7%，表現(xiàn)出良好的塑性。經(jīng)過冷軋?zhí)幱谲浝錉顟B(tài)樣品1的力學(xué)性能處于樣品2和3的之間(σ=512 MPa，δ=32.8%)。電沉積鎳中樣品4在水平、重力兩個(gè)方向的抗拉強(qiáng)度分別為681 MPa和687 MPa，兩個(gè)方向上抗拉強(qiáng)度差別不大；樣品5在水平方向的抗拉強(qiáng)度(σ=479 MPa)明顯小于重力方向的抗拉強(qiáng)度(σ=581 MPa)，低于樣品4同方向上的抗拉強(qiáng)度。這很可能是由于電沉積工藝使得電結(jié)晶過程中重力因素對(duì)樣品4鎳離子的沉積過程影響不大，鎳原子在水平豎直兩個(gè)方向沉積的緊實(shí)程度接近，兩個(gè)方向的抗拉強(qiáng)度無明顯差別。樣品5在電沉積制備過程中，工藝未能很好地消除重力因素的影響，鎳離子在沉積過程中受重力的影響顯著，表現(xiàn)在重力方向上沉積得較為密實(shí)，故重力方向上抗拉強(qiáng)度大于水平方向上的抗拉強(qiáng)度。位移-載荷曲線下包圍的面積表示材料在變形-斷裂過程中所吸收的能量E(其量綱為力×位移=能量)，由于所有拉伸試樣的尺寸均相同，故E值越大，說明裂紋擴(kuò)展需要消耗的能量越大，材料抗裂紋擴(kuò)展的能力越強(qiáng)、韌性越好。3種軋制樣品中拉斷所需能量最大的是樣品3(56.97 J)，最小的是樣品2(23.32 J)，樣品3的強(qiáng)度低、塑性好，適合進(jìn)一步壓力加工。在兩種電沉積鎳板中，樣品4不同方向的拉斷所需能量也大于樣品5的，表明樣品4的塑性韌性好于樣品5的。根據(jù)霍爾-佩奇公式，晶粒的尺寸越小，其塑性、韌性和強(qiáng)度硬度越高，兩種電沉積鎳的晶粒尺寸較小，表現(xiàn)出較高強(qiáng)度硬度的同時(shí)，擁有較好的塑性韌性，適用于鎳箔、鎳板帶材的直接軋制。表5所列的純鎳樣品夏比V型常溫沖擊功也印證了以上討論：夏比V型沖擊試驗(yàn)是材料塑性、韌性的另一個(gè)指標(biāo)，沖擊功反映了材料脆斷的趨勢。兩種電沉積鎳的沖擊功數(shù)值說明其不易脆斷、延展性好，適合作為鎳箔、鎳板帶材的原料直接軋制。

表5 不同純鎳樣品的夏比V型沖擊功Table 5 Charpy V-notch impact toughness of different pure nickel samples

圖5 不同N6純鎳樣品拉伸斷口的SEM像Fig.5 Tensile fracture SEM images of different pure nickel samples:(a)Sample 1;(b)Sample 2;(c)Sample 3

2.5 斷口形貌分析

圖5和6所示分別為5種純鎳?yán)鞌嗫诘腟EM像。5種鎳的斷口都由兩個(gè)部分組成：中間部分是大小不一且相互嵌套的等軸韌窩，邊緣及四周由被拉長了的韌窩和類似“山脊”的突起紋路組成，由此判斷5種斷口的斷裂形式均屬于塑性斷裂。斷裂時(shí)形成了山脊?fàn)钣懈叩推鸱牧鸭y的原因是試樣首先在主作用力垂直方向上部分?jǐn)嗔?，余下部分又在拉力作用下晶粒發(fā)生了滑移。

不同純鎳中間部分的韌窩占整個(gè)斷口的比例和周圍山脊紋凹凸分布各不相同。3種軋制鎳中，樣品1、2中韌窩較為不規(guī)則，且韌窩占整個(gè)斷口的比例較小。樣品3的中心處較為光滑、平整，韌窩都被拉長，山脊紋起伏不大。兩種電沉積鎳斷口的最大差別是樣品4進(jìn)口電沉積鎳韌窩區(qū)域非常寬，幾乎占到了整個(gè)斷口面積的90%以上。河流狀紋路只是在斷口的橫截面四周很窄的區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)。樣品5國產(chǎn)電沉積鎳在兩個(gè)方向上韌窩區(qū)域都很窄，集中在中間部分呈束狀。樣品4進(jìn)口電沉積鎳在兩個(gè)方向上的斷口韌窩面積占整個(gè)斷口的密度遠(yuǎn)遠(yuǎn)大于樣品5純鎳樣品的且樣品4的韌窩大小更加均勻，分布更為彌散。通常情況下，韌窩區(qū)域占斷口面積的比例越大，塑性韌性就越好，表明其斷裂類型為塑性斷裂。

圖6 不同電沉積純鎳樣品斷口的形貌Fig.6 Fracture morphologies of different electrodeposited nickel samples:(a)Sample 4,in horizontal direction;(b)Sample 4,in gravity direction;(c)Sample 5,in horizontal direction;(d)Sample 5,in gravity direction

3 結(jié)論

1)5種純鎳化學(xué)成分符合國內(nèi)外相關(guān)標(biāo)準(zhǔn)，國內(nèi)電沉積鎳板成分優(yōu)于國外電沉積鎳板,軋制純鎳樣品雜質(zhì)含量高于電沉積鎳樣品的。

2)XRD顯示5種純鎳均只有面心立方鎳相，電沉積純鎳晶粒取向隨機(jī)，軋制純鎳隨著軋制次數(shù)增加由(111)面擇優(yōu)轉(zhuǎn)變成(200)面擇優(yōu)。EBSD-取向成像圖顯示軋制純鎳晶粒尺寸為60～100 μm，而電沉積鎳晶粒尺寸為30～300 nm，且國外電解鎳晶粒尺寸小于國內(nèi)電解鎳的，大小分布更加均勻。

3)在3種軋制鎳中，國內(nèi)冷軋冷加工態(tài)純鎳抗拉強(qiáng)度最高為695 MPa，國內(nèi)熱軋熱加工態(tài)純鎳塑性韌性最好(伸長率最大，為47.1%；沖擊功最大，為33.59 J)。國內(nèi)電沉積鎳不同方向上抗拉強(qiáng)度差別較大(水平方向)，國外電沉積鎳不同方向上抗拉強(qiáng)度沒有差別，且力學(xué)性能整體優(yōu)于國內(nèi)電沉積鎳的。沖擊韌性結(jié)果也驗(yàn)證了上述結(jié)論，斷口顯示5種純鎳都由等軸韌窩和山脊紋組成，屬于韌性斷裂，不同純鎳的韌窩區(qū)域占整個(gè)斷口面積的比例差別很大。

4)綜合比較發(fā)現(xiàn)兩種電沉積鎳的成分、顯微組織結(jié)構(gòu)、力學(xué)性能都優(yōu)于N6鎳板的，適合作為鎳箔、鎳板帶材的原材料進(jìn)行直接軋制使用。

[1] 余德超,談定生,王松泰.化學(xué)鍍鎳技術(shù)在電子工業(yè)的應(yīng)用[J].電鍍與涂飾,2007,26(4):42-45.YU De-chao,TAN Ding-sheng,WANG Song-tai.Applications of electroless nickel plating in electronics industry[J].Electroplating&Finishing,2007,26(4):42-45.

[2] 劉洪濤,鄧長城.鈦合金鍍鎳在航空航天工業(yè)應(yīng)用的可行性研究[J].功能材料,2010,41(2):249-252.LIU Hong-tao,DENG Chang-cheng.Feasibility of Ti alloy plating Ni used in the air industry[J].Journal of Functional Materials,2010,41(2):249-252.

[3] 候曉川,彭 俊.電解鎳應(yīng)用于電鍍中存在的質(zhì)量問題及改進(jìn)措施[J].稀有金屬及硬質(zhì)合金,2012,40(10):70-72.HOU Xiao-chuan,PENG Jun.Quality problems and improvement measures of electrolytic nickel in electroplating industry[J].Rare Metals and Cemented Carbides,2012,40(10):70-72.

[4] WHITTINGTON C M,YEUNG K L K,LO W Y.Refined nickel anodes:Pointers to industrial best practice[J].Transactions of the Institute of Metal Finishing,2011,89(3):122-131.

[5] American Society for Testing and Materials.ASTM B162-99 standard specification for nickel plate,sheet,and strip1[S].

[6] 國家標(biāo)準(zhǔn)化管理委員會(huì).GB/T5235-2007加工鎳及鎳合金-化學(xué)成分和產(chǎn)品形狀標(biāo)準(zhǔn)[S].Standardization Administration of the People’s Republic of China. GB/T5235-2007 Wrought nickel and nickel alloys-Chemical composition and forms of wrought products[S].

[7] International Organization for Standardization.ISO6283 1995 Refine Nickel[S].

[8] 劉天成,盧志超,李德仁,孫 克,周少雄,盧燕平.電沉積鐵鎳納米合金薄膜的結(jié)構(gòu)和性能研究[J].功能材料,2007,38(1):138-141.LIU Tian-cheng,LU Zhi-chao,LI De-ren,SUN Ke,ZHOU Shao-xiong,LU Yan-ping.Investigation on the microstructure and properties of electrodeposited iron-nickel alloy film with nano-structure[J].Journal of Functional Materials,2007,38(1):138-141.

[9] 王 萍,李國昌.結(jié)晶學(xué)教程[M].北京:國防工業(yè)出版社,2006:19-20.WANG Ping,LIGuo-chang.Crystallographytutorials[M].Beijing:National Defense Industry Press,2006:19-20.

[10] 王 博,張建民,路彥冬,甘秀英,殷保祥,徐可為.FCC金屬表面能的各向異性分析及表面偏析的預(yù)測[J].物理學(xué)報(bào),2011,60(1):016601.WANG Bo,ZHANG Jian-min,LU Yan-dong,GAN Xiu-ying,YIN Bao-xiang,XU Ke-wei.Anisotropy analysis of surface energy and prediction of surface segregation for FCC metals[J].Acta Physica Sinica,2011,60(1):016601.

[11] 呂 鏢,胡振峰,汪笑鶴,徐濱士.相對(duì)運(yùn)動(dòng)速度對(duì)柔性摩擦輔助電沉積鎳鍍層構(gòu)的影響[J].材料研究學(xué)報(bào),2014,28(4):255-261.Lü Biao,HU Zhen-feng,WANG Xiao-he,XU Bing-shi.Effect of relative moving speed on microstructure of flexible friction assisted electrodeposited Ni coating[J].Journal of Materials Research,2014,28(4):255-261.

[12] 李瑞乾,梁 軍,初青偉.氯化膽堿-乙二醇低共熔溶劑中電沉積納米晶鎳[J].中國有色金屬學(xué)報(bào),2014,24(7):1839-1845.LI Rui-qian,LIANG Jun,CHU Qing-wei.Electrodeposition of nanocrystalline Ni from choline chloride and ethylene glycol deep eutectic solvent[J].The Chinese Journal of Nonferrous Metals,2014,24(7):1839-1845.

[13]REN Xiu-lian, WEI Qi-feng, LIU Zhe, LIU Jun.Electrodeposition conditions of metallic nickel in electrolytic membrane reactor[J].Transactions of Nonferrous Metals Society of China,2012,22(2):467-475.

[14] 孫冬來,陳 吉,史艷華,梁 平.織構(gòu)對(duì)納米晶純鎳鍍層耐蝕性能的影響[J].北京科技大學(xué)學(xué)報(bào),2013,35(5):620-624.SUN Dong-lai,CHENG Ji,SHI Yan-hua,LIANG Ping.Effect of textures on the corrosion resistance of nanocrystalline Ni coatings[J].Journal of Beijing University of Science and Technology,2013,35(5):620-624.

[15]閆海樂.大形變下低層錯(cuò)能面心立方金屬力行為和織構(gòu)演化的研究[D].沈陽:東北大學(xué),2012.YAN Hai-le.Mechanical behavior and texture evolution of low stacking fault energy FCC metals at large deformation[D].Shenyang:Northeastern University,2012.

[16]鐘立蓉.大形變下低層錯(cuò)能面心立方金屬織構(gòu)演化的實(shí)驗(yàn)和數(shù)值模擬研究[D].沈陽:東北大學(xué),2010.ZHONG Li-rong.Texture evolution of low stacking fault energy FCC metals at large deformation studied by experiment and modeling[D].Shenyang:Northeastern University,2010.