朱梅

【摘 要】專利文獻是商業(yè)經營、科學研究和技術發(fā)展最重要的信息來源之一，專利信息數量龐大，價值突顯，來源廣泛。據世界知識產權組織（WIPO）統(tǒng)計，目前全世界累積可查的專利文獻已超過8000萬件。且自2006年以來，全球各專利機構每年共公布約300萬件專利文獻，全球有90多個國家、地區(qū)及組織以30多種文字出版專利文獻，每年以300萬件左右的數量遞增，約占世界圖書期刊年出版總量的1/4。如此豐富的專利信息資源是一個巨大的寶庫，蘊含著重要的科技、經濟和法律信息，因此，如何有效開發(fā)利用專利信息，引起了業(yè)界和學術界的高度關注，專利信息計量研究應運而生。

【關鍵詞】專利信息；計量；探討

一、專利計量

（一）專利計量的概念

“專利計量”最早由納林于1994年在《Scientometircs》上提出，英文可用PatentBibliomatrics或Patentometrics表示。其定義具體如下：將數學和統(tǒng)計學的方法運用于專利研究，以探索和挖掘其分布結構、數量關系、變化規(guī)律等內在價值。

雖然這個學術名詞在1994年才被提出，但是在國外相關研究卻始于20世紀40年代，20時間80年代開始以美國CHI Research公司為代表，其與美國國家科學基金委員會（U.S.National Science Foundation）合作研究了專利計量的指標，并將其應用到公司價值的評估方面。

（二）專利計量的指標

專利計量的指標有很多，對于不同的評價目的，應當選擇不同的指標或是指標組合。結合知名的CHI Research公司和一些學者對于專利計量的分析的指標，可以將專利計量指標分為宏觀、中觀和微觀三類。其中宏觀專利計量指標用于某領域的專利計量，其主要包括技術循環(huán)周期，科學強度.科學關聯性；中觀專利計量指標用于某公司的專利計量，包括及時影響指標技術強度；微觀專利計量用于對某個具體專利進行專利計量，主要包括同族專利、科學力量、首次被引用時間。除此以外，還有些指標是通用的，可以適用于不同的分析，如專利的地域分布、申請時間及到期時間分布、專利申請機構分布、專利引證分析等等。

（三）專利計量分析

專利計量分析的本質，是通過對專利文獻信息的內容、專利數量以及數量的變化等方面的研究，其主要包括以下幾種分析：

（1）專利技術發(fā)展及衍變趨勢分析

①技術發(fā)展總體分析：了解目標技術領域的衍變過程和變化周期，并對指定時期該技術領域的技術衍變過程進行全過程描述。②各階段關鍵性技術構成分析：了解技術衍變過程中不同時期影響周期性變化的關鍵性技術因素。③技術的地域分布分析：了解不同時期各國、地區(qū)關鍵技術構成的差異及其變化周期。④技術的競爭對手分析：了解關鍵性技術的掌控者，并進行技術細節(jié)方面的差異性比較。⑤技術的發(fā)明人分析：了解關鍵技術的發(fā)明人，并進行特長分析。⑥技術的發(fā)展趨勢預測：分析今后一段時期的產品、技術競爭的熱點。

（2）專利地域性分析

①相關地域的技術發(fā)展趨勢分析：了解一個特定時期目標地域的技術衍變過程和變化周期。②相關地域的技術構成分析：目標地域技術的周期性變化細分，了解形成這種變化的主要技術因素，以便從中找出階段性關鍵技術。③相關地域的競爭者構成分析：了解這些關鍵技術掌控在哪些申請人手中，并比較目標地域內申請人之間的技術差異，以及不同地域的技術類別保護差異。④相關地域的發(fā)明人構成分析：了解活躍在目標地域的發(fā)明人構成和活躍程度。⑤行業(yè)競爭的地域性分析：在上述分析的基礎上，進行地域競爭狀況的總體描述。

（3）專利主體分析

①競爭結構分析：通過其申報技術類型的區(qū)別，甄別行業(yè)的供方、買方、競爭者、新進入者。②競爭者技術特長分析：比較行業(yè)的競爭者之間各自的技術構成差異。③競爭者申報地域分布分析：了解行業(yè)競爭者各自關注的競爭地域。④競爭者技術來源分析：了解為行業(yè)競爭者提供技術的發(fā)明人。⑤競爭總體分析：綜合上述行業(yè)競爭分析，對競爭結構進行總體描述。

二、專利信息計量研究的指標與方法

專利信息計量分析分為定量分析和定性分析兩種。專利定量分析主要是利用一些專利指標和方法對專利的質和量進行分析與評價，專利定性分析主要是利用一些指標和方法對專利的價值進行評價。

（一）專利定量分析的指標和方法

專利信息計量是專利定量分析的基礎，主要是利用數學和統(tǒng)計學方法對專利文獻或專利信息的數量特征、分布規(guī)律和結構關系進行分析。定量分析即專利計量或專利統(tǒng)計，也就是通過專利文獻上所固有的項目如申請日期、申請人、專利類型、專利分類、申請國家、專利法律狀態(tài)、專利引文等信息來識別有關專利文獻，然后將這些專利文獻按有關指標如專利申請數量、專利授權數量、同族專利數量、專利引文數量等來進行統(tǒng)計分析，并從技術、經濟和法律的角度對有關統(tǒng)計數據的變化進行分析和解釋。

專利計量和統(tǒng)計分析的指標較多，不同的專利計量和統(tǒng)計分析指標在專利信息的揭示中具有不同的作用。許多國家和知識產權機構都建立了自己的專利計量和統(tǒng)計分析指標體系，比如美國摩根研究與分析協(xié)會、美國知識產權咨詢公司等。產生最早且影響最大的專利計量和統(tǒng)計分析指標體系是1970年代早期CHI Research與美國國家科學基金會一起研發(fā)的專利指標體系，并被隨后的《美國科學與工程指標》所采用，同時受到OECD科技指標系列手冊（即弗拉斯卡蒂系列手冊）《專利手冊》的重視，認為其不僅適用于公司，也適用于國家或地區(qū)專利計量分析。

這些專利信息計量指標通常被分解為宏觀專利信息計量指標、中觀專利信息計量指標和微觀專利信息計量指標三個層次：其中宏觀專利信息計量指標有歷年專利受權量、技術集中度、技術生長率、技術成熟系數、技術衰老技術、技術強度、美國授權專利量、三方專利量、PCT（即專利合作協(xié)定，Patent Cooperation Treaty，簡稱PCT）申請量等；中觀信息專利計量指標有專利授權率、專利增長率、當前影響指數、技術力量、相對研發(fā)能力、企業(yè)研發(fā)重點、企業(yè)活性因子、技術獨立性、專利效率、專利實施率、技術影響力指標、專利平均被引用次數、相對專利被引證率、引用頻率、科學關聯度、科學強度、發(fā)明專利率、專利第n年的存活量和存活率、專利平均壽命、H指數等；微觀專利信息計量指標有科學關聯性、技術覆蓋范圍、權利要求數、前向引文量、后向引文量、專利名稱和摘要、同族專利數量、專利申請和授權時間間隔、發(fā)明人數、第一次被其他企業(yè)所引用的時間等。這些專利信息計量指標可用于不層面的專利信息計量分析與研究。

（二）專利價值評估的指標和方法

專利價值評估一直是專利信息計量的重要研究領域，國內外學者和機構給予了高度關注，在專利價值評估的指標和方法方面取得了一定的研究成果。

專利價值評估是專利運營的核心環(huán)節(jié)，專利價值評估的基礎是建立科學的評價指標體系和確定科學的計算方法。專利價值的影響因素主要有專利類型、專利屬性、專利功能、法律因素、技術因素、經濟因素、風險因素等。在專利信息計量研究中一般用市場占有率、同族專利數和專利被引次數等指標來大致衡量專利的價值。2012年，我國國家知識產權局為了在全國推廣專利價值評估，提高專利市場轉化和利用效率，制定了一套專利價值評估指標體系和計算方法，具有可操作性。這個指標體系分為兩個層面：第一層指標從專利自身屬性的角度，分為法律、技術和經濟三個指標，第二層從專利功能的角度，將第一層的三個指標分解成18個支撐指標。

三、專利信息計量研究的應用

專利信息計量研究的目的是將專利分析、文獻計量學和信息計量學的原理與方法用于專利文獻和專利信息的定量分析，并為從事專利活動、科技創(chuàng)新、市場競爭、管理與決策等提供服務。

從研究領域來看，專利信息計量研究主要體現在專利量的統(tǒng)計分析與應用、專利引用的統(tǒng)計分析與應用、專利關聯的統(tǒng)計分析與應用三個方面。每個研究領域的應用都有一系列專利統(tǒng)計分析指標和方法，可用于觀察、判斷和分析不同專利主體在不同領域、不同項目上的專利活動及其動向。

從研究主體來看，專利信息計量在政府、企業(yè)、研究機構和個人等主體上具有廣泛的應用。專利計量在國際技術貿易、國家技術引進、政府專利管理和戰(zhàn)略制定等具有重要作用，在企業(yè)技術研發(fā)、技術引進、競爭對手識別和合作伙伴選擇等具有決定性影響，在科研機構的科學研究、技術開發(fā)、專利申請等方面具有極為重要的意義，在個人從事科學研究、技術開發(fā)、產品設計等方面具有重要的指導作用。此外，專利信息計量是從事技術創(chuàng)新、專利分析、專利競爭、專利制度、專利地圖、專利戰(zhàn)略、專利預警、專利人才選拔等研究活動的基礎。從研究層次來看，專利信息計量在專利信息開發(fā)與利用、專利信息分析與服務、專利管理與專利戰(zhàn)略制定三個層次中具有廣泛的應用。而這些都與各主體層面的科技創(chuàng)新和利益競爭密切相關。

結語：

目前專利信息計量研究已經在專利定量分析指標、方法和專利價值評估指標與方法取得了一定的進展。專利信息計量工具是專利信息計量研究的基礎，國內外已經開發(fā)出了一批實用的專利信息計量軟件和工具。專利信息計量研究對發(fā)明人、企業(yè)、實驗室、大學、科研機構、政府部門具有極大的應用價值，具有廣泛的應用前景和發(fā)展空間。

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