王 揚,李學(xué)敏,Dimitris Mathioulakis
(1.華中科技大學(xué) 中歐清潔與可再生能源學(xué)院,湖北 武漢 430074; 2.雅典國家技術(shù)大學(xué) 機械工程學(xué)院,希臘 雅典 999028)
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塔影效應(yīng)簡化模型試驗
王揚1,李學(xué)敏1,Dimitris Mathioulakis2
(1.華中科技大學(xué) 中歐清潔與可再生能源學(xué)院,湖北 武漢 430074; 2.雅典國家技術(shù)大學(xué) 機械工程學(xué)院,希臘 雅典 999028)
摘要:對塔影效應(yīng)簡化模型進行了試驗研究,將上游葉輪簡化為二維平板,下游塔架簡化為二維圓柱,借助壓力傳感器及粒子圖像測速技術(shù),測量了8種平板位置下圓柱表面壓力分布及干涉區(qū)域瞬態(tài)速度場數(shù)據(jù),分析了圓柱表面壓力、升力因數(shù)、阻力因數(shù)、干涉區(qū)域時均速度場及其相干特性。研究結(jié)果表明:靠近平板的圓柱一側(cè)受平板影響較為明顯,且隨平板遠(yuǎn)離圓柱,圓柱表面壓力因數(shù)與無平板時壓力因數(shù)的相關(guān)系數(shù)自-0.37增至0.97,圓柱所受合力因數(shù)在原值(1.12)的72%與115%之間。
關(guān)鍵詞:塔影效應(yīng);圓柱;壓力分布;粒子圖像測速技術(shù)
0引言
隨著水平軸風(fēng)力機大型化的發(fā)展,風(fēng)力機的塔影效應(yīng)成為一個不容忽視的問題。由于上游葉片尾跡改變了塔架的繞流狀況,兩者之間產(chǎn)生明顯的干涉效應(yīng),由此導(dǎo)致的非定常流動使風(fēng)力機輸出功率呈現(xiàn)周期性變化,同時也對葉輪及塔架的結(jié)構(gòu)動力學(xué)特征產(chǎn)生不良影響,并產(chǎn)生噪聲輻射。
目前,國內(nèi)外已經(jīng)進行了一系列關(guān)于塔影效應(yīng)的試驗研究。文獻(xiàn)[1]對風(fēng)力機的輸出功率進行了測量,證明了塔影效應(yīng)導(dǎo)致風(fēng)力機功率出現(xiàn)較大波動,并在葉片掃過塔架區(qū)域時最突出。文獻(xiàn)[2]在低速風(fēng)洞試驗中,對一個兩葉片下風(fēng)型風(fēng)力機的縮小模型進行了研究,通過采集到的葉片表面壓力變化驗證了塔影效應(yīng)的影響。但這些研究均未涉及干涉區(qū)域的流動狀態(tài),由于風(fēng)力機流動是一個非常復(fù)雜的三維非定常流動,為方便對干涉區(qū)域的研究,可將試驗?zāi)P秃喕T诖朔矫?,國外尚無已發(fā)表的成果,而國內(nèi)的研究也較少。文獻(xiàn)[3]建立了一個考慮上游風(fēng)輪尾跡與下游塔架相互干涉的簡化模型,即將上游葉片簡化為一個二維葉柵,下游塔架簡化為一個圓柱,基于Navier-Stokes方程,分析了兩者相互干涉下的物理特性,包括旋渦脫落頻率、升阻力的脈動與頻譜以及縱向位置對以上物理特性的影響。但該研究并未獲得流場的試驗數(shù)據(jù),不便更直觀地研究這一流動現(xiàn)象。
本文借助粒子成像測速(particle image velocimetry,PIV)技術(shù)研究了上游平板與下游圓柱干涉區(qū)域的流動形態(tài),并測量了下游圓柱表面的壓力分布。并且對上游平板在不同位置時,下游圓柱繞流的動力學(xué)特性、表面壓力和升阻力因數(shù)進行了研究。
1試驗設(shè)備及方法
圖1 試驗裝置布置示意圖
試驗所用的裝置布置如圖1所示。低速風(fēng)洞試驗段長度為1 m,橫截面為0.23 m×0.40 m,來流風(fēng)速U∞=8.5 m/s,湍流強度為0.5%。簡化試驗?zāi)P蛶缀纬叽鐓⒖糄TU 10 MW RWT型風(fēng)力機,風(fēng)力機幾何尺寸中,46 m高度截面處的塔筒直徑為7.186 m,葉片距離塔筒軸線距離為16.71 m。試驗圓柱直徑D為0.06 m,長度L為0.23 m,長徑比Ra=3.83,垂直布置于風(fēng)洞試驗段中間軸風(fēng)洞出口上游 0.9 m處。圓柱可繞自身軸線旋轉(zhuǎn),阻塞率Rb=15%。兩道溝槽分別水平布置于風(fēng)洞試驗段上下表面,位于圓柱軸線上游L=0.14 m處。平板模型寬0.055 m,厚度為0.003 m,上下兩端分別固定于兩側(cè)溝槽中,可沿溝槽滑行以調(diào)整平板與圓柱的相對位置。試驗?zāi)P椭蠰/D比值與風(fēng)力機對應(yīng)幾何尺寸比值保持一致。
試驗借助2D PIV系統(tǒng)(TSI.Inc公司)對測量域內(nèi)流場的兩個速度分量u(順來流方向)及v(垂直于壁面方向)進行測量,試驗用高速相機(型號POWER VIEW 4MP, TSI.Inc公司)的分辨率為1 376 Pixel×1 024 Pixel,與文獻(xiàn)[4]一致。激光光源從模型側(cè)方照明流場,并與壓力測試孔所在平面重合。試驗圓柱由亞克力制成,激光強度足以照亮圓柱背面流場。測量域大小為3.00D×2.25D,圓柱圓心設(shè)為坐標(biāo)原點,h為平板下沿到風(fēng)洞中間軸的距離,如圖2所示。
圖2 測量域示意圖
試驗采用壓差傳感器(NSC 250LD)測量圓柱表面的壓力分布,壓差傳感器的通道1通過一根長0.25 m的細(xì)塑料管與圓柱壁面上的通孔相連,通道2暴露在大氣環(huán)境中,以此獲得圓柱表面方位角θ處的壓強值Pθ與大氣壓強P0的差值△P所對應(yīng)的電信號,傳感器量程為-250~250 Pa,精確度為0.25%。來流靜壓及動壓通過一個布置在平板上游0.2 m處的皮托管測得。
試驗選取平板相對于圓柱的8個位置,即6h/D=0,1,2,…,7(為使比值取整,使用6h/D而非h/D),分別測量了其干涉區(qū)域流場及圓柱表面壓力分布。通過PIV系統(tǒng)連續(xù)采集了每個位置下的300幅時間序列的瞬態(tài)速度場圖片,采集速率為5幀/s,總采集時間為60 s。通過壓差傳感器采集了每個位置下圓柱表面一周(劇變區(qū)域步長為5°,緩變區(qū)域步長為10°)的壓力分布,采樣頻率為1 000 Hz,采樣時間為30 s,在一些高度湍流區(qū)域,采樣時間延長為60 s。
為描述圓柱表面壓力分布,壓力因數(shù)Cp可依據(jù)來流的靜壓P∞及動壓Pdynamic計算得出:
(1)
其中:Pθ為圓柱表面方位角θ處的壓強值。
依據(jù)文獻(xiàn)[5],升力因數(shù)Cl及阻力因數(shù)Cd可按照下式計算:
(2)
(3)
其中:Pw及ωw分別為圓柱表面θ處的無量綱壓力及渦量。依據(jù)文獻(xiàn)[6],在Re=104~2×105時,隨著流動分離的加劇,周期性渦街轉(zhuǎn)變?yōu)橥牧?,此時升阻力主要由圓柱表面壓差決定,阻力因數(shù)也趨于穩(wěn)定。因而本試驗在Re=27 500情況下,ωw對升阻力的影響可以忽略,Cl及Cd計算公式可由圓柱表面壓力積分得來:
(4)
(5)
2試驗結(jié)果與分析
2.1圓柱表面壓力分布
為檢測試驗設(shè)備,對未添加平板的圓柱繞流進行了驗證試驗(Re=27 500,Ra=3.83,Rb=15.0%)。驗證試驗壓力因數(shù)分布與文獻(xiàn)[7](Re=30 000,Ra=6,Rb=15.2%)光滑圓柱繞流試驗結(jié)果對比如圖3所示。
由圖3可知:驗證試驗結(jié)果與文獻(xiàn)[7]的變化趨勢、極值點、前駐點及流動分離點吻合較好。驗證試驗壓力因數(shù)Cp曲線的極值分別出現(xiàn)在θ=0°(前駐點)及θ=65°處,兩者壓力因數(shù)幅值差約為2.5。在流動分離區(qū)域,即θ=85°與θ=275°之間,Cp保持在較低數(shù)值,由于驗證試驗中Ra更小,該區(qū)域Cp值略大于參考文獻(xiàn)值。驗證試驗Cd計算結(jié)果為1.126,與文獻(xiàn)[7]的結(jié)果(1.14)吻合較好,由于圓柱繞流的對稱性,Cl在 0附近波動。
圖4為平板相對于圓柱8個位置時,圓柱表面壓力因數(shù)Cp的分布曲線。由圖4可知:當(dāng)6h/D=0時,前駐點移至θ=320°處,壓力因數(shù)在θ=20°處達(dá)到最小值,經(jīng)過較小波動后,自θ=40°處迅速上升,直到θ=150°處趨于平穩(wěn),在θ=260°處達(dá)到圓柱下側(cè)流動分離點后快速升至前駐點,隨后快速下降至最低點。
當(dāng)6h/D=1時,前駐點移至θ=330°處,壓力因數(shù)Cp在θ=40°處達(dá)到最小值;經(jīng)歷兩次較大波動后自θ=100°處穩(wěn)步上升;在θ=180°處,壓力因數(shù)出現(xiàn)一個明顯的上升,由0.95躍至1.13并保持平穩(wěn)直至抵達(dá)圓柱下側(cè)流動分離點θ=260°處。
圖3 驗證試驗壓力因數(shù)曲線與文獻(xiàn)[7]結(jié)果對比 圖4 不同平板位置圓柱表面壓力因數(shù)曲線對比
當(dāng)6h/D=2時,前駐點移至θ=335°處,壓力因數(shù)曲線在最小值(θ=20°處)后保持相對穩(wěn)定,在θ=60°及θ=180°處經(jīng)歷兩次跳躍后穩(wěn)定在0.41,直至在θ=270°處抵達(dá)圓柱下側(cè)流動分離點。
對于6h/D=3,4,5,6時,前駐點進一步向θ=0°處(6h/D=6時達(dá)到θ=0°)移動,壓力因數(shù)曲線在經(jīng)過圓柱上側(cè)流動分離點后保持在較低水平(0.2~0.4),并在θ=180°處上升并保持穩(wěn)定,在θ=270°處抵達(dá)圓柱下側(cè)流動分離點。
圖5 圓柱阻力因數(shù)及升力因數(shù)隨平板位置變化曲線
當(dāng)6h/D=7時,前駐點停留在θ=0°處,在經(jīng)過圓柱上側(cè)流動分離點θ=80°后,壓力因數(shù)曲線穩(wěn)定在0.55,在θ=210°處曲線下降并穩(wěn)定在0.45(θ=220°處),在θ=270°處抵達(dá)圓柱下側(cè)流動分離點。
圖5為圓柱阻力因數(shù)Cd及升力因數(shù)Cl隨6h/D的變化曲線,Cd及Cl的方向定義見圖2。隨著平板沿垂直于壁面方向遠(yuǎn)離圓柱,圓柱阻力因數(shù)Cd自-0.41上升至峰值1.17(6h/D=4),再降至0.76(6h/D=5)后又回升至1.27;圓柱升力因數(shù)Cl則在波動中逐漸由-0.75增加至-0.19;圓柱阻力因數(shù)Cd及升力因數(shù)Cl均分別回歸于驗證試驗中所測得的Cd及Cl值。
2.2干涉流域
圖6為4種平板位置下干涉區(qū)域的時均流線圖。由圖6可知:圓柱下側(cè)主要受到平板剪切層的影響。在平板位置6h/D=0時,由于圓柱的阻礙作用,圓柱表面0°<θ<60°區(qū)域附近出現(xiàn)一個較大范圍的逆時針渦旋結(jié)構(gòu),由此導(dǎo)致該區(qū)域Cp曲線劇烈波動;之后隨著平板位置上移,平板剪切層對圓柱上側(cè)作用增加,在6h/D=3時,圓柱上側(cè)受到尾跡及剪切層的雙重影響;而在6h/D=6及之后,圓柱整體浸沒于平板剪切層中,不再受到平板尾跡區(qū)影響。
圖6 不同平板位置下干涉區(qū)域的時均流線圖
2.3相干特性分析
為更清楚地研究不同壓力分布曲線之間的形狀及幅值差異,可引入相關(guān)系數(shù)CC及幅值率AR。其中,CC為不同平板位置下壓力因數(shù)分布曲線與驗證試驗壓力因數(shù)分布曲線的相關(guān)系數(shù),計算公式依據(jù)文獻(xiàn)[8]:
(6)
(7)
CC或AR值越接近于1,該壓力因數(shù)曲線的形狀或極值越接近于驗證試驗曲線。
圖7為相關(guān)系數(shù)CC及幅值率AR隨平板位置的變化。由圖7可知:AR值在0.6~1.5變化,并在6h/D=4時達(dá)到最大值1.46;CC值則由-0.37上升至0.97,在6h/D=5,6,7時,CC值均大于0.9,壓力分布曲線與驗證試驗高度相關(guān),表明平板對圓柱的干涉作用大幅度減弱。
圖7 相關(guān)系數(shù)和幅值率隨平板位置的變化
表1為不同平板位置下圓柱表面流動及所受合力。結(jié)合圖7和表1可知:在6h/D=0,1,2時,圓柱表面0°<θ<80°區(qū)域附著的邊界層被破壞,使圓柱上側(cè)流動分離點前移,并將前駐點推至圓柱下側(cè),其相關(guān)系數(shù)CC均小于0.5,處于低相關(guān)性區(qū)間;在6h/D=3時,圓柱上側(cè)流動分離點及前駐點逐漸回歸其原位,其壓力因數(shù)曲線與驗證試驗曲線處于中等相關(guān)性區(qū)間;而在6h/D=4,5,6,7時,由于平板尾跡對圓柱影響大幅減弱,圓柱上側(cè)流動分離點及前駐點回歸其原位,相關(guān)系數(shù)CC由0.87增至0.97,處于高相關(guān)性區(qū)間。隨著平板沿垂直于壁面方向遠(yuǎn)離圓柱,前駐點自最大漂移點θ=320°逐漸靠近θ=0°(驗證試驗前駐點),并在6h/D=6時回歸θ=0°并保持,其移動范圍為40°;兩側(cè)流動分離點表現(xiàn)出后移趨勢,其中,圓柱上側(cè)流動分離點自θ=30°逐步后移至θ=80°并保持,移動范圍為50°,而圓柱下側(cè)流動分離點自θ=260°(6h/D=1,2)移至θ=270°(6h/D=3,4,5,6,7),移動范圍為10°。
表1 不同平板位置下圓柱表面流動及所受合力
對8種平板位置,前駐點與圓柱上側(cè)流動分離點之間的距離αupper均保持在70°與80°之間,接近于驗證試驗的85°。這表明隨著平板剪切層對圓柱上側(cè)的影響逐步增強,圓柱上側(cè)的邊界層重新附著于圓柱表面,圓柱上側(cè)流動分離點及前駐點均被逐步拖拽回其原位,在整個過程中αupper保持相對穩(wěn)定。而αlower,即前駐點與圓柱下側(cè)流動分離點之間的距離,則隨平板遠(yuǎn)離圓柱不斷增大,這是由于圓柱下側(cè)區(qū)域處流動相對穩(wěn)定,使得下側(cè)分離點穩(wěn)定在θ=260°及θ=270°,趨近驗證試驗的θ=275°。
(8)
由表1可知:與驗證試驗中圓柱合力因數(shù)Cf=1.12相比,6h/D=0,1,2時的Cf有明顯的下降,尤其是在6h/D=3時,Cf銳降至0.46;而隨著6h/D=4,5,6,7中Cd值逐步回升,圓柱合力因數(shù)Cf也在波動中上升。Cf最小值為0.46,最大值為1.37,可見圓柱所受合力因數(shù)在原值(1.12)的72%至115%之間波動。整個過程中β沿逆時針方向從299°回歸至188°,接近于驗證試驗的180°??梢婋S著平板移動,合力的幅值及方向均有明顯變化,對于實際風(fēng)力機來講,當(dāng)葉片掃過塔架時,塔架受到周期性變化的作用力,加劇塔架的受迫振動。
3結(jié)論
隨著平板遠(yuǎn)離圓柱,兩者的干涉作用迅速減弱。在此過程中,前駐點及圓柱上下側(cè)流動分離點逐步自最遠(yuǎn)偏移點回歸至原位,其中前駐點與圓柱上側(cè)流動分離點偏移量較大,分別為40°及50°,而圓柱下側(cè)流動分離點偏移量為10°。
隨著平板遠(yuǎn)離圓柱,圓柱表面壓力因數(shù)曲線與無平板時壓力因數(shù)曲線的相關(guān)系數(shù)自-0.37增至0.97。圓柱所受合力因數(shù)在原值(1.12)的72%~115%波動,其方向自最遠(yuǎn)偏移點θ=299°逐步回歸至θ=188°。
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基金項目:湖北省自然科學(xué)基金項目(2015CFB628);華中科技大學(xué)自主創(chuàng)新基金項目(2015TS035)
作者簡介:王揚(1990-),男,河南洛陽人,碩士生;李學(xué)敏(1977-),男,湖北武漢人,副教授,博士,碩士生導(dǎo)師,主要研究方向為流體機械內(nèi)流分析、氣動聲學(xué)和風(fēng)能利用技術(shù)等.
收稿日期:2016-01-26
文章編號:1672-6871(2016)04-0026-06
DOI:10.15926/j.cnki.issn1672-6871.2016.04.006
中圖分類號:TK83
文獻(xiàn)標(biāo)志碼:A