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雙頻大氣壓冷等離子體射流制備TiO2的表面形貌研究

2018-05-30 09:18袁強(qiáng)華張亞?wèn)|鑒霄陽(yáng)
關(guān)鍵詞:銳鈦礦譜線催化活性

袁強(qiáng)華,李 洋,張亞?wèn)|,鑒霄陽(yáng)

(西北師范大學(xué) 物理與電子工程學(xué)院,甘肅 蘭州 730070)

當(dāng)今社會(huì)經(jīng)濟(jì)與工業(yè)快速發(fā)展的同時(shí),也帶來(lái)了能源危機(jī)與環(huán)境污染這兩大問(wèn)題,而水污染更是亟待解決的問(wèn)題.半導(dǎo)體光催化劑可以利用太陽(yáng)能將水中的有機(jī)污染物降解成CO2和H2O等無(wú)毒無(wú)害的產(chǎn)物,因此越來(lái)越多的研究者投身于半導(dǎo)體光催化劑的研究中[1-3].半導(dǎo)體光催化劑的催化原理簡(jiǎn)單,當(dāng)一定能量(能量大于禁帶寬度)的光照射到半導(dǎo)體光催化劑表面時(shí),價(jià)帶的電子會(huì)躍遷到導(dǎo)帶上,形成導(dǎo)帶電子,同時(shí)產(chǎn)生光致電子-空穴對(duì).電子和空穴分別具有強(qiáng)還原性和強(qiáng)氧化性,可參與到污染物的氧化還原反應(yīng)過(guò)程中.在眾多的半導(dǎo)體光催化劑中,TiO2更是備受關(guān)注.因?yàn)樗鼰o(wú)毒無(wú)害,制作成本低,而且化學(xué)性能穩(wěn)定,光催化活性高[4-7].但是TiO2作為寬禁帶的n型半導(dǎo)體,也存在一些缺陷,例如可見(jiàn)光區(qū)域(380~780 nm)無(wú)光響應(yīng),光生載流子復(fù)合率較高等[8-11].而這都會(huì)限制TiO2的光催化活性.其實(shí),影響TiO2光催化活性的因素有很多,比如晶型、比表面積和禁帶寬度等.

TiO2的晶型有三種,板鈦礦型、銳鈦礦型和金紅石型.其中板鈦礦型不是很穩(wěn)定,只存在自然界里,很難進(jìn)行人工合成.銳鈦礦型在低溫下比較穩(wěn)定,而到了高溫條件下便會(huì)轉(zhuǎn)化成金紅石型[12].金紅石型的禁帶寬度為3.0 eV,銳鈦礦型的禁帶寬度為3.2 eV.而由于金紅石型比表面積小,對(duì)O2的吸附能力較差,電子遷移率低,導(dǎo)致光生電子空穴容易發(fā)生復(fù)合,所以它的光催化活性比銳鈦礦型低.光催化反應(yīng)過(guò)程發(fā)生在TiO2顆粒的表面,大的比表面積會(huì)產(chǎn)生更多的活性基團(tuán),并且可以增加催化劑與有機(jī)污染物的接觸概率,因此比表面積更大,光催化活性也就更高[13].目前研究人員已經(jīng)制備出了很多種形貌的TiO2,例如片狀、管狀、帶狀還有球狀[14-15].窄化禁帶寬度可以提高TiO2的光吸收能力,使其在可見(jiàn)光范圍內(nèi)也可以有光響應(yīng),從而可以提高太陽(yáng)光的利用率[16].研究表明,對(duì)TiO2進(jìn)行金屬離子摻雜(如Ag,Au,Fe等)[17-20]或者非金屬元素?fù)诫s(如C,N,S等)[21-23]都可以使其禁帶寬度變窄.但摻雜金屬離子存在一些缺點(diǎn),如熱穩(wěn)定性較差,并且會(huì)使載流子復(fù)合中心增加,加速光生電子空穴的復(fù)合.目前認(rèn)為最有發(fā)展前景的是N元素?fù)诫sTiO2.

制備TiO2晶體的方法有很多,如溶膠-凝膠法、水熱法、靜電紡絲法和化學(xué)氣相沉積法等[24-26].其中等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積法(PECVD)備受研究者的關(guān)注,因?yàn)槠渲苽渲芷诙獭⑦^(guò)程無(wú)污染、設(shè)備簡(jiǎn)單、容易操作,并且隨著科技的發(fā)展,大氣壓冷等離子體技術(shù)已經(jīng)在材料的制備方面有了很多的應(yīng)用.這種技術(shù)不需要復(fù)雜昂貴的真空設(shè)備,可以連續(xù)操作,反應(yīng)溫度低,能耗低,無(wú)污染[27].但是由于其操作過(guò)程中能量密度低,所以很難一步獲得晶度較高的TiO2材料.要得到高晶度高活性的TiO2晶體,就需要通過(guò)進(jìn)一步的高溫處理.高溫處理后的TiO2容易產(chǎn)生團(tuán)聚現(xiàn)象,從而影響光催化活性.研究發(fā)現(xiàn),等離子體驅(qū)動(dòng)電源對(duì)等離子體反應(yīng)過(guò)程有很大的影響.低頻驅(qū)動(dòng)的大氣壓等離子體電子密度低,但電場(chǎng)強(qiáng)度高,產(chǎn)生的等離子體羽長(zhǎng);射頻驅(qū)動(dòng)的大氣壓等離子體電子密度高,附加熱量高,等離子體羽短.雙頻驅(qū)動(dòng)下的大氣壓冷等離子體射流結(jié)合了低頻和射頻的優(yōu)勢(shì),有較高的電子溫度,較強(qiáng)的化學(xué)活性,且等離子體羽長(zhǎng),反應(yīng)溫度低,可以通過(guò)一步法制備出高結(jié)晶度的TiO2晶體[28-29].

本實(shí)驗(yàn)中,使用雙頻(100 kHz/100 MHz)驅(qū)動(dòng)冷等離子體在大氣壓下制備TiO2.N2攜帶的鈦酸異丙酯(TTIP)作為鈦源,放電氣體為Ar/O2.實(shí)驗(yàn)改變射頻輸入功率和低頻輸入電壓,探究不同放電參數(shù)對(duì)制備的TiO2表面形貌的影響并對(duì)其光學(xué)特性和電學(xué)特性進(jìn)行分析.

1 實(shí)驗(yàn)部分

1.1 實(shí)驗(yàn)裝置

實(shí)驗(yàn)裝置見(jiàn)圖1.該裝置采用的是一種自制的針-環(huán)電極,其主體部分是一個(gè)總長(zhǎng)為90 mm的石英管,進(jìn)氣口到噴口的距離為60 mm,噴口的外徑為5 mm,內(nèi)徑為3 mm.針電極采用的是直徑為2 mm的鎢針,由100 kHz的低頻電源(CORONALab CTP-2000 K)驅(qū)動(dòng).環(huán)電極采用的是25 mm寬的銅環(huán),銅環(huán)環(huán)繞在石英管的外側(cè),由100 MHz的射頻電源(rishige RSGK100)驅(qū)動(dòng).射頻電源的輸入功率可以通過(guò)射頻分析儀(Octiv Suite sensor unit)檢測(cè).氣體的流量通過(guò)3臺(tái)質(zhì)量流量計(jì)控制.其中,放電氣體Ar(99.999%)的流量為1 000 mL·min-1,反應(yīng)氣體O2(99.999%)的流量為20 mL·min-1.盛放TTIP的鼓泡系統(tǒng)放在恒溫水浴鍋中加熱到80 ℃,再由N2攜帶TTIP進(jìn)入放電區(qū)域,其中N2(99.999%)的流量控制在75 mL·min-1.基底為硅基底.先將硅基底放在超聲波清洗儀中用乙醇溶液清洗30 min,再用去離子水清洗30 min.清洗結(jié)束后,將硅基底放在石英管噴口下方2 mm處.

圖1 實(shí)驗(yàn)裝置圖

1.2 實(shí)驗(yàn)與表征

實(shí)驗(yàn)中保持氣體流量不變,低頻輸入電壓為3 500 V,射頻輸入功率為100 W,此時(shí)制備的樣品標(biāo)記為S1;低頻輸入電壓為3 500 V,射頻輸入功率為110 W,此時(shí)制備的樣品標(biāo)記為S2;當(dāng)?shù)皖l輸入電壓為4000 V,射頻輸入功率為110 W時(shí)制備的樣品標(biāo)記為S3.樣品制備的時(shí)間為1h.樣品的形貌由掃描電子顯微鏡(FE-SEM,Ultra Plus,Carl Zeiss,German)檢測(cè).樣品的結(jié)晶度與結(jié)構(gòu)特性由拉曼光譜(Raman,HORIBA Jobin Yvon)檢測(cè).等離子體的光發(fā)射譜由一個(gè)八通道的光纖光譜儀(Avaspec-2048-8)檢測(cè).等離子體的電學(xué)特性由射頻分析儀檢測(cè).

2 結(jié)果與討論

2.1 表面形貌

圖2為樣品S1的SEM圖像,可以看到此時(shí)所制備的樣品基本為納米纖維結(jié)構(gòu),纖維的直徑約為23 nm.而在這些納米纖維中存在著少量團(tuán)聚的顆粒.圖3為將射頻的輸入功率增加到110 W時(shí)制備的樣品S2.從圖3a中可以看出所制備的樣品分散性較好,呈現(xiàn)出大面積均勻而光滑的球體結(jié)構(gòu),而再?zèng)]有納米纖維結(jié)構(gòu)的存在.這是因?yàn)樵诘入x子體的放電區(qū)域,存在著較高的能量和較多的活性基團(tuán),當(dāng)能量達(dá)到一定時(shí),TiO2顆粒具有了較高的表面能和活性,其表面的原子變得不穩(wěn)定,接下來(lái)就會(huì)結(jié)合成表面能最低的球形.通過(guò)圖3b可以看到這些球體顆粒的粒徑大約在1 300~1 800 nm的范圍內(nèi).并且通過(guò)截取的破裂球體顆粒可以看出,這些球體是屬于中空球結(jié)構(gòu)的.中空球結(jié)構(gòu)擁有大的比表面積,這樣的結(jié)構(gòu)表面可以承載更多的活性基團(tuán),而且增加與反應(yīng)物的接觸概率,更有利于TiO2光催化反應(yīng)的進(jìn)行.圖4為射頻功率保持在110 W,將低頻輸入電壓增大到4 000 V時(shí)所制備的樣品S3.由圖4a可以看到,制備的樣品雖然還是大面積地呈現(xiàn)出球體結(jié)構(gòu),但存在一定程度的團(tuán)聚現(xiàn)象.而團(tuán)聚現(xiàn)象的出現(xiàn)會(huì)降低TiO2的光催化活性,所以在制備過(guò)程中應(yīng)盡量避免這種情況的發(fā)生.并且從圖4b可以看到,球體已經(jīng)變得不再光滑而是出現(xiàn)了塌陷,球體的粒徑范圍大約為1 200~2 000 nm.這是因?yàn)榈皖l輸入的電壓較高,產(chǎn)生了過(guò)高的能量,而最終導(dǎo)致顆粒形貌結(jié)構(gòu)的塌陷.因此,低頻和射頻輸入的能量都會(huì)對(duì)樣品的形貌產(chǎn)生影響,要想得到理想的形貌,必須調(diào)節(jié)好低頻電壓和射頻功率.

圖2 樣品S1的SEM圖

圖3 樣品S2的SEM圖

圖4 樣品S3的SEM圖

2.2 結(jié)構(gòu)分析

如圖5給出了樣品S1與樣品S2的Raman譜.其中,在520 cm-1處的峰是硅的振動(dòng)峰,來(lái)源于硅基底.由Raman譜可以看出,這兩種情況下制備的樣品都是含有銳鈦礦相和金紅石相的混晶體.其中,144,395,636 cm-1分別對(duì)應(yīng)著TiO2銳鈦礦相的Eg振動(dòng)模型,B1g振動(dòng)模型,以及Eg振動(dòng)模型.而在444 cm-1處有一個(gè)微弱的峰,這對(duì)應(yīng)著金紅石相的Eg振動(dòng)模型.對(duì)比S1和S2的Raman譜可以發(fā)現(xiàn),樣品S2有更高的峰強(qiáng)度,并且有更窄的半峰寬度,這說(shuō)明樣品S2比樣品S1的結(jié)晶性更好.這可能是因?yàn)樵谥苽錁悠稴2時(shí),射頻的功率更高,從而提供了更高的能量,產(chǎn)生了更多的活性粒子,從而提高了TiO2的結(jié)晶度.

圖5 樣品S1和S2的Raman譜

2.3 發(fā)射光譜分析

圖6給出了保持氣體流量和低頻電壓不變,射頻功率為80,100,110,120 W時(shí)制備TiO2檢測(cè)到的發(fā)射光譜.在289.1和315.5 nm處分別是鈦離子(Ti Ⅱ)和中性鈦(Ti Ⅰ)的發(fā)射譜線.在337.1,357.5,380 nm處為激發(fā)態(tài)N2(C3Ⅱu)的第二正帶系發(fā)射譜線.511.6 nm處C2的存在主要來(lái)源于先驅(qū)體TTIP的解離.Ar Ⅰ的發(fā)射譜線主要集中在600~1000 nm范圍內(nèi).圖7為不同射頻功率下Ti Ⅰ,N2,C2,Ar Ⅰ和O Ⅰ的發(fā)射譜線強(qiáng)度,由圖可以看到,隨著射頻放電功率的增加,Ti Ⅰ,N2,C2,Ar Ⅰ和O Ⅰ的發(fā)射譜線相對(duì)強(qiáng)度都在增加,并且,Ti Ⅰ,N2,C2,Ar Ⅰ和O Ⅰ的發(fā)射譜線相對(duì)強(qiáng)度的增加趨勢(shì)是相同的,從80 W到100 W之間是緩慢增加的,而在100 W到120 W范圍內(nèi)增加的較快.但Ar Ⅰ的發(fā)射譜線相對(duì)強(qiáng)度從80 W到120 W的過(guò)程中增加的并不是很多,僅增加了約38%.這可能是因?yàn)楦叩纳漕l放電功率,輸入了更高的能量,但這些能量很大一部分用于了先驅(qū)體TTIP還有N2和O2的解離.并且可以看到當(dāng)射頻功率為80 W時(shí),Ti Ⅰ(315.5 nm)的相對(duì)強(qiáng)度較低(射頻功率小于80 W時(shí),Ti Ⅰ發(fā)射譜線強(qiáng)度更低),發(fā)射光譜中幾乎找不到鈦的譜線.直到射頻功率增加到100 W時(shí),才有明顯的鈦離子和中性鈦的發(fā)射譜線出現(xiàn).當(dāng)射頻功率達(dá)到120 W時(shí),Ti Ⅱ(289.1 nm)和Ti Ⅰ(315.5 nm)的譜線強(qiáng)度明顯增加.事實(shí)上,低頻電壓保持不變,若射頻功率過(guò)低,很難進(jìn)行TiO2的沉積,實(shí)驗(yàn)是不成功的.這就是在進(jìn)行TiO2薄膜沉積時(shí),選擇100 W以上射頻功率的原因.

圖6 不同射頻功率下等離子體的發(fā)射光譜

2.4 電流電壓波形分析

圖8為穩(wěn)定放電后,射頻源輸入功率為100 W和110 W時(shí)的電流電壓波形圖.從圖中可以看出電源頻率為100 MHz.圖中電流和電壓的波形圖都是平滑的正弦圖像,說(shuō)明此時(shí)等離子體是持續(xù)穩(wěn)定的在進(jìn)行放電.而且,由于電路屬于非線性的容性負(fù)載電路,所以每個(gè)放電周期中,電流都超前電壓.比較圖8a-b,可以看到當(dāng)射頻功率增加時(shí),電流和電壓都有相應(yīng)的增加.電流的增加使等離子體中的電子密度增加,從而增加了電子與各基團(tuán)物種的碰撞幾率,加強(qiáng)了能量的傳遞.這也很好地解釋了射頻功率為110 W時(shí),等離子體中鈦、氮物種譜線的增強(qiáng)和制備樣品結(jié)晶性的提高.

圖7 不同射頻功率下Ti Ⅰ,N2,C2,Ar Ⅰ和O I的 發(fā)射光譜強(qiáng)度

圖8 射頻功率為100 W和110 W時(shí)的 電流電壓波形圖

3 結(jié)束語(yǔ)

使用雙頻大氣壓冷等離子體射流成功制備出了混晶相的TiO2,通過(guò)改變等離子體的放電參數(shù)來(lái)探究TiO2的表面形貌.樣品的SEM圖顯示改變低頻和射頻的放電參數(shù)會(huì)對(duì)TiO2的形貌產(chǎn)生很大的影響,能夠制備出納米纖維狀、球狀還有塌陷球狀的TiO2.Raman譜顯示制備的TiO2為結(jié)晶性較好的混晶相.通過(guò)等離子體的發(fā)射光譜圖和電流電壓波形圖可以看到,增加射頻功率,會(huì)產(chǎn)生更多的能量來(lái)用于等離子體反應(yīng).總之,在進(jìn)行TiO2的制備時(shí),要控制好電源的輸入功率,輸入過(guò)高的能量會(huì)導(dǎo)致粒子的團(tuán)聚和結(jié)構(gòu)的塌陷,從而影響光催化活性,輸入過(guò)低的能量則不能進(jìn)行TiO2的沉積,導(dǎo)致實(shí)驗(yàn)的失敗.

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