牛媛媛 王天明

(1.華東師范大學；2.上海立信會計金融學院，上海 201620；3.上海微電子集團裝備股份有限公司，上海 201203)

0 引言

目前世界高端光刻機制造商有ASML、Nikon和Canon，呈三足鼎立之勢，其中，ASML一家獨大。

1980年當Nikon公司于開始介入光刻機業(yè)務時，美國GCA公司的步進式光刻機產品占有世界90%的市場份額。然而，自20世紀80年代以來，Nikon公司的步進式光刻機快速占有市場，并一舉取代了GCA公司的市場壟斷地位。Nikon公司光刻機業(yè)務起步主要得益于日本半導體芯片制造商的強有力支持，其中包括日立公司、NEC公司、SONY公司和東芝公司，1990年Nikon成為世界最大的光刻設備制造商。盡管Canon公司介入光刻機業(yè)務比較晚，但其以出眾的光學和精密機械技術很快超越了GCA公司。Nikon和Canon以占有70%～75%的市場份額主導世界光刻機技術發(fā)展，并一直持續(xù)到1995年。

在20世紀90年代后期，世界光刻機市場經歷了一次巨變，該變化是由突飛猛進的荷蘭ASML公司觸發(fā)的。ASML公司在1990年的市場份額還不到10%，到了1995年該數(shù)值提升到14%，1998年為23%，2000年升至30%。同一時期，Nikon和Canon的市場份額分別是45%和29%、44%和23%、36%和21%。在并購美國SVG光刻機公司后，ASML的市場份額于2001年上升至37%，2002年成為全球最大的光刻機設備供應商(市場份額為47%)，尤其是基于雙臺(TWINSCAN)技術和TWINSCAN平臺開發(fā)出的浸液式光刻技術更進一步鞏固了ASML的霸主地位。

ASML脫胎于荷蘭的Philips公司，自1984年成立以來歷經35年春秋，已經成長為半導體領域的世界知名跨國企業(yè)，在16個國家、60多個城市設有辦事處。ASML已成為代表荷蘭國家創(chuàng)新能力的一張高科技名片，2010年上海世博會的荷蘭館里就展示了ASML的最新機臺模型。2018年， ASML分布于123個不同國家或地區(qū)的23247名員工的市場銷售額創(chuàng)紀錄達到109億歐元，在半導體設備領域排名世界第二(美國的應用材料排名第一)，產品毛利率達46%。

伴隨半導體產業(yè)的蓬勃發(fā)展，前道光刻機的市場規(guī)模也日趨擴大，從1984年的4.63億歐元增長到2017年的近120億歐元，但ASML的競爭對手卻從1984年的8家下降到當前的3家(ASML、Nikon、Canon)，ASML在前道光刻機領域處于絕對的技術領先和市場壟斷地位，所占市場份額從2005年的57%增加到2017年的85.4%。伴隨ASML的成長壯大，ASML的主要競爭對手Nikon和Canon的市場份額分別從1995年的45%、29%下降到2017年的10.3%與4.3%。

1 ASML公司運作模式

從Philips公司離開的45名技術人員繼續(xù)從事光刻機研發(fā)工作并成立了ASML公司，1985年公司搬至Veldhoven，現(xiàn)在成為ASML公司總部。成立之初，ASML公司為Philips和ASMI共同擁有，由于ASML公司從成立之初就一直虧損，ASMI不得不將其股份的50%轉讓給Philips公司，其余股份則在1988年轉讓給荷蘭的兩家銀行。即使這樣，ASML的商業(yè)化運營仍不理想，經過多種努力，Philips公司成功剝離了ASML的股份，為減少商業(yè)風險，1995年ASML股票在阿姆斯特丹證券市場和美國NASDAQ上市。1995年，美國克林頓政府推出“信息高速公路”計劃，整個半導體市場開始復蘇并蓬勃發(fā)展。2000年3月在ASML股票價格最高時，Philips賣掉了NASDAQ上的大部分ASML公司股票。目前，Philips公司仍擁有ASML公司5.8%的股份，是ASML的第二大股東，僅次于美國量子基金(10.8%)。

2018年，ASML公司實現(xiàn)年銷售額109億歐元，凈獲利25億歐元(占銷售額的23%)。截至2018年12月31日，ASML擁有員工23247名，研發(fā)員工8500多名，研發(fā)投入16億歐元，主要用于EUV極紫外光刻技術、浸液光刻技術及一體式光刻工藝研發(fā)。2018年，ASML實現(xiàn)人均銷售額46.9萬歐元，人均凈利潤10.75萬歐元，研發(fā)人員人均研發(fā)費用18.8萬歐元，無論是銷售額、凈利潤，還是研發(fā)投入，ASML都遠高于競爭對手Nikon和Canon。

2018年ASML銷售光刻機設備224臺份，每臺均價4866萬歐元，其中包括17臺最新的TwinscanNXT:2000i浸液式系統(tǒng)和17臺TwinscanNXE:3400B EUV新系統(tǒng)，用于芯片制造商最先進的10nm以下工藝節(jié)點。TwinscanNXT:2000i浸液式系統(tǒng)產率達275片/小時，NXE:3400B EUV系統(tǒng)產率可達每小時145片以上。

在前道光刻機設備領域，ASML公司在短短的18年(1984-2002年)里就從一個名不見經傳的小公司成長為銷售額居世界第一位的光刻機設備制造商；又用了16年(2003-2019年)成為半導體領域頂級的高科技公司。上述巨大的成功并不是偶然的，它與ASML的企業(yè)運作特點、產品開發(fā)模式、市場準確把脈和勇于技術革新緊密相關。

1.1 ASML公司運作特點——優(yōu)勢互補、強強聯(lián)合

ASML公司本質上是一組擁有核心技術的獨立企業(yè)聯(lián)盟，聯(lián)盟由核心企業(yè)和固定供應商組成。ASML與全球700多家專業(yè)供應商合作，其中，ASML-Philips-Zeiss構成ASML企業(yè)聯(lián)盟的核心。ASML負責光刻機整機技術，Philips負責高速高精度的運動臺技術，Zeiss負責光刻機光學系統(tǒng)的開發(fā)。固定供應商提供光刻機相關的功能模塊和單元組件，主要包括VDL、NTS GROUP、NEWAYS、IDE、Agilent等關鍵供應商。2016年，分布在全球的700多家供應商提供的功能模塊和單元組件貢獻了ASML光刻設備約85%的外購成本，其中，40家關鍵供應商占據所有外購成本的80%。荷蘭本國供應商數(shù)量最多，占43%，成本貢獻30%；歐洲其它地區(qū)供應商占17%，成本貢獻54%，其中，一半以上來自Zeiss公司。2018年ASML光刻設備總成本的28.3%購自Carl Zeiss(2017年為26.6%；2016年為27.6%)；亞洲北美供應商數(shù)量占40%，成本貢獻16%。這種由供應商網絡組成的企業(yè)聯(lián)盟具有優(yōu)勢互補、強強聯(lián)合的優(yōu)勢，使得ASML能專注于自身獨特的能力優(yōu)勢——整機系統(tǒng)設計、整機系統(tǒng)集成(軟件和硬件)、產品服務與支持以及產品銷售與營銷。

另外，ASML與比利時的IMEC光刻研究中心保持著長期合作關系，IMEC為ASML新機型提供光刻工藝測試平臺。通過該平臺，ASML可以與光刻工藝專家和芯片制造商進行有效溝通，從而快速改進光刻工藝并將其固化到整機軟件系統(tǒng)中。同時，ASML與大學(TU/e、Delft、Twente等)、研究機構(TNO、IMEC、PSI等)建立了長期廣泛的技術合作關系。 ASML的核心聯(lián)盟、固定供應商、合作大學和研究機構大多位于荷蘭(Eindhoven)、德國(Aachen)和比利時(Leuven)三國交界的Eindhoven-Aachen-Leuven三角地帶，地理位置近，交通便捷，合作便利。

Philips公司總部位于荷蘭的Eindhoven，ASML公司總部位于Veldhoven，兩公司距離僅20分鐘車程，Philips CFT距離ASML公司也僅有幾公里之遙。ASML將晶圓臺和掩模臺技術委托給Philips CFT、Philips研究機構和Philips的下屬制造機構。晶圓臺和掩模臺技術具體包括運動平臺技術開發(fā)、視覺系統(tǒng)、直線電機技術、材料工業(yè)、摩擦學、熱控制、運動控制以及系統(tǒng)集成與測試。在新產品運動精密平臺研發(fā)早期階段，ASML公司也與Philips CFT和Philips研究機構聯(lián)合開展了相關研究，ASML每年支付給Philips公司的研發(fā)費用占其從Philips公司總購買值的比例一直維持在30%～40%。

Carl Zeiss半導體分部，具體提供光刻機的投影物鏡和照明單元，距離ASML約有4小時車程，ASML所有的投影物鏡和照明系統(tǒng)均由Carl Zeiss公司提供。Carl Zeiss在20世紀80年代也曾為GCA公司和日立公司提供物鏡單元，后來兩家公司的市場占有率持續(xù)萎縮，Carl Zeiss就逐漸成為唯一給ASML提供物鏡照明系統(tǒng)的供應商，這種供應關系具有排他性。Carl Zeiss公司承擔了ASML光刻設備所有曝光系統(tǒng)的研發(fā)和制造工作，范圍覆蓋物鏡和照明系統(tǒng)的研究與開發(fā)、單一透鏡和反射鏡鏡片的工藝制造、物鏡光學系統(tǒng)的集成，以及物鏡系統(tǒng)的測試與調整等。此外，通過合理的機制設計，ASML與Carl Zeiss有效避免了排他性合作關系下潛在的利益沖突，該機制包括ASML與Carl Zeiss之間建立定期相互交換研發(fā)工程師和科學家的制度，以及共同開發(fā)、利益共享機制等。2017年，ASML間接收購了德國Carl Zeiss半導體分部SMT股份有限公司的24.9%股份，以促進EUV光學系統(tǒng)進一步發(fā)展。

ASML公司集成了全荷蘭、歐洲甚至世界范圍內最專業(yè)的制造商來設計、研發(fā)與制造光刻機，充分展現(xiàn)了優(yōu)勢互補、強強聯(lián)合的企業(yè)集群優(yōu)勢。為了研發(fā)出光刻機不同單元技術，需要相關公司的長期投入，而這種優(yōu)勢互補的企業(yè)聯(lián)盟結構最能夠發(fā)揮各自專長，最大程度上降低了主要單元的研發(fā)商業(yè)風險。強強聯(lián)合的聯(lián)盟企業(yè)均是光刻機相關單元系統(tǒng)的專業(yè)制造者，從而確保了這種合作的有效性，有效縮短了功能單元系統(tǒng)的開發(fā)周期，保證了研發(fā)質量。另外，良好的利益共享機制也保障了這種優(yōu)勢互補、強強聯(lián)合合作體系的穩(wěn)定性和長效性。

1.2 ASML產品的開發(fā)模式——模塊化產品與專業(yè)化平臺

ASML光刻機采用模塊化的設計、制造、集成和調試，光刻機的主體單元按照模塊化架構分成8大功能組、50多個功能模塊。8大功能組分別是：物鏡、光源、照明、晶圓臺、掩模臺、傳輸、對準、框架等。這種采用模塊化設計的光刻機架構剛好適應了ASML公司的組成特點，企業(yè)組織與產品架構完美對應，剛好詮釋了康威定律(Conway’s Law)。各模塊分系統(tǒng)與單元組件在ASML企業(yè)聯(lián)盟和關鍵供應商內部完成設計、制造、組裝以及調試后，經過測試驗收后交付給ASML，最終在ASML的總成凈化車間內完成整機裝配、集成和調試。在整機調試完成后分解成若干大單元，將其包裝并空運到用戶的Fab廠房，再次進行整機安裝、集成和調試后交付給客戶試產。通過采用這種模塊化操作，從接收客戶訂單到設備交付使用的周期大幅縮短，如拆機包裝和運輸1-5周、客戶現(xiàn)場安裝調試及交付1-4周。目前整個周期已縮短至3～4個月，優(yōu)于Canon公司，領先Nikon公司。

快捷的光刻機整機安裝、集成和調試已經成為ASML的核心競爭力之一，這完全得益于ASML光刻機產品的模塊化架構和模塊化開發(fā)方式。

ASML光刻機采用專業(yè)化平臺開發(fā)模式，目前已經形成2大類、4種產品平臺。兩大類包括PAS類平臺和TWINSCAN類平臺。PAS類平臺主要針對直徑200mm晶圓的光刻以及其它光刻微制造領域的特殊應用，目前主要形成PAS 5500平臺產品。TWINSCAN類平臺是ASML成功的根基，主要針對300mm晶圓的光刻，目前形成3種主流平臺產品，分別是：TWINSCAN XT平臺，主要針對干法光刻機產品；TWINSCAN NXT平臺，主要針對浸液光刻機產品；TWINSCAN NXE平臺，主要針對EUV光刻機產品。

目前仍在銷售的4種系列平臺產品及其推出時間分別是PAS 5500(1991)、TWINSCAN XT(2003)、TWINSCAN NXT(2008)和TWINSCAN NXE(2013)，每種專業(yè)化產品平臺都對應一系列衍生產品系列。

PAS 5500產品平臺對應的系列產品有：PAS 5500/100D、PAS 5500/275D、PAS 5500/350C、PAS 5500/450F、PAS 5500/750F、PAS 5500/850C、PAS 5500/8TFH、PAS 5500/1150C及其以前生產的型號機。上述系列產品采用的光源是：i-line，DUV-KrF 248，DUV-ArF 193，線寬涵蓋280nm,150nm,130nm,110nm,90nm。

對應TWINSCAN XT平臺衍生的系列產品有：TWINSCAN XT 400L、TWINSCAN XT 860M、TWINSCAN XT 1060K、TWINSCAN XT 1460K及以前生產的型號機。該系列產品采用的光源是：i-line，DUV-KrF 248，DUV-ArF 193；線寬有220nm,110nm,90nm, 65nm。

TWINSCAN NXT平臺衍生的系列產品有：TWINSCAN NXT 1965Ci、TWINSCAN NXT 1970Ci、TWINSCAN NXT 1980Di、TWINSCAN NXT 2000i，該系列產品均采用DUV-ArF 193光源以及浸液光刻，并支持雙曝光工藝。TWINSCAN NXT 2000i是目前最先進的浸液式光刻系統(tǒng)，可以大規(guī)模制造7nm工藝節(jié)點。

對應TWINSCAN NXE平臺衍生的系列產品有：TWINSCAN NXE 3400B、TWINSCAN NXE 3400C。該系列產品采用EUV光源，線寬將終結摩爾定律的光學極限。TWINSCAN NXE 3400B是新一代商用的EUV光刻系統(tǒng)，融合了產率、最高分辨率以及最先進的套刻和焦深性能。

正是這種以專業(yè)化平臺為依托的新產品開發(fā)模式大大加快了ASML新產品開發(fā)速度，縮短了產品上市周期，且產品質量和性能指標都符合客戶預期。

1.3 ASML的市場驅動機制——引領市場、開拓創(chuàng)新

半導體市場一直遵循摩爾定律發(fā)展。晶圓直徑依次經歷150mm200mm300mm450mm變化，450mm晶圓的光刻設備目前仍處在研發(fā)階段，300mm硅片是半導體行業(yè)使用的主流晶圓。光刻機使用的光源歷經汞燈i-line、DUV-KrF 248、DUV-ArF 193、EUV，光刻工藝代線寬歷經從900nm到7nm的技術發(fā)展。

ASML瞄準未來并引領市場發(fā)展。PAS2500系列產品針對直徑150mm硅片的光刻，光源配置采用G-line、i-line、DUV-248，線寬900nm、500nm；PAS5500系列產品針對直徑200mm硅片的光刻，采用i-line、DUV-248、DUV-193的配置光源， PAS5500實現(xiàn)了步進機向掃描機的跨越，PAS5500/550是ASML開發(fā)的第一臺商用掃描機，線寬280nm、150nm、130nm、110nm、90nm。針對直徑300mm硅片的光刻，為了提高產率，并有效處理運動臺驅動反力，ASML在業(yè)界率先提出雙臺概念，并首創(chuàng)出TWINSCAN平臺，在此基礎上，ASML根據產品特點和關鍵技術，形成了TWINSCAN AT、TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT、TWINSCAN NXE系列平臺產品，最早研發(fā)出的TWINSCAN AT平臺已經廢止，目前市場上存在TWINSCAN XT、TWINSCAN NXT、TWINSCAN NXE三種商用平臺且各有分工。其中，TWINSCAN XT主要用于干法光刻機系列；TWINSCAN NXT主要用于濕法光刻機系列，并支持DoublePattern光刻工藝；TWINSCAN NXE主要用于EUV光刻機系列。

由此可見，ASML緊密跟蹤光刻設備市場發(fā)展動態(tài)，適時推出滿足芯片制造商需要、具有高技術復雜度的尖端光刻機產品，從而引領該行業(yè)市場。ASML之所以能夠實現(xiàn)市場引領，與其強大的開拓創(chuàng)新能力密不可分。

ASML擁有一支數(shù)量龐大且涉及多學科多領域的高科技研發(fā)團隊，每年用于研發(fā)的費用數(shù)以億計。表1顯示，自2015年以來，ASML的研發(fā)人數(shù)占員工總數(shù)的比例一直維持在35%左右，研發(fā)人員逐年遞增，2018年達8500多人。表2顯示，自2008年以來，ASML的研發(fā)費用約占銷售額的16%，研發(fā)投入逐年增長，2018年全年研發(fā)費用支出達16億歐元，主要用于EUV極紫外光刻技術、浸液光刻技術及一體式光刻工藝研發(fā)，以維持并擴大公司技術優(yōu)勢。

表1 ASML公司研發(fā)人員數(shù)量變化情況(2015-2018年)

注：表中原始數(shù)據來源于ASML相關年報

ASML每年數(shù)量可觀的技術專利申請量和專業(yè)技術領域的學術論文發(fā)表量標志著其擁有源源不竭的創(chuàng)新能力。ASML的第一項專利為“Device for exchanging masks”，于1984年5月授權。1984年4月-1991年2月，ASML公司的專利申請量維持在每年4～6項，1990年后有了較大幅度增長，2002年8月，自ASML推出“專利獎勵計劃”(Patent Award Program)以來，專利申請量驟增，平均每兩位工程師就有1位申請了專利，1/3的創(chuàng)新建議轉化為專利并申請保護。截至2018年12月31日，ASML在全球半導體設備和芯片制造國家擁有約12000項專利或專利申請，業(yè)務涵蓋各個領域，其中，約300項的新專利申請可能在未來幾年擴展到其它國家。ASML-Philips-Zeiss企業(yè)聯(lián)盟每年在SPIE發(fā)表的學術論文、會議論文涉及多個方面，獨立發(fā)表或與芯片制造商、分系統(tǒng)模塊制造商、材料提供商、大學和研究機構合作發(fā)表的文獻量逐年遞增，超過競爭對手Nikon和Canon，這些都標志著ASML擁有強大的開拓創(chuàng)新能力。

表2 ASML公司研發(fā)費用變化情況(2008-2018年)

注：表中原始數(shù)據來源于ASML相關年報

表3 ASML公司光刻設備平均售價比較(2015-2018年)

注：表中原始數(shù)據來源于ASML相關年報

ASML的創(chuàng)新能力集中體現(xiàn)在光刻機設備性能上，這些創(chuàng)新也為ASML帶來了良好的市場口碑和豐厚的經濟回報，每年售出的光刻機設備均價從2000年初的約820萬歐元/臺(2000-2003年年均價)驟增到現(xiàn)在的4520萬歐元/臺(2015-2018年年均價)。通過實施技術創(chuàng)新，光刻設備性能大幅提升，設備技術復雜度也隨之提升，在15年里ASML的光刻機平均售價增長了約5.5倍，這也為繼續(xù)創(chuàng)新提供了不竭動力和資金源泉。

ASML于1980年代研發(fā)出PAS 2000/5000平臺及其系列產品，費用支出達5000萬歐元；1990年代研發(fā)出PAS 5500平臺及其系列產品，費用支出約4億歐元；2000年代研發(fā)出具有里程碑意義的TWINSCAN平臺及其浸液光刻，經費支出達15億歐元之多；2010年后對NXE EUV加大研發(fā)力度，集中歐洲與北美研究機構進行聯(lián)合攻關，研發(fā)投入20余億歐元。

強大的創(chuàng)新能力是ASML產品不斷推陳出新的動力源泉，是ASML公司30多年技術積累的厚積薄發(fā)。由此不難理解為什么在光刻機設備領域具有里程碑意義的雙臺技術和浸沒式技術最早在ASML誕生，并通過進一步技術改進和質量完善，成功實現(xiàn)商業(yè)化應用。針對下一代EUV光刻技術，ASML公司20多年來一直懷抱著攻堅克難的執(zhí)著精神進行探索和研發(fā)，終于在2018年實現(xiàn)了EUV光刻設備具有經濟性的量產產率。ASML所有這些具有開拓性的技術創(chuàng)新大大推動了半導體產業(yè)發(fā)展，為芯片制造商提供強大的支撐服務，持續(xù)推進摩爾定律向前發(fā)展，逐步逼近光學極限。

1.4 ASML公司治理特點——管理委員會負責公司治理，兩個總裁分管技術和運營

ASML董事會管理委員會目前采用兩總裁體制：一位總裁兼任首席執(zhí)行官，對公司財務運營和經營管理總負責；另一總裁兼任首席技術官，對公司產品應用和技術開發(fā)總負責。該體制類似中國航天業(yè)的“兩總”制(總指揮和總工程師)。

ASML公司董事會管理委員會負責公司治理，現(xiàn)有成員6人。他們擁有豐富的行業(yè)任職背景，都曾在國際大公司中擔任要職，在相關的科學、技術、財務和營銷領域擁有豐富的資源，是相關領域先進的技術專家和管理專家。董事會的部分成員還在與ASML有合作關系的供應公司、大學和研究機構中擔任兼職工作。

現(xiàn)任ASML總裁兼首席執(zhí)行官彼得·溫寧克(Peter Wennink)于2013年7月1日被任命。他于1999年加入ASML公司，擔任執(zhí)行副總裁、首席財務官和管理委員會成員。彼得在財務和會計方面擁有深厚的背景。在加入ASML之前，他曾在Deloitte Accountants擔任合伙人，專注于高科技和半導體設備。除了在ASML擔任職務外，彼得還是荷蘭皇家特許會計師協(xié)會會員、埃因霍溫理工大學監(jiān)事會成員、FME-CWM的董事會成員(FME-CWM是荷蘭科技行業(yè)的雇主組織)。

現(xiàn)任總裁兼首席技術官馬丁·范登布林克(Martin van den Brink)于2013年7月1日被任命。他于1984年初加入ASML，是ASML第一批創(chuàng)始人雇員之一，并擔任多個工程職位，負責包括產品開發(fā)引入模塊化設計、實施開放的創(chuàng)新政策以及TwinScan雙臺架構、浸沒式光刻技術和極端紫外(EUV)光刻技術等幾乎所有的重大技術決策。1995年，馬丁被任命為技術副總裁；1999年被提升為市場營銷與技術執(zhí)行副總裁，并被任命為ASML管理委員會成員。馬丁于1984年獲得荷蘭特溫特大學物理學學位，2012年被阿姆斯特丹大學授予物理學榮譽博士學位，并于2014年獲得荷蘭獅子騎士勛章。他因對納米技術的貢獻而獲得2014年IEEE Cledo Brunetti獎，并因對微電子行業(yè)的杰出貢獻而榮獲2015年IEEE Robert N Noyce獎章，2019年馬丁獲得了IMEC創(chuàng)新終身獎，以表彰其為微芯片所作出的個人貢獻。

2 ASML企業(yè)運作模式啟示

由于地理位置、國情文化、產業(yè)配套等方面存在差異，ASML企業(yè)運作模式很難在中國被原封不動地復制，但其成功的運行機制值得學習和借鑒。

ASML自身擁有的核心技術及其市場表現(xiàn)是其與其它供應商合作的前提和關鍵，是組建企業(yè)聯(lián)盟的基石。聯(lián)盟內的核心企業(yè)和關鍵供應商地理位置接近，交通快捷，溝通便利。ASML與供應商合作并不是采用OEM方式，放手任由供應商去作，而是委派專家和工程師與關鍵供應商一起組建項目研發(fā)團隊，共同制定概念方案和技術路線，并具體控制與項目進度相關的各個環(huán)節(jié)，實現(xiàn)在總體上和細節(jié)上全面關注并指導項目進展。

ASML與大學和研究機構擁有長期友好合作關系，許多帶有試探性的創(chuàng)新技術自提出后，均是先通過大學和研究機構進行原理驗證并開發(fā)出實驗原型后，再將研究成果拿到ASML聯(lián)盟內企業(yè)進行產品工程級的改進和完善，而后作為技術儲備，或以最快速度應用到光刻機產品中。ASML通過對大學和科研機構進行項目資助，聯(lián)合培養(yǎng)碩、博士，很多人畢業(yè)后都留在ASML及其聯(lián)盟企業(yè)內工作。此外，大學、科研機構與聯(lián)盟企業(yè)間的人員交流機制健全，企業(yè)研究人員可以指導學生，亦可以到大學從教或是深造，大學、科研機構的老師和研究人員也可以根據項目性質到企業(yè)任職，人才流動機制健全，流動渠道比較暢通與自由。

ASML在技術領域的厚積薄發(fā)完全得益于其強大的技術研發(fā)隊伍和30多年的經驗積累以及技術積淀。ASML為企業(yè)家精神提供了自由的土壤，使多學科多領域專家和科學家有充分的自由去實現(xiàn)有助于ASML技術優(yōu)勢的新技術與新概念，非垂直的層次結構也使得組織中任何地方產生的想法都有可能變成現(xiàn)實。

同時，ASML聯(lián)盟內的中高層(技術層和管理層)定期互換以及技術工程師的定期互訪機制、董事會管理委員會的兩總裁制、董事會成員的豐富資歷等，這一切都為ASML的健康肌體注入了新鮮“血液”，使之一直保持著旺盛的創(chuàng)新活力。