文 峰,陳禹銘
(沈陽(yáng)理工大學(xué)信 息科學(xué)與工程學(xué)院,沈陽(yáng)110159)
電子元器件表面的缺陷檢測(cè)是深度學(xué)習(xí)應(yīng)用的一個(gè)重要組成部分,其精準(zhǔn)度、檢測(cè)速度與訓(xùn)練速度會(huì)直接影響電子元器件產(chǎn)品的最終品質(zhì)與生產(chǎn)節(jié)奏。人工檢測(cè)的方法早已不能滿足電子元器件現(xiàn)代化生產(chǎn)制造的需求。近些年,基于深度學(xué)習(xí)的缺陷檢測(cè)已經(jīng)有了廣泛應(yīng)用,如布匹表面缺陷檢測(cè)[1]、磁環(huán)表面缺陷檢測(cè)[2]、陶瓷磚表面缺陷檢測(cè)[3]以及鋼軌表面缺陷檢測(cè)[4]等。因此,可以設(shè)計(jì)基于深度學(xué)習(xí)的目標(biāo)檢測(cè)方法,實(shí)現(xiàn)電子元器件表面的缺陷檢測(cè)。
目前根據(jù)檢測(cè)思路的不同將基于深度學(xué)習(xí)的目標(biāo)檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)框架分成兩大類:
一類是基于候選區(qū)域的兩階段深度學(xué)習(xí)目標(biāo)檢測(cè)算法,主要有SPP-Net[5]、R-CNN[6]、Fast-RCNN、Faster-RCNN[7],及以此為基礎(chǔ)的優(yōu)化算法,其共同特點(diǎn)是先找到圖片中物體的邊界框,再用分類器確定框里的物體類別,并回歸精修邊界框的位置;
另一類是基于回歸方法的端到端單階段深度學(xué)習(xí)目標(biāo)檢測(cè)算法,主要有YOLO[8-10]、SSD[11]、FPN、RetinaNet[12-13]、RefineDet[14]、CornerNe等,其中YOLO系列算法在檢測(cè)精度與速度方面表現(xiàn)突出,得到了廣泛的應(yīng)用。
在原有YOLOv3算法基礎(chǔ)上,YOLOv4 算法從數(shù)據(jù)的處理方法、主干網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)、網(wǎng)絡(luò)的訓(xùn)練方式、激活函數(shù)優(yōu)化、優(yōu)化損失函數(shù)等方面進(jìn)行大幅調(diào)整,如自對(duì)抗訓(xùn)練、DropBlock正則化、SPP(Spatial Pyramid Pooling,空間金字塔池化)等,使得模型在檢測(cè)速度和精度上取得較大提升。
YOLOv4 網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)由主干網(wǎng)絡(luò)(backbone)、頸部網(wǎng)絡(luò)(neck)、頭部網(wǎng)絡(luò)(head)三部分組成。主干網(wǎng)絡(luò)的作用是對(duì)圖像進(jìn)行特征提?。活i部網(wǎng)絡(luò)的作用是通過(guò)自上而下或自下而上的方式對(duì)各層的特征進(jìn)行融合,如FPN(Feature Pyramid Networks、特征金字塔網(wǎng)絡(luò))、PAN(Path Aggregation Network,路徑聚合網(wǎng)絡(luò))等;頭部網(wǎng)絡(luò)的作用是接收主干網(wǎng)絡(luò)和頸部網(wǎng)絡(luò)提取加工后的特征信息,進(jìn)行分析計(jì)算后輸出預(yù)測(cè)的結(jié)果。YOLOv4的網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)如圖1所示。
圖1 YOLOv4網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)
YOLOv4算法首先通過(guò)主干網(wǎng)絡(luò)提取輸入樣本的特征,之后通過(guò)頸部網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行特征融合,最后輸入到頭部網(wǎng)絡(luò)中進(jìn)行檢測(cè)。YOLOv4頭部網(wǎng)絡(luò)與YOLOv3頭部網(wǎng)絡(luò)相同,均將輸入圖像劃分成(S,S)的網(wǎng)格,S由最終進(jìn)入頭部網(wǎng)絡(luò)的特征圖尺寸決定,如(76,76)尺寸的特征圖,S值為76,每個(gè)單元格負(fù)責(zé)檢測(cè)中心點(diǎn)落在該格子內(nèi)的目標(biāo)。為完成總共C個(gè)類別目標(biāo)的檢測(cè),YOLOv4頭部網(wǎng)絡(luò)初始設(shè)定每個(gè)網(wǎng)格預(yù)測(cè)3個(gè)邊界框以及邊界框的置信度Conf(Object)[15-16],置信度的計(jì)算公式為
Conf(Object)=P(Object)×IOU
(1)
式中:P(Object)表示目標(biāo)落入該候選網(wǎng)格中的概率;IOU(Intersection Over Union)代表真實(shí)框與預(yù)測(cè)框之間的交并比,公式為
(2)
式中:box(Pred)代表預(yù)測(cè)框;box(Truth)代表真實(shí)框;area()代表面積。每個(gè)預(yù)測(cè)框包含五個(gè)參數(shù),分別為x、y、w、h、Conf(Object),其中x、y代表預(yù)測(cè)框中心與真實(shí)框中心的x軸偏移量與y軸偏移量;w、h分別代表預(yù)測(cè)框的寬和高[17]。依據(jù)網(wǎng)格的輸出結(jié)果,單個(gè)頭部網(wǎng)絡(luò)最終的輸出為S×S×3(5+C)大小的張量。
原YOLOv4模型有3個(gè)頭部分支進(jìn)行目標(biāo)分類與回歸定位,每個(gè)頭部分支對(duì)應(yīng)3個(gè)尺寸的先驗(yàn)框。為了適應(yīng)多尺度檢測(cè),較小尺寸的頭部分支對(duì)應(yīng)較大尺寸的先驗(yàn)框;反之,較大尺寸的頭部分支對(duì)應(yīng)較小尺寸的先驗(yàn)框。因此,在實(shí)際應(yīng)用中可對(duì)實(shí)際數(shù)據(jù)集進(jìn)行缺陷尺寸分析,通過(guò)去掉不必要的頭部分支來(lái)簡(jiǎn)化模型并保障檢測(cè)精度。
目標(biāo)檢測(cè)算法中先驗(yàn)框機(jī)制的引入摒棄了以往的多尺度滑動(dòng)窗口遍歷環(huán)節(jié),提升了目標(biāo)檢測(cè)的速度和精度[18]。YOLOv4算法的損失由坐標(biāo)損失、IOU損失和分類損失三部分構(gòu)成,使用更符合目標(biāo)尺寸的先驗(yàn)框可以減少IOU損失,從而降低算法整體的損失值,加快模型的收斂,提升模型的檢測(cè)效果。
由于數(shù)據(jù)集的不同,COCO數(shù)據(jù)集聚類得到的先驗(yàn)框尺寸并不適合實(shí)際應(yīng)用。需使用聚類分析方法對(duì)實(shí)際應(yīng)用數(shù)據(jù)集的標(biāo)注框進(jìn)行分析,獲取與數(shù)據(jù)集中目標(biāo)尺寸及比例相匹配的先驗(yàn)框尺寸。聚類算法一般使用歐氏距離作為樣本點(diǎn)到聚類中心的距離,但使用歐式距離衡量標(biāo)簽相似性會(huì)導(dǎo)致大尺寸標(biāo)簽產(chǎn)生較大的誤差,嚴(yán)重影響聚類的結(jié)果,故本文采用聚類中心與標(biāo)簽的交并比IOU作為聚類的相似度參數(shù)。聚類距離計(jì)算公式為
d=1-IOU
(3)
聚類的數(shù)量代表了不同尺寸先驗(yàn)框的數(shù)量,先驗(yàn)框的數(shù)量能夠確定頭部網(wǎng)絡(luò)的分支數(shù)量,通過(guò)選擇適當(dāng)?shù)木垲悢?shù)量,可對(duì)頭部分支進(jìn)行裁剪。此外,根據(jù)聚類中心的尺寸調(diào)整頭部網(wǎng)絡(luò)中先驗(yàn)框的尺寸,能夠提升模型的收斂速度與檢測(cè)效果。
YOLOv4復(fù)雜的網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)能夠?qū)Υ蟛糠謹(jǐn)?shù)據(jù)集都有較高的檢測(cè)精度,但復(fù)雜的網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)也會(huì)帶來(lái)計(jì)算量的增加。網(wǎng)絡(luò)架構(gòu)的調(diào)整主要是在滿足精度要求的基礎(chǔ)上,最大化地削減網(wǎng)絡(luò)的計(jì)算量,提升檢測(cè)速度與訓(xùn)練速度。因此,考慮訓(xùn)練速度、檢測(cè)速度與檢測(cè)精度三者的均衡,本文設(shè)計(jì)三種逐步簡(jiǎn)化的網(wǎng)絡(luò)模型,分別為模型Ⅰ、模型Ⅱ、模型Ⅲ。對(duì)于YOLOv4網(wǎng)絡(luò)模型的調(diào)整主要有以下幾個(gè)方面。
(1)頭部網(wǎng)絡(luò)調(diào)整
YOLOv4 模型的原有三個(gè)分支,分別用來(lái)識(shí)別圖像中進(jìn)入網(wǎng)絡(luò)后的大中小三個(gè)尺寸的目標(biāo)。通過(guò)對(duì)元器件缺陷目標(biāo)尺寸進(jìn)行聚類分析可知,保留針對(duì)大目標(biāo)的頭部檢測(cè)分支不能提升精度,可將其去除,保留對(duì)中等目標(biāo)和小目標(biāo)檢測(cè)效果較好的兩個(gè)分支來(lái)實(shí)現(xiàn)頭部網(wǎng)絡(luò)的裁剪。
(2)頸部網(wǎng)絡(luò)調(diào)整
對(duì)頸部網(wǎng)絡(luò)中特征融合方式進(jìn)行調(diào)整,由于目標(biāo)尺寸主要為小目標(biāo),將大尺寸特征圖下采樣后與中等尺寸特征圖進(jìn)行融合提升的檢測(cè)效果有限,故去除頸部網(wǎng)絡(luò)中用于特征融合的PAN結(jié)構(gòu),可進(jìn)一步減少網(wǎng)絡(luò)的計(jì)算量,提升網(wǎng)絡(luò)模型的訓(xùn)練速度與檢測(cè)速度。
(3)主干網(wǎng)絡(luò)裁剪
主干網(wǎng)絡(luò)的深度直接影響特征提取速度與網(wǎng)絡(luò)的整體速度。盡管深層的模型非線性表達(dá)能力更好,但同時(shí)也帶來(lái)計(jì)算量的增加。若檢測(cè)目標(biāo)特征明顯、背景簡(jiǎn)單,可通過(guò)適當(dāng)減少主干網(wǎng)絡(luò)殘差結(jié)構(gòu)的數(shù)量,降低網(wǎng)絡(luò)模型的復(fù)雜度。
模型Ⅰ在原網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)基礎(chǔ)上去除針對(duì)大目標(biāo)的頭部檢測(cè)分支,結(jié)構(gòu)如圖2所示。模型Ⅱ在模型Ⅰ的基礎(chǔ)上去除頸部網(wǎng)絡(luò)中用于特征融合的PAN結(jié)構(gòu)與SPP結(jié)構(gòu),同時(shí)調(diào)整主干網(wǎng)絡(luò)中殘差結(jié)構(gòu)的數(shù)量,結(jié)構(gòu)如圖3所示。模型Ⅲ在模型Ⅱ的基礎(chǔ)上進(jìn)一步降低網(wǎng)絡(luò)的深度,去掉輸出尺寸為(19,19)的殘差結(jié)構(gòu),同時(shí)對(duì)頸部網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行相應(yīng)調(diào)整,去除(19,19)尺寸的特征圖上采樣后與(38,38)尺寸特征圖進(jìn)行融合的FPN結(jié)構(gòu),其結(jié)構(gòu)如圖4所示。
圖2 模型Ⅰ架構(gòu)圖
圖3 模型Ⅱ架構(gòu)圖
本文訓(xùn)練和測(cè)試的數(shù)據(jù)集來(lái)源于某廠拍攝的電子元器件圖像。其中測(cè)試集圖片數(shù)量為500,訓(xùn)練集數(shù)量為3000。數(shù)據(jù)集中缺陷類別共為4類,分別為A類(邊緣缺失)、B類(內(nèi)角破損)、C類(多余焊錫)、D類(內(nèi)部弧形區(qū)域破損),各類別之間特征明顯。
圖4 模型Ⅲ架構(gòu)圖
對(duì)數(shù)據(jù)集進(jìn)行聚類分析,能夠?qū)δP偷牟眉襞c先驗(yàn)框尺寸的設(shè)置提供可靠的依據(jù),本實(shí)驗(yàn)采用K-means++算法對(duì)數(shù)據(jù)集進(jìn)行聚類分析。
使用K-means++算法進(jìn)行聚類后得到平均IOU(目標(biāo)標(biāo)注框與其所在簇的簇心的平均交并比)與聚類中心k的關(guān)系如圖5所示。
圖5 平均IOU與聚類中心k的關(guān)系曲線
由圖5可見,隨著k的逐漸增大,平均IOU也逐漸增大,但曲線斜率逐漸減小,k大于6時(shí),平均IOU基本不變,故本實(shí)驗(yàn)選擇聚類中心個(gè)數(shù)為k=6,在此基礎(chǔ)上得到大小分別為(1,16)、(16,6)、(13,12)、(30,17)、(58,12)、(59,33)的先驗(yàn)框,并依據(jù)尺寸大小分配給目標(biāo)檢測(cè)模型中兩個(gè)不同的頭部。
工業(yè)生產(chǎn)中由人工提取的訓(xùn)練樣本數(shù)量有限,嚴(yán)重影響模型的實(shí)際檢測(cè)效果。為提高模型的泛化能力,提升模型的檢測(cè)效果,使用樣本增強(qiáng)方法對(duì)訓(xùn)練樣本進(jìn)行數(shù)據(jù)擴(kuò)增。
本文除使用調(diào)整對(duì)比度、曝光度、加噪聲干擾等數(shù)據(jù)增強(qiáng)方式外,根據(jù)所使用數(shù)據(jù)集的特點(diǎn)設(shè)計(jì)一種樣本增強(qiáng)方式來(lái)擴(kuò)充訓(xùn)練數(shù)據(jù)集,其過(guò)程如下。
(1)將樣本標(biāo)記后產(chǎn)生的掩碼圖以二值圖像的形式讀取,然后將樣本原圖與二值圖像形式的掩碼圖的像素值相加,得到背景為黑色的缺陷圖,如圖6所示。
圖6 生成缺陷圖
(2)對(duì)缺陷圖進(jìn)行物理變換,改變?nèi)毕莸奈锢硇螒B(tài)(多次調(diào)整缺陷的縮放倍數(shù)與角度,使用鄰近插值或雙線性插值等方法徹底改變?nèi)毕菸锢硇螒B(tài),形成新的缺陷)。
(3)先將缺陷圖由彩色圖轉(zhuǎn)換為灰度圖,而后設(shè)置閾值將圖像進(jìn)行二值化,使圖像變?yōu)楹诎變缮男问剑瞥扇毕輬D的蒙版;與蒙版中黑色區(qū)域重疊的像素將被刪除,與蒙版中白色區(qū)域重疊的像素將被保留,蒙版中黑色像素值是0,白色像素值是255;剔除掉背景圖(不含缺陷的正常樣本)中的缺陷所在區(qū)域和缺陷上的空白區(qū)域,形成新的無(wú)缺陷背景圖;最后把新的缺陷補(bǔ)到背景圖中合成一個(gè)新的樣本。樣本生成過(guò)程示例如圖7所示。
在目標(biāo)檢測(cè)領(lǐng)域,為準(zhǔn)確評(píng)估模型檢測(cè)效果,需要計(jì)算被檢目標(biāo)的精準(zhǔn)度(precision)、召回率(recall)及均衡平均數(shù)(f1-score)。
precision度量模型預(yù)測(cè)的準(zhǔn)確率,其含義是模型預(yù)測(cè)出來(lái)的正樣本中實(shí)際正樣本數(shù)量,其計(jì)算式為
(4)
式中:TP是實(shí)際為正樣本且被模型判定為正樣本的數(shù)量;FP是實(shí)際為負(fù)樣本但被模型判定為正樣本的數(shù)量。
recall度量找到所有正樣本的能力,其計(jì)算式為
(5)
式中FN是實(shí)際為正樣本但被模型判定為負(fù)樣本的數(shù)量。
平均精準(zhǔn)度指標(biāo)(Average Precision,AP)綜合了精準(zhǔn)率和召回率的結(jié)果,用于評(píng)估模型在單個(gè)檢測(cè)類別上的表現(xiàn)。mAP(mean Average Precision)為各類別AP的平均值。
f1-score是precision和recall的調(diào)和平均值,其作用是對(duì)precision和recall進(jìn)行整體評(píng)價(jià),其計(jì)算式為
(6)
totalBFLOPS描述網(wǎng)絡(luò)進(jìn)行卷積運(yùn)算時(shí)的計(jì)算量,通過(guò)統(tǒng)計(jì)多次卷積的計(jì)算量總和得到,表示模型的復(fù)雜度。
本實(shí)驗(yàn)使用計(jì)算機(jī) CPU 為 i7-8750H,內(nèi)存為16GB,GPU 為 NVIDIA GeForce GTX2080Ti,在Ubuntu操作系統(tǒng)下對(duì)原始 YOLOv4 網(wǎng)絡(luò)和本文調(diào)整的 YOLOv4 網(wǎng)絡(luò)分別進(jìn)行訓(xùn)練。學(xué)習(xí)率設(shè)置為0.001,batch size為64,衰減系數(shù)設(shè)置為0.0005,迭代10000次。選擇steps模式更新學(xué)習(xí)率,在訓(xùn)練迭代次數(shù)達(dá)到8000和9000 次時(shí),將學(xué)習(xí)率分別降低至初始學(xué)習(xí)率的10%和1%。實(shí)驗(yàn)中測(cè)試集數(shù)量為500。A、B、C各組實(shí)驗(yàn)中訓(xùn)練集數(shù)量分別為500、1000、3000,數(shù)據(jù)增強(qiáng)后的訓(xùn)練集數(shù)量分別為1000、3000、9000。
本文設(shè)計(jì)3組共18個(gè)實(shí)驗(yàn),分別驗(yàn)證訓(xùn)練集樣本數(shù)量、網(wǎng)絡(luò)輸入尺寸、模型深度等對(duì)網(wǎng)絡(luò)整體檢測(cè)效果的影響,實(shí)驗(yàn)結(jié)果如表1、表2、表3所示,其中模型名稱“YOLOv4-416o”代表網(wǎng)絡(luò)輸入尺寸為(416,416)且不使用數(shù)據(jù)增強(qiáng)的YOLOv4網(wǎng)絡(luò);模型名稱“YOLOv4-416”代表網(wǎng)絡(luò)輸入尺寸為(416,416)的YOLOv4網(wǎng)絡(luò);模型名稱“YOLOv4-608”代表網(wǎng)絡(luò)輸入尺寸為(608,608)的YOLOv4網(wǎng)絡(luò);模型名稱“模型Ⅰ”、“模型Ⅱ”、“模型Ⅲ”代表網(wǎng)絡(luò)輸入尺寸為(608,608)的改進(jìn)YOLOv4網(wǎng)絡(luò)。
表1 A組實(shí)驗(yàn)結(jié)果統(tǒng)計(jì)表
表2 B組實(shí)驗(yàn)結(jié)果統(tǒng)計(jì)表
表3 C組實(shí)驗(yàn)結(jié)果統(tǒng)計(jì)表
對(duì)比A、B、C三組實(shí)驗(yàn)中的YOLOv4-416o可知,隨著訓(xùn)練集數(shù)量不斷增多,mAP逐步提升,證實(shí)相同實(shí)驗(yàn)條件下訓(xùn)練樣本數(shù)量越多,檢測(cè)效果越好。
對(duì)比各組實(shí)驗(yàn)中YOLOv4-416o與YOLOv4-416的結(jié)果可見,采用樣本增強(qiáng)方法后,mAP有一定的提升,說(shuō)明樣本增強(qiáng)方法能夠提高訓(xùn)練的模型對(duì)缺陷形態(tài)的適應(yīng)性,進(jìn)而提升模型對(duì)未知缺陷的檢測(cè)精度。
對(duì)比各組實(shí)驗(yàn)中YOLOv4-416與YOLOv4-608的結(jié)果發(fā)現(xiàn),采用相同的數(shù)據(jù)集進(jìn)行訓(xùn)練時(shí),將網(wǎng)絡(luò)的輸入尺寸調(diào)整到(608,608)時(shí),mAP與recall都有一定的提升,但totalBFLOPS也上漲67.694;可見提高網(wǎng)絡(luò)的輸入尺寸對(duì)網(wǎng)絡(luò)檢測(cè)性能有一定的改善,原因是網(wǎng)絡(luò)輸入尺寸的提高影響網(wǎng)絡(luò)最后輸出的特征圖的尺寸,如416×416的訓(xùn)練網(wǎng)絡(luò),輸出的最大特征圖尺寸是52×52,而608×608的訓(xùn)練網(wǎng)絡(luò),輸出的最大特征圖尺寸是76×76;在目標(biāo)檢測(cè)過(guò)程中由于小目標(biāo)本身含有的像素點(diǎn)較少,在卷積過(guò)程中容易造成信息的丟失,而尺寸比較大的特征圖相對(duì)于小尺寸特征圖能夠更好地保留小目標(biāo)的特征信息,故雖然尺寸的增加會(huì)帶來(lái)計(jì)算量的增加,但特征圖尺寸越大對(duì)小目標(biāo)的檢測(cè)效果越好。
對(duì)比各組實(shí)驗(yàn)中的YOLOv4-608、模型Ⅰ、模型Ⅱ、模型Ⅲ的結(jié)果發(fā)現(xiàn),隨著模型的簡(jiǎn)化,計(jì)算量大幅降低,而mAP僅有少量的損失;針對(duì)中小尺寸的目標(biāo)檢測(cè)可以通過(guò)裁剪頭部分支達(dá)到簡(jiǎn)化模型的目的,當(dāng)檢測(cè)目標(biāo)具有特征明顯、背景簡(jiǎn)單的特點(diǎn)時(shí),并不需要十分復(fù)雜的網(wǎng)絡(luò)結(jié)構(gòu)就能達(dá)到良好的檢測(cè)效果;recall與f1-score并沒(méi)有顯著的變化,說(shuō)明本文提出的模型調(diào)整方法對(duì)電子元器件表面缺陷具有較好的檢測(cè)效果。檢測(cè)實(shí)例效果如圖8所示。
圖8 各類缺陷檢測(cè)圖
實(shí)驗(yàn)過(guò)程中,在保證每個(gè)模型訓(xùn)練時(shí)batch size為64且迭代次數(shù)為10000的情況下,統(tǒng)計(jì)每個(gè)模型訓(xùn)練所消耗的平均時(shí)間,結(jié)果如表4所示。
表4 模型訓(xùn)練時(shí)間統(tǒng)計(jì)表
由表4可見,模型Ⅱ與模型Ⅲ相比于其他模型訓(xùn)練所消耗的平均時(shí)間節(jié)省60%以上,極大縮減模型訓(xùn)練所需要的時(shí)間成本。
根據(jù)電子元器件數(shù)據(jù)集,提出基于改進(jìn)YOLOv4的目標(biāo)檢測(cè)網(wǎng)絡(luò)模型。根據(jù)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)集的聚類分析結(jié)果,將原YOLOv4算法中3個(gè)頭部分支裁剪為2個(gè),縮減了網(wǎng)絡(luò)的模型參數(shù);通過(guò)裁剪主干網(wǎng)絡(luò)中的殘差結(jié)構(gòu),降低了網(wǎng)絡(luò)的深度,提升了網(wǎng)絡(luò)模型訓(xùn)練速度和檢測(cè)速度;通過(guò)提高網(wǎng)絡(luò)模型訓(xùn)練與檢測(cè)時(shí)的網(wǎng)絡(luò)輸入尺寸提升了網(wǎng)絡(luò)模型對(duì)小目標(biāo)的檢測(cè)能力;通過(guò)設(shè)計(jì)樣本增強(qiáng)方法提升了模型的泛化能力,進(jìn)而提升了模型的實(shí)際檢測(cè)效果。
實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明,使用本文提出的基于改進(jìn)YOLOv4的電子元器件表面缺陷檢測(cè)方法,能夠滿足工業(yè)生產(chǎn)中對(duì)模型檢測(cè)精度、模型訓(xùn)練速度和模型檢測(cè)速度的需求。