穆冰碩,來水利,張 燕
(陜西科技大學(xué) 中國輕工業(yè)輕化工助劑重點實驗室,陜西 西安 710021)
共聚物阻垢劑是運用溶液聚合的方法,將含有各種官能團的單體,如羧基、羥基、磺酸基、酰胺基、酯基等合成二元、三元以及四元聚合物[1]。阻垢劑的阻垢原理就是利用當(dāng)中羥基、磺酸基、酰胺基、膦酸基等能夠?qū)饘訇栯x子進行螯合的功能,降低其與陰離子結(jié)合,防止水垢的產(chǎn)生[2]。阻垢劑的阻垢性能與其分子中官能團數(shù)量和比例有著直接的關(guān)系,分子中的羧基具有螯合金屬陽離子的作用,分散原本會形成垢樣的金屬離子;它還會改變晶體原本的晶格排列,進而達到阻垢的效果。當(dāng)磺酸基團接觸到阻垢分子時,由于此強酸基團的親水性和離子特性都比較顯著,能夠加速解離難溶鹽,同時還能發(fā)揮其對羧酸基團形成鈣凝膠的阻礙作用,這樣就能使得阻垢劑產(chǎn)物更好的溶解于水[3-6]。
能夠與衣康酸發(fā)生雙鍵加成聚合反應(yīng)的化學(xué)物有很多,并且生物降解衣康酸的效果都十分出眾;衣康酸價格低廉[7],分子不含磷,對環(huán)境友好,是一種綠色環(huán)保產(chǎn)品[8,9]。2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸分子中的磺酸基能夠顯著改善產(chǎn)物的溶解性,不容易使鈣成為凝膠。甲基丙烯酸烴丙酯可溶解于水,且毒性微乎其微,還能與單體自由基進行聚合反應(yīng)。甲基丙烯酸烴丙酯分子內(nèi)含有阻垢效果顯著的羧基、羥基和酯基官能團。
基于以上原因,本實驗使用原料為衣康酸,為增強改性效果,引入了羧酸基團(-COOH)、弱酸基團(-SO3H)、酯基(-COOR)等具有不同阻垢基團的不飽和單體,制備出一種四元共聚物阻垢劑IA/AA/AMPS /HPMA,此種阻垢劑因不含磷,故不會對環(huán)境造成污染,具有綠色、環(huán)保的特點?;趩我蛩胤?,通過靜態(tài)阻垢試驗,明確了此阻垢劑阻垢性能與單體配比、引發(fā)劑質(zhì)量分數(shù)、反應(yīng)溫度和時間、阻垢劑投入量、阻垢溫度和時間之間的相關(guān)性。
丙烯酸、衣康酸,天津市科密歐化學(xué)試劑有限公司;NaHSO3、K2S2O8、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸、甲基丙烯酸烴丙酯,天津市大茂化學(xué)試劑廠,以上試劑均為分析純。
Agilent PL- GPC50 型凝膠滲透色譜儀(安捷倫公司);Smart Lab 9kw 型X 射線衍射儀(日本理學(xué)Rigaku 公司);ADVANCEⅢ型400MHz 核磁共振波譜儀(德國布魯克Bruker 公司);VECTOR-22 型傅里葉紅外光譜儀(德國布魯克Bruker 公司);TGA5500 型熱重分析儀(美國TA 公司)。
1.2.1 合成 用一個三口圓底燒瓶裝入稱取好的衣康酸(IA)、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸(AMPS),然后將適量的去離子水和丙烯酸(AA)加入其中,設(shè)置好溫度條件,置于攪拌器下進行攪拌,達到預(yù)設(shè)的反應(yīng)時間后,分別將由KPS 和NaHSO3組成的引發(fā)劑以及甲基丙烯酸烴丙酯(HPMA)加入恒壓滴液漏斗中,滴加速度要適當(dāng),滴加時間盡量控制在20~30min,之后,置于恒溫環(huán)境下進行2~3h 的反應(yīng),即成功制備四元聚合物粗產(chǎn)品。
1.2.2 提純 將所得的無色粘稠液體進行冷卻,然后按照體積比(V無水乙醇∶V阻垢劑=2∶1)將無水乙醇加入其中,期間用攪拌棒一直攪拌,直到白色粘稠物質(zhì)全部轉(zhuǎn)移到玻璃棒上,再用表面皿進行收集,用水和無水乙醇進行沖洗,數(shù)次之后,轉(zhuǎn)移到干燥箱內(nèi),將溫度調(diào)至60℃,進行干燥處理,然后設(shè)置好時間,用球磨機進行研磨,這樣就得到了成功提純后的阻垢劑粉末。
在真空干燥箱內(nèi)放入洗凈的燒杯,完全干燥后稱重,用w0表示其重量。然后將適量的聚合物溶液倒入燒杯中,并用w2表示其重量。在干燥箱內(nèi)進行2h 的干燥處理之后,轉(zhuǎn)移到干燥器內(nèi)進行20min 的干燥處理,對其重量進行明確和記錄,循環(huán)若干次,直到重量的誤差小于0.0001g,然后用w1表示其重量。重復(fù)若干次之后得出平均值即可。
將相關(guān)數(shù)值代入公式(1)求出聚合產(chǎn)物固含量:
式中 η:固含量,%;w0:燒杯干燥后的質(zhì)量,g;w1:干燥后燒杯和聚合產(chǎn)物的質(zhì)量,g;w2:干燥前燒杯和聚合產(chǎn)物的質(zhì)量,g。
共聚物阻垢劑阻垢CaCO3和CaSO4的性能測定標準為《GBT 16632-2019 水處理劑阻垢性能的測定碳酸鈣沉積法》和《SYT 5673-93 油田用防垢劑性能評定方法》[10,11]。
1.5.1 核磁共振氫譜測試 在試管中裝入少量樣品(呈固體粉末狀),將適量的(CH3)2-S-O(氘代DMSO)用注射器注入其中,使樣品溶解,然后置于磁場內(nèi),開始測試。
1.5.2 傅里葉紅外光譜測試 取一定量的樣品和KBr(干燥狀態(tài)),為得到粉末樣品,需要進行充分研磨,然后采用壓片法處理測試樣品,得到薄片,以中紅外區(qū)(4000~500cm-1)為掃描范圍,對樣品進行紅外光譜掃描。
1.5.3 XRD 測試 用研缽對稱取好的固體進行研磨,得到粉末,然后在樣品臺上貼好,再轉(zhuǎn)移到X 射線測試儀上對完成了前述步驟的樣品進行測試。工作電壓、工作電流、衍射角、掃描速度分別設(shè)置為40kV、25mA、2θ=5°~9°、10°·min-1。
1.5.4 凝膠滲透色譜測試 按照質(zhì)量要求稱取樣品,輕輕搖勻樣品溶液,用0.22μm 膜進行過濾;取樣50μL,用檢測器進行檢測,對兩根色譜柱的柱溫進行調(diào)節(jié),使之為30℃;流動相選用500×106的疊氮化鈉水溶液以及0.1M 的NaNO3,所選標準為PEG/PEO。
1.5.5 熱失重測試 用瓷坩堝裝入稱好的樣品,在自動進樣機內(nèi)擺放好坩堝,然后按照10℃·min-1的速度進行測試,直到溫度增至600℃。
燒杯重54.5942g,記做w0,將聚合物10mL 加入其中,稱重得64.7114g,記做w2,表1 為四元聚合物IA/AA/AMPS/HPMA 的固含量。
表1 四元聚合物IA/AA/AMPS /HPMA 的固含量((η)%)Tab.1 Solid content of quaternary polymer IA/AA/ AMPS/HPMA((η)%)
由表1 可知,第5、6 次測量結(jié)果均未超過誤差區(qū)間,然后對3 次結(jié)果的平均值進行計算,得到固含量η 的值為25.19%。
2.2.1 單體配比對IA/AA/AMPS/HPMA 阻垢性能的影響 將不同的反應(yīng)物(配比質(zhì)量不同)放入反應(yīng)體系中,然后用異丙醇作為分子量調(diào)節(jié)劑,采用水溶液聚合的方式,在80℃的溫度條件下,采用K2S2O8和NaHSO3作為引發(fā)劑(質(zhì)量分數(shù)8%)進行時長3h 的反應(yīng),從而對阻垢率與反應(yīng)物質(zhì)量配比之間的相關(guān)性進行研究,結(jié)果見表2。
表2 單體配比對IA/AA/AMPS /HPMA 阻垢性能的影響Tab.2 Influence of monomer ratio on the scale inhibition performance of IA/AA/AMPS /HPMA
由表2 可知,共聚物在mIA∶mAA∶mHPMA∶mAMPS=4.5∶1∶0.5∶1 單體配比條件下?lián)碛凶罴炎韫嘎剩韫窩aCO3和CaSO4的效率分別為84.5%和84.2%。在此阻垢率下,共聚物分子內(nèi)官能團比例恰當(dāng)[12]。結(jié)合表2 的數(shù)據(jù)可知,要改善阻垢效果,最直接的方法就是增加AMPS 用量,但需要注意的是,如果使用了太多的衣康酸,反而會影響阻垢效率,聚合反應(yīng)會因為衣康酸用量過多而變得困難,這主要是受空間位阻和極性因素的影響,最終結(jié)果就會導(dǎo)致產(chǎn)物內(nèi)有未轉(zhuǎn)化的衣康酸析出。
2.2.2 引發(fā)劑用量對IA/AA/AMPS /HPMA 阻垢性能的影響 在80℃溫度條件下,按照mIA∶mAA∶mHPMA∶mAMPS=4.5∶1∶0.5∶1 的單體配比進行3h 的反應(yīng),對引發(fā)劑用量進行調(diào)整之后,分析共聚物阻垢率與引發(fā)劑用量之間的相關(guān)性,結(jié)果見圖1。
圖1 引發(fā)劑用量對IA/AA/AMPS /HPMA 阻垢性能的影響Fig.1 Influence of initiator dosage on IA/AA/AMPS /HPMA scale inhibition performance
由圖1 可知,共聚物的阻垢率在引發(fā)劑對應(yīng)8%質(zhì)量分數(shù)時表現(xiàn)最好,整體趨勢為先上升后下降。反應(yīng)速率會隨著引發(fā)劑的減少而變慢,導(dǎo)致反應(yīng)不夠充分,相對分子質(zhì)量也會變低。聚合活性中心會隨著引發(fā)劑用量的增多而變多,這能夠更快推進反應(yīng)進程,同時也會降低聚合物的相對分子質(zhì)量。分子量低于下限或超過上限都會失去阻垢的效用,所以一定要控制好引發(fā)劑的用量,否則會影響反應(yīng)效果。
2.2.3 反應(yīng)溫度對IA/AA/AMPS/HPMA 阻垢性能的影響 以加入單體總質(zhì)量的8%作為引發(fā)劑,在mIA∶mAA∶mHPMA∶mAMPS=4.5∶1∶0.5∶1 單體配比條件下,進行時長3h 的反應(yīng),此次調(diào)節(jié)的是反應(yīng)溫度,基于此來明確共聚物阻垢率與反應(yīng)溫度之間的相關(guān)性,結(jié)果見圖2。
由圖2 可知,共聚物的阻垢率在80℃溫度節(jié)點處達到最佳水平,整體趨勢為先升高后降低;活化分子隨著反應(yīng)溫度的變低而減少;引發(fā)劑在低溫條件下分解效果會變差。聚合反應(yīng)在高溫條件下會迅速反應(yīng),此時其結(jié)構(gòu)會因為分子支鏈交錯纏繞而發(fā)生改變,而且高溫更容易催生副反應(yīng),從而影響阻垢率。
圖2 反應(yīng)溫度對IA/AA/AMPS /HPMA 阻垢性能的影響Fig.2 Influence of reaction temperature on IA/AA/AMPS /HPMA scale inhibition performance
2.2.4 反應(yīng)時間對IA/AA/AMPS /HPMA 阻垢性能的影響 在80℃溫度條件下加入單體總質(zhì)量8%的引發(fā)劑,保持原有的單體配比mIA∶mAA∶mHPMA∶mAMPS=4.5∶1∶0.5∶1,然后對時間參數(shù)進行調(diào)整,用以明確共聚物阻垢率與反應(yīng)時間的相關(guān)性,結(jié)果見圖3。
圖3 反應(yīng)時間對IA/AA/AMPS /HPMA 阻垢性能的影響Fig.3 Influence of reaction time on IA/AA/AMPS /HPMA scale inhibition performance
由圖3 可知,共聚物的阻垢率在進行了3h 的反應(yīng)之后達到峰值,整體趨勢為先上升后下降。在單體參加聚合反應(yīng)期間,聚合物無法在聚合階段過多停留,聚合產(chǎn)物的轉(zhuǎn)化率會因為反應(yīng)時間足夠長而上升。
相應(yīng)地,聚合反應(yīng)會因為反應(yīng)時間比較短而有著較低的完成度。溫度較高條件下反應(yīng)時間過長,此時空間內(nèi)的聚合物分子會因為產(chǎn)物支鏈出現(xiàn)了交錯纏繞的現(xiàn)象而難以伸展。分子中的官能團無法在外邊充分暴露時,其阻垢性能也會受到抑制。
2.2.5 IA/AA/AMPS /HPMA 的質(zhì)量濃度對阻垢性能的影響 在pH 值為7,溫度為70℃的條件下進行時長10h 的反應(yīng),觀察其阻垢CaCO3的情況;在pH 值為9,溫度為40℃的條件下進行時長6h 的反應(yīng),觀察其阻垢CaSO4的情況。CaCO3垢和CaSO4垢形成的水樣環(huán)境分別通過ρCa2+=200mg·L-1,ρHCO-3=700mg·L-1,以及ρCa2+=3000mg·L-1,ρSO24-=4500mg·L-1進行模擬,然后對各質(zhì)量濃度下四元聚合物阻垢劑IA/AA/AMPS /HPMA 阻垢CaCO3的情況進行觀察,結(jié)果見圖4。
圖4 IA/AA/AMPS /HPMA 的質(zhì)量濃度對阻垢性能的影響Fig.4 Influence of mass concentration on IA/AA/AMPS /HPMA scale inhibition performance
由圖4 可知,共聚物的阻垢率整體趨勢為先增加后降低。阻垢基團會因共聚物阻垢劑分子質(zhì)量濃度下降時而較少與溶液內(nèi)的陽離子相螯合,垢物受到了阻垢劑顯著極限作用的影響。另一方面,在水溶液中,阻垢劑分子會對晶體發(fā)生干擾。
這主要是由于,垢樣晶體會在阻垢劑的吸附作用下與之擁有一樣的電荷,這樣晶體之間就會因為同性電荷的相斥作用而無法聚集在一起。正常晶格節(jié)點會因為晶體上附著阻垢劑分子而無法長大,過程中出現(xiàn)位錯現(xiàn)象,垢樣也會因為空格的出現(xiàn)而變得疏松。吸附量與加劑量之間呈正相關(guān)關(guān)系,但是吸附作用和螯合作用與加劑量并非是純粹的正相關(guān)關(guān)系,會有一定的極限范圍;質(zhì)量濃度超過一定值之后,聚合物阻垢劑就會出現(xiàn)相互交錯纏繞或是凝聚下沉(重力影響)的現(xiàn)象,最終影響阻垢率的結(jié)果。
2.3.1 核磁共振譜圖分析
圖5 為IA/AA/AMPS /HPMA 的核磁共振氫譜圖。
圖5 IA/AA/AMPS /HPMA 的核磁共振氫譜圖Fig.5 1H NMR spectrum of IA/AA/AMPS /HPMA
由圖5 可知,IA 中羧基上-OH 的質(zhì)子吸收峰位于11.62ppm 處,AMPS 中酰胺基上-NH 的質(zhì)子峰位于7.38ppm 處,-CH3連接酰胺基,其質(zhì)子吸收峰位于0.99ppm 處,HPMA 上-CH2的質(zhì)子吸收峰位于1.48 和1.78ppm 處,氘代DMSO 的溶劑峰位于2.42ppm 處,AA 中-CH 的質(zhì)子峰位于2.25ppm 處。整個譜圖列出了所有的特征吸收峰,這意味著本次實驗順利合成了目標聚合物。由圖5 可知,聚合物特征吸收峰并沒有顯著的強度差異,這意味著在整個空間上合成聚合物分子是均勻分布的。
2.3.2 傅里葉紅外光譜分析 IA/AA/AMPS /HPMA的紅外光譜圖見圖6。
圖6 IA/AA/AMPS /HPMA 的紅外光譜圖Fig.6 Infrared spectroscopy spectrum of IA/AA/AMPS /HPMA
由圖6 可知,羥基(-OH)和羰基(C=O)的伸縮振動峰分別在3669 和1715cm-1處出現(xiàn),這說明聚合物內(nèi)存在羧基。1249cm-1周圍出現(xiàn)了C-O-C 鍵的不對稱伸縮振動峰,基于前述內(nèi)容進行分析可知,聚合物內(nèi)含有酯基。2899cm-1處是甲基(-CH3)的對稱伸縮振動峰,1630cm-1處已經(jīng)難以看到C=C 雙鍵的特征吸收峰,即聚合反應(yīng)是發(fā)生的。621 和797cm-1處附近出現(xiàn)了C=S 的伸縮振動吸收峰,1045cm-1處是磺酸基團內(nèi)S=O 的不對稱伸縮振動吸收峰,說明磺酸基是聚合物的組成部分。1400 和3448cm-1處附近分別出現(xiàn)了羧基中C=O 和酰胺基中-NH 的伸縮振動吸收峰。酯基內(nèi)C=O 以及C=O 的伸縮振動吸收峰分別在1560 和1137cm-1處出現(xiàn),這也是聚合物內(nèi)含有酯基的表現(xiàn)。
羧基中-OH 的伸縮振動峰出現(xiàn)在2537cm-1周圍,說明羧基是聚合物的組成部分,通過分析紅外譜圖不難發(fā)現(xiàn),當(dāng)中包含了四元聚合物內(nèi)所有的特征基團,合成順利。
2.3.3 X 射線衍射(XRD)分析
IA/AA/AMPS /HPMA 的X 射線衍射(XRD)圖見圖7。
圖7 IA/AA/AMPS /HPMA 的X 射線衍射(XRD)圖Fig.7 X-ray diffraction spectrum(XRD)of IA/AA/AMPS /HPMA
由圖7 可知,吸收尖峰出現(xiàn)了多次,衍射強度在2θ=23°時處于峰值,吸收峰擁有最高強度,聚合物的結(jié)構(gòu)以有序規(guī)則順序進行排列,證明聚合物屬于單斜晶系結(jié)構(gòu)。
2.3.4 凝膠滲透色譜(GPC) 分析 IA/AA/AMPS /HPMA 的GPC 曲線圖見圖8,測定數(shù)據(jù)結(jié)果見表3。
圖8 IA/AA/AMPS /HPMA 的GPC 曲線圖Fig.8 GPC curve of IA/AA/AMPS /HPMA
表3 IA/AA/AMPS /HPMA 的GPC 測定數(shù)據(jù)結(jié)果Tab.3 GPC measurement data result of IA/AA/AMPS/HPMA
由表3 可知,聚合物重均分子量和數(shù)均分子量分別是8.205×103和6.746×103,衣康酸類聚合物若擁有理想的阻垢效果,其分子量最好維持在1000~10000 之間[13,14]。聚合物的多分散系數(shù)為1.216,這意味著其相對分子質(zhì)量呈集中分布的狀態(tài),當(dāng)中沒有太多的雜質(zhì),這就擁有比較理想的純度,這些指標都是其阻垢率高的表現(xiàn),由此證實合成材料具有理想的阻垢性能。
2.3.5 熱失重分析 IA/AA/AMPS /HPMA 的熱失重曲線圖見圖9。
圖9 IA/AA/AMPS /HPMA 的熱失重曲線圖Fig.9 Thermal weight loss curve of IA/AA/AMPS /HPMA
由圖9 可知,聚合IA/AA/AMPS /HPMA 按照如下步驟完成熱分解:首先,水分蒸發(fā)階段,即聚合物的質(zhì)量在30~100℃之間逐漸變低;其次,化學(xué)鍵斷裂階段,此時聚合物的質(zhì)量在100~450℃之間快速降低,期間伴隨失重現(xiàn)象,此現(xiàn)象在100℃時開始出現(xiàn)。
分析可知,溫度增加之后,聚合物質(zhì)量會因為大分子的疏解效應(yīng)而出現(xiàn)損失;最后,聚合物的質(zhì)量在450~600℃之間緩慢下降,進入穩(wěn)定階段。聚合物在高溫條件下會出現(xiàn)碳化現(xiàn)象,然后繼續(xù)瓦解分子,之前質(zhì)量在吸收了大量熱量之后有所變小,之后保持穩(wěn)定。
(1)采用水溶液聚合法制備得到四元聚合物阻垢劑(IA/AA/AMPS/HPMA),所用引發(fā)劑為K2S2O8和NaHSO3,溶劑為去離子水,原料為衣康酸(IA)、丙烯酸(AA)、2-丙烯酰胺基-2-甲基丙磺酸(AMPS)、HPMA。然后對其進行定性表征分析,包括核磁共振氫譜分析、紅外光譜分析、XRD 分析、GPC 分析、熱重分析。
(2)結(jié)合實驗數(shù)據(jù)可知,在80℃溫度條件下,采用8%引發(fā)劑,按照mIA∶mAA∶mHPMA∶mAMPS=4.5∶1∶0.5∶1的比例進行3h 的反應(yīng)是最佳合成條件。在70℃阻垢溫度下投入40mg·L-1,進行10h 的阻垢反應(yīng),可以成功阻垢84.5%的CaCO3;在40℃阻垢溫度下投入同等量的阻垢劑,進行6h 的反應(yīng),可以成功阻垢84.2%的CaSO4。