郭武杰,李 媛,李世帥,吳新龍,譚晉崇,李 薇,楊江峰1,,李晉平
(1. 山西國(guó)新氣體能源研究院有限公司,山西 太原 030032;2. 華新燃?xì)饧瘓F(tuán)有限公司,山西 太原 030032;3. 太原理工大學(xué) 氣體能源高效清潔利用山西省重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,山西 太原 030024)
隨著我國(guó)經(jīng)濟(jì)的高速發(fā)展,對(duì)能源的需求日益增大,能源消耗引發(fā)了環(huán)境污染和資源短缺等系列問題,大力發(fā)展清潔低碳能源是未來(lái)大勢(shì)所趨[1]。煤層氣是賦存于煤層中以甲烷(CH4)為主要成分的非常規(guī)天然氣,屬于低碳能源,目前在我國(guó)探明儲(chǔ)量已達(dá)36.8萬(wàn)億立方米,對(duì)其進(jìn)行有效的開發(fā)和利用可以作為常規(guī)天然氣的有力補(bǔ)充[2,3],進(jìn)而改善我國(guó)的能源結(jié)構(gòu)。通常煤層氣主要來(lái)源于地面直采和井下抽采,地面直采的CH4含量普遍高于90%(體積分?jǐn)?shù),下同),可直接利用;而井下抽采過程則不可避免的混入空氣,導(dǎo)致CH4濃度和熱值降低[4,5],利用難度較大,直接排放無(wú)疑造成資源浪費(fèi)且加劇溫室效應(yīng)[6],因此對(duì)低濃度煤層氣中CH4的富集回收并提純具有重大意義。低濃度煤層氣中除CH4之外,雜質(zhì)氣體氮?dú)猓∟2)的含量(60%)最高[7]。由于CH4與N2均為非極性分子,動(dòng)力學(xué)直徑接近且具有相似的理化性質(zhì),因此二者的分離一直是低濃度煤層氣高效利用的難題。
針對(duì)煤層氣中CH4/N2的分離方法主要有低溫精餾、膜分離和變壓吸附(PSA)等[8]。低溫精餾是一種較為成熟的技術(shù),能夠得到高純度的產(chǎn)品,分離徹底,但該操作投資成本大,能耗較高,在低濃煤層氣富集回收中不夠經(jīng)濟(jì)[9,10];膜分離是分離領(lǐng)域非常高效的方式[11],然而CH4和N2分子性質(zhì)差異較小,使得膜材料選擇性較低,且膜本身造價(jià)高、使用壽命短,目前還需進(jìn)一步開發(fā)出高性能的CH4/N2膜分離材料;PSA技術(shù)具有操作簡(jiǎn)單、能耗低等優(yōu)勢(shì),在吸附分離領(lǐng)域備受關(guān)注[12,13],其核心是吸附劑的研究與開發(fā)。目前市面上常用的吸附劑主要包括活性炭、沸石分子篩以及金屬有機(jī)骨架材料等[14,15],其中分子篩作為應(yīng)用最廣泛的吸附劑材料,其具有優(yōu)良的穩(wěn)定性,在CH4/N2分離領(lǐng)域占據(jù)一定的地位[16,17]。1991年,Ackley等[18]首次報(bào)道了天然斜方沸石在PSA技術(shù)中用于CH4/N2分離,后續(xù)研究者對(duì)該材料進(jìn)行離子交換后發(fā)現(xiàn)其對(duì)N2具有較高選擇性,更加適合作為N2選擇型吸附材料;Kuznicki等[19]對(duì)ETS-4進(jìn)行了詳細(xì)研究,通過離子交換處理后對(duì)N2/CH4分離選擇性達(dá)到3.0左右,具有較好的分離效果。本課題組前期研究發(fā)現(xiàn)高硅鋁比的分子篩具有較高的CH4/N2吸附選擇性(大于3.0)[20,21],非常適用于低濃度甲烷的富集,為變壓吸附提濃甲烷提供了更優(yōu)的選擇。
ZSM-11分子篩最早由Kokotailo等人[22]研究報(bào)道,屬于二維孔道體系的Pentasil沸石,其主孔道尺寸為0.54 nm × 0.53 nm。該材料晶體結(jié)構(gòu)中硅鋁比較高(n(Si)/n(Al) > 30),晶體表面具有明顯的憎水作用及很強(qiáng)的酸性,已被廣泛用于催化領(lǐng)域[23,24],然而在吸附分離領(lǐng)域,對(duì)ZSM-11分子篩的研究鮮有報(bào)道。為此,本文通過改變反應(yīng)條件合成了不同硅鋁比的ZSM-11分子篩,并對(duì)其結(jié)構(gòu)特性進(jìn)行了表征分析,詳細(xì)考察了ZSM-11分子篩對(duì)于CH4/N2的吸附分離性能。
九水硝酸鋁、氫氧化鈉、正硅酸四乙酯、四丁基氫氧化銨(TBAOH),分析純,購(gòu)自上海阿拉丁試劑有限公司;實(shí)驗(yàn)用水為去離子水。
采用水熱合成法制備不同硅鋁比的ZSM-11沸石[25]:反應(yīng)混合物的物質(zhì)的量之比設(shè)定為n(TBAO):
n(Al2O3):n(SiO2):n(H2O):n(Na2O) = 9:m:90:1065:6.5,其中m= 0.45、0.09,n(Si)/n(Al) = 100、500。按上述反應(yīng)物比例加入燒杯中進(jìn)行充分溶解,將混合溶液攪拌12 h轉(zhuǎn)入聚四氟乙烯內(nèi)襯的高壓反應(yīng)釜中,將其密封置于180 °C烘箱中加熱24 h,之后冷卻至室溫,得到的固體產(chǎn)物用去離子水離心洗滌3次,在120 °C烘箱中過夜干燥,最后在空氣氣氛下放置于550 °C馬弗爐中煅燒10 h制得不同硅鋁比的ZSM-11,分別記為ZSM-11-100和ZSM-11-500。
采用德國(guó)Bruker D8 ADVANCE型粉末X射線衍射儀(XRD)測(cè)定吸附劑的晶相結(jié)構(gòu),Cu靶做發(fā)射源(λ= 0.15418 nm),工作電壓和工作電流分別為40 kV和40 mA,掃描范圍5°~40°,掃描速率5 (°)/min,步長(zhǎng)0.02°。采用德國(guó)Netzsch STA449 F5型熱重分析儀在N2氣氛下進(jìn)行樣品的熱失重分析(TGA),升溫速率10 ℃/min,溫度范圍25~800 °C。N2吸/脫附曲線采用美國(guó)麥克多通道氣體吸附儀(ASAP 3020)測(cè)定,以N2為吸附介質(zhì)在-196 °C進(jìn)行,測(cè)試前樣品在200 °C下抽真空脫氣12 h,并使用BET法和BJH法測(cè)得吸附劑相關(guān)結(jié)構(gòu)參數(shù)(比表面積、孔徑和孔容等)。CH4和N2單組分氣體吸附等溫線采用英國(guó)Hiden全自動(dòng)重量法吸附儀(IGA 001)測(cè)定,測(cè)試前將樣品在200 °C溫度下加熱抽真空活化,直至樣品無(wú)進(jìn)一步明顯失重,然后進(jìn)行吸附等溫線測(cè)試,分別在0 °C和25 °C下進(jìn)行,壓力范圍0~500 kPa,測(cè)試點(diǎn)平衡時(shí)間為5 min。
CH4/N2分離選擇性采用理想吸附溶液理論(IAST)計(jì)算[26],對(duì)于25 °C下測(cè)得的吸附等溫線數(shù)據(jù)采用式(1)Dual-site Langmuir模型進(jìn)行擬合:
式中,q為某氣體組分的吸附量,mol/kg;p為氣體組分壓力,kPa;q1、q2表示混合氣中氣體吸附量,mol/kg;b1、b2為Dual-site Langmuir常數(shù),kPa-1。
采用式(2)IAST計(jì)算基于25 °C擬合參數(shù)下樣品對(duì)兩組分的氣體選擇性:
式中,Sads為兩組分選擇性;p1、p2表示混合氣中氣體的分壓,kPa。
基于擬合參數(shù),下文采用式(3)Clausius-Clapeyron方程計(jì)算樣品與CH4、N2之間的吸附熱[27]:
式中,Qst為吸附熱,kJ/mol;R為氣體常數(shù);p為氣體壓力,kPa;T為氣體溫度,K;n為氣體吸附量,mol/kg。
為了評(píng)估該樣品對(duì)CH4和N2混合氣的真實(shí)分離效果,采用Aspen Adsorption軟件對(duì)其進(jìn)行穿透模擬[28]。在模擬過程中,吸附柱初始狀態(tài)設(shè)定為He填充,多組分吸附等溫線用Dual-site Langmuir模型描述,吸附過程用質(zhì)量、動(dòng)量和熱量守恒方程描述,吸附速率采用線性推動(dòng)力方程描述。
該模擬對(duì)實(shí)際復(fù)雜吸附過程進(jìn)行了理想條件下的簡(jiǎn)化:(1)進(jìn)出氣體認(rèn)為是理想氣體;(2)吸附床層空隙率與吸附劑的孔隙率認(rèn)為均一;(3)在吸附床層中只考慮軸向變化。
不同硅鋁比ZSM-11的XRD譜圖、TGA曲線以及N2吸/脫附等溫線如圖1所示。由圖1(a)可知,ZSM-11-100和ZSM-11-500特征衍射峰的位置與強(qiáng)度均與標(biāo)準(zhǔn)譜圖ZSM-11保持一致,表明添加不同硅鋁比均能成功合成ZSM-11分子篩。由圖1(b)可知,樣品在加熱過程中僅發(fā)生一次失重,在25~200 °C之間失重主要?dú)w因于孔道中溶劑分子的脫除,隨后樣品未發(fā)生明顯失重。此外,通過對(duì)煅燒后樣品進(jìn)行XRD表征(圖1(c))可以看出其衍射峰與標(biāo)準(zhǔn)峰基本一致,進(jìn)一步表明該樣品具有較高的熱穩(wěn)定性。由圖1(d)可知,ZSM-11-100和ZSM-11-500等溫吸附線均為I型和Ⅳ型的混合型,在p/p0= 0.40附近其N2吸附量明顯增加,在p/p0= 0.45~1.00之間存在明顯的滯后環(huán),這是由于在介孔結(jié)構(gòu)中發(fā)生了毛細(xì)凝聚現(xiàn)象,從而說明合成的ZSM樣品同時(shí)存在微孔和介孔。
圖1 不同硅鋁比ZSM-11分子篩的(a) XRD譜圖、(b) TGA曲線、(c)煅燒后樣品XRD譜圖和(d) N2吸/脫附等溫線Fig. 1 XRD pattern (a), TGA curves (b), XRD pattern of calcined samples (c) and N2 sorption isotherm (d) of ZSM-11 samples with different Si/Al molar ratio
不同硅鋁比ZSM-11分子篩的孔結(jié)構(gòu)參數(shù)如表1所示,可知當(dāng)n(Si)/n(Al) = 100、500時(shí),合成ZSM-11分子篩的比表面積和孔徑大小相差較小,其微孔體積均保持在0.1 cm3/g左右,這表明原料硅鋁比改變不會(huì)造成分子篩孔結(jié)構(gòu)的變化。
表1 不同硅鋁比ZSM-11分子篩的孔結(jié)構(gòu)參數(shù)Table 1 Textural properties of ZSM-11 samples
為了評(píng)估該樣品對(duì)CH4/N2混合物的分離性能,分別在0 °C和25 °C下對(duì)樣品進(jìn)行了單組分氣體吸附測(cè)試,并采用Dual-site Langmuir吸附模型對(duì)其進(jìn)行擬合,結(jié)果如圖2所示,擬合參數(shù)如表2所示。由圖2可知,隨著壓力的增大,CH4和N2吸附量均呈現(xiàn)上升趨勢(shì),且在兩溫度下均表現(xiàn)出CH4選擇性吸附大于N2的性能。這可能是由于分子篩表面存在電荷,分子的極性、偶極矩等成為影響吸附量的因素,雖然CH4分子四極矩為0,但CH4極化率(2.6 × 10-24cm3)遠(yuǎn)高于N2分子(1.7 × 10-24cm3)[29],從而使得CH4分子在ZSM-11上更容易極化,進(jìn)而產(chǎn)生較強(qiáng)的吸附作用。吸附等溫線顯示高壓下ZSM-11-500對(duì)甲烷吸附容量達(dá)到29.3 cm3/g,略高于ZSM-11-100,這主要?dú)w因于隨著硅鋁比的增大,樣品的微孔表面積提高,為氣體提供了更多的有效吸附空間,進(jìn)而使氣體吸附容量增加。
圖2 ZSM-11分子篩在(a) 25 °C和(b) 0 °C下的CH4、N2吸附等溫線Fig. 2 Adsorption isotherms of CH4 and N2 at 25 °C (a) and 0 °C (b)
表2 Dual-site Langmuir模型擬合的CH4、N2吸附等溫線參數(shù)Table 2 Dual-site Langmuir fitting parameters for CH4 and N2
選擇性和吸附熱是評(píng)價(jià)吸附劑與吸附質(zhì)之間作用力的重要參數(shù)?;跀M合數(shù)據(jù),采用IAST和Clausius-Clapeyron方程分別計(jì)算了樣品對(duì)兩種氣體(V(CH4):V(N2) = 5:5)的吸附選擇性及吸附熱,結(jié)果如圖3所示。由圖3(a)可知,不同硅鋁比的ZSM-11分子篩均表現(xiàn)出較高的CH4/N2選擇性(> 4),遠(yuǎn)高于其他4A(1.5)、5A(1.8)和13X(1.9)型分子篩[30,31],且隨著壓力增大,選擇性無(wú)明顯變化,對(duì)低濃度煤層氣中CH4/N2分離具備一定潛力。此外,從圖3(a)中還可以看出,ZSM-11-100對(duì)CH4/N2選擇性高于ZSM-11-500,推測(cè)這主要是由于隨著硅鋁比的增大,分子篩中平衡陽(yáng)離子降低,導(dǎo)致樣品吸附位點(diǎn)減少,進(jìn)而降低了樣品的選擇性。由圖3(b)可知,在低覆蓋率下,CH4分子在ZSM-11分子篩上的等量吸附熱范圍為19~20 kJ/mol,而N2分子在該吸附劑上等量吸附熱范圍為16~17 kJ/mol,這表明ZSM-11分子篩對(duì)CH4的吸附作用較強(qiáng),與前文氣體吸附選擇性結(jié)果相一致。
圖3 ZSM-11分子篩的(a) CH4/N2選擇性和(b)吸附熱Fig. 3 Selectivity (a) and adsorption heat (b) of CH4 and N2 on ZSM-11 samples
為了進(jìn)一步預(yù)測(cè)該樣品對(duì)于CH4/N2混合物的分離效果,在氣體流量5 mL/min 、25 °C和100 kPa下進(jìn)行了V(CH4):V(N2)分別為5:5和2:8的混合氣穿透模擬,結(jié)果如圖4所示。由圖4可知,在原料氣穿透之前,兩種氣體均被吸附在柱內(nèi),隨后吸附劑對(duì)N2吸附飽和,N2首先穿出吸附柱而迅速達(dá)到平衡,經(jīng)過一段時(shí)間后CH4吸附飽和逐漸穿出,最終達(dá)到原料氣中CH4的濃度。穿透模擬曲線表明ZSM-11分子篩對(duì)CH4的吸附能力大于N2,當(dāng)V(CH4):V(N2)為2:8時(shí),甲烷保留時(shí)間占甲烷穿透時(shí)間比值大于5:5,這說明ZSM-11分子篩更適合于低濃度CH4/N2混合氣的分離。
圖4 ZSM-11分子篩對(duì)V(CH4):V(N2)為(a) 5:5和(b) 2:8混合氣的穿透模擬曲線Fig. 4 Breakthrough simulation curves of V(CH4):V(N2)= 5:5 (a) and V(CH4):V(N2)= 2:8 (b)
以TBAOH為模板劑,通過改變?cè)瞎桎X比成功合成出了高硅鋁比(n(Si)/n(Al) = 100、500)ZSM-11分子篩,利用XRD、TG和N2吸/脫附等方法對(duì)所合成的ZSM-11分子篩進(jìn)行了分析,并采用Dual-site Langmuir模型對(duì)其在CH4/N2混合物中的分離效果進(jìn)行了模擬,主要結(jié)論如下。
(1)在25℃、高壓(500 kPa)下,ZSM-11-100和 ZSM-11-500兩種樣品對(duì)CH4的吸附容量均高于N2,CH4/N2選擇性達(dá)到4.0以上,遠(yuǎn)高于商業(yè)低硅沸石,且CH4吸附熱適中(19~20 kJ/mol),有利于樣品再生和循環(huán)脫附。
(2)混合氣體穿透模擬實(shí)驗(yàn)顯示,ZSM-11分子篩能夠高效去除混合氣中的N2,更適用于低濃度煤層氣中CH4的富集。