張愛偉,王樂,李璐璐,范黎明,武志剛
(中北大學(xué) 理學(xué)院,山西 太原 030051)
在廢水處理的諸多方法中,光催化降解以其綠色、高效、低成本備受關(guān)注[1-5]。石墨碳氮化物(g-C3N4)是一種原料豐富、合成簡單、穩(wěn)定性好的光催化材料,但高的光生電子空穴復(fù)合速率以及有限的光吸收范圍限制了它的發(fā)展和應(yīng)用[6-11]。將 g-C3N4與其他半導(dǎo)體材料復(fù)合形成異質(zhì)結(jié)構(gòu)能顯著提高載流子分離效率從而增強(qiáng)光催化性能[12-17]。本文以熱聚合法制備的g-C3N4為原料,輔助超聲沉淀法制備了SnO/g-C3N4復(fù)合材料,有效提高了 g-C3N4的光催化性能,為g-C3N4的改性研究探索出了一條有效途徑。
尿素、氯化亞錫、氫氧化鈉、檸檬酸三鈉均為分析純,且使用時(shí)均未進(jìn)行二次純化;所使用的去離子水均是實(shí)驗(yàn)室制備的,煮沸驅(qū)除溶解氧并于氮?dú)夥障吕鋮s處理。
JEM-3000型場發(fā)射掃描電子顯微鏡;D/MAX-2A型X-射線衍射儀;Tensor-27型傅里葉變換紅外光譜儀;U-3010型紫外-可見分光光度計(jì);Fluorolog 3-21型熒光分析儀;721型可見分光光度計(jì);ZW30S-19W紫外燈。
1.2.1 g-C3N4的合成 將15.00 g尿素充分研磨后,置于50 mL的坩堝中,用錫紙密封并置于馬弗爐內(nèi)。升溫至550 ℃(6 ℃/min)并保持2 h,自然冷卻后研磨,得到淡黃色的g-C3N4樣品。
1.2.2 SnO的制備 在盛有10 mL去離子水的燒杯中依次準(zhǔn)確加入 0.029 5 g SnCl2·2H2O和 0.088 5 g C6H5Na3O7·2H2O及0.059 0 g NaOH,攪拌30 min后超聲處理1 h。反應(yīng)結(jié)束后,將產(chǎn)物離心并洗滌(去離子水),在60 ℃下干燥后得到黑色的SnO樣品。
1.2.3 SnO/g-C3N4的制備 準(zhǔn)確稱取0.100 0 g制得的g-C3N4樣品加入到盛有10 mL去離子水的燒杯中,利用超聲分散均勻,然后依次加入 0.059 0 g NaOH、0.029 5 g SnCl2·2H2O 和 0.088 5 g C6H5Na3O7·2H2O,攪拌30 min,超聲處理1 h,離心洗滌,在60 ℃干燥后得到SnO摻雜量為15%的SnO/g-C3N4復(fù)合材料。
本實(shí)驗(yàn)采用在低功率19 W紫外線殺菌燈照射下,通過樣品降解RhB的效果來判斷其光催化性能。步驟如下:稱取10 mg樣品加入到裝有100 mL 10 mg/L RhB的燒杯中;在避光的條件下,攪拌 30 min,使整個(gè)體系達(dá)到吸附-解吸平衡;將混合液放置在紫外線殺菌燈下,光照開始計(jì)時(shí),每隔20 min吸取5 mL混合液于離心管內(nèi),離心取其上層清液;測定其吸光度(A),計(jì)算羅丹明B的降解率。
η=(C0-Ct)/C0×100% =(A0-At)/A0×100%
式中η——羅丹明B的降解率,%;
Ct和C0——分別表示t時(shí)刻和初始RhB的質(zhì)量濃度,mg/L;
At和A0——分別表示t時(shí)刻和初始RhB的吸光度。
圖1a為SnO、g-C3N4和SnO/g-C3N4復(fù)合材料的XRD圖譜。
由圖1a可知,制備的g-C3N4在2θ為12.73°和27.31°處出現(xiàn)了衍射峰,分別歸屬于g-C3N4的(100)和(002)晶面,可以確定熱聚法制備的產(chǎn)物為石墨相g-C3N4。對于制備的錫氧化物,在2θ為 29.89,33.35,37.15,47.84,50.74,57.42,62.50°處出現(xiàn)了衍射峰,分別歸屬于四方相SnO的(101)、(110)、(002)、(200)、(112)、(211)和(103)晶面(JCPDS 72-1012)。SnO/g-C3N4復(fù)合光催化材料在27.34,29.76,33.58,37.36,50.78°出現(xiàn)g-C3N4和SnO的特征衍射峰,同時(shí)也沒有其他衍射峰出現(xiàn),說明SnO與g-C3N4復(fù)合后并未改變原始材料的晶相結(jié)構(gòu),也沒有形成新的物種。從XRD圖中還發(fā)現(xiàn)與單一材料相比,復(fù)合材料中的衍射角出現(xiàn)一定程度的偏移,可能是由于復(fù)合材料中兩種組分之間的相互作用導(dǎo)致。
圖1 不同光催化材料的XRD(a)及FTIR圖譜(b)Fig.1 XRD(a) and FTIR(b) of different photocatalytic materials
為了進(jìn)一步證實(shí)制備產(chǎn)物的結(jié)構(gòu),對所制備的g-C3N4、SnO和SnO/g-C3N4復(fù)合材料樣品進(jìn)行FTIR分析,結(jié)果見圖1b。
為了觀察制備產(chǎn)物的微觀結(jié)構(gòu),對樣品進(jìn)行了SEM表征,結(jié)果見圖2。
圖2 g-C3N4(a)、SnO(b)和SnO/g-C3N4(c)的SEM圖Fig.2 SEM images of g-C3N4(a),SnO(b) and SnO/g-C3N4(c)
由圖2a可知,g-C3N4樣品由許多納米片組成,厚度為50 nm左右。圖2b顯示超聲沉淀法制備得到的SnO則是粒徑為30~50 nm納米粒子。將 g-C3N4與少量SnO復(fù)合后(圖2c),g-C3N4的組織形貌并未發(fā)生變化,樣品中還可以觀察到SnO納米粒子分散于g-C3N4的片狀結(jié)構(gòu)中。SnO與 g-C3N4二者之間形成了結(jié)界面,可以促進(jìn)跨越界面的電荷傳遞和分離,從而改善了材料光催化性能和穩(wěn)定性。
圖3a為g-C3N4和SnO/g-C3N4復(fù)合材料的UV-Vis漫反射光譜。
圖3 制備材料的UV-Vis漫反射光譜(a) 及Kubelka-Munk曲線(b)Fig.3 UV-Vis diffuse reflectance spectrum(a) and Kubelka- Munk curves(b) of the prepared materials
由圖3a可知,g-C3N4和SnO/g-C3N4復(fù)合材料在可見光區(qū)均有明顯的吸收峰,單一g-C3N4吸收邊緣在450 nm左右。SnO的添加使得材料的吸收邊緣發(fā)生明顯的紅移,改善了對可見光的響應(yīng),且在450~600 nm范圍內(nèi)對可見光的吸收強(qiáng)度顯著提高。
根據(jù)Kubelka-Munk方程,以hν為橫坐標(biāo),(αhν)1/2為縱坐標(biāo)做圖,可得Kubelka-Munk曲線,見圖3b。由圖3b曲線可確定g-C3N4和SnO/g-C3N4復(fù)合光催化材料的能帶隙值(Eg)。g-C3N4的能帶隙值為2.75 eV,SnO/g-C3N4的能帶隙值減小為2.62 eV,復(fù)合材料的能帶隙值比g-C3N4減小了0.13 eV,說明SnO的復(fù)合可以有效降低g-C3N4的帶隙能,提高太陽光的利用率。
通常,穩(wěn)態(tài)熒光光譜中熒光峰強(qiáng)度越低則激子的分離性能越好,光催化性能越好[20]。圖4為單一g-C3N4及SnO/g-C3N4復(fù)合材料樣品在激發(fā)波長為350 nm下測得的熒光光譜圖(PL)。
圖4 g-C3N4和SnO/g-C3N4光催化劑的熒光光譜圖Fig.4 Fluorescence spectrum of g-C3N4 and SnO/g-C3N4 photocatalysts
由圖4可知,g-C3N4在460 nm處有一個(gè)很強(qiáng)的熒光帶,說明g-C3N4中載流子的復(fù)合較為嚴(yán)重。而復(fù)合材料SnO/g-C3N4的熒光強(qiáng)度明顯的減弱,說明復(fù)合以后的樣品光生載流子復(fù)合得到了明顯的抑制。
圖5a為g-C3N4、SnO和SnO/g-C3N4光催化劑在紫外燈照射下催化降解RhB的性能曲線。
由圖5a降解曲線可知,在實(shí)驗(yàn)條件下,SnO在120 min內(nèi)對RhB幾乎沒有降解效果;g-C3N4120 min 后僅降解42.60%,而g-C3N4復(fù)合SnO后催化性能明顯增強(qiáng),紫外輻照120 min后,RhB的降解率約為93.28%。
由圖5b可知,光活性材料的光催化過程通常遵循Langmuir-Hinshelwood的多相催化動力學(xué)模型,進(jìn)一步對g-C3N4、SnO和SnO/g-C3N4樣品光催化降解RhB的過程研究發(fā)現(xiàn)該過程符合一級反應(yīng)動力學(xué)模型。材料的光催化性能可以通過降解速率常數(shù)(k)評價(jià),k值越大說明光催化活性越高。利用偽一級動力學(xué)模型公式ln(C0/Ct)=kt,計(jì)算出了不同光催化劑的速率常數(shù)(k)值。g-C3N4、SnO和SnO/g-C3N4的速率常數(shù)分別為0.003 76,-2.036 58×10-4,0.023 43 min-1,其中SnO/g-C3N4樣品的降解速率常數(shù)最大,為g-C3N4的6.2倍,因而復(fù)合材料的光催化性能最佳。
圖5 紫外光照射下不同光催化材料的 降解曲線(a)及動力學(xué)擬合曲線(b)Fig.5 Degradation curves(a) and kinetic curves(b) of different photocatalytic materials under simulated sunlight irradiation
圖6 SnO/g-C3N4自由基淬滅實(shí)驗(yàn)的 柱狀圖(a)與光催化反應(yīng)機(jī)理(b)Fig.6 Histogram of captured active species of SnO/g-C3N4(a) and photocatalytic mechanism(b)