康海英,鄭維明,吳繼宗,宋 游,陳 晨,劉桂嬌
(中國原子能科學(xué)研究院 放射化學(xué)研究所,北京 102413)
在后處理工藝研究過程中,需及時獲取1AP中鈾钚濃度的數(shù)據(jù),因此其鈾钚的濃度分析十分關(guān)鍵[1]。在線測量能實時反映工藝點中鈾钚濃度的變化情況,對工藝運行狀況的監(jiān)測和改善具有重要意義。
目前中試廠采用的在線測量方法有γ吸收法測定鈾濃度和自發(fā)X射線法測定钚濃度。γ吸收法[2]測量1AP中鈾的濃度時,實際上測量的是鈾和钚的總濃度,因此會導(dǎo)致鈾濃度測量結(jié)果偏高;采用自發(fā)X射線法[3]進行钚濃度測量時,受钚同位素豐度的影響,需已知每批料液钚同位素的豐度,才能實現(xiàn)钚濃度的準(zhǔn)確測量。目前中試廠的1AP工藝點的在線測量只有γ吸收法,不能實現(xiàn)鈾钚濃度的同時測定。
X射線熒光法作為一種非破壞性分析方法,不受待測元素同位素豐度的影響,可實現(xiàn)鈾钚濃度的同時測量,已廣泛應(yīng)用于后處理鈾和钚的測定[3-10]。Szabo等[3]已成功將此方法應(yīng)用于后處理廠的在線測量。由于臺架實驗樣品量少、管路細、不能開通旁路,要實現(xiàn)在線測量,儀器只能安裝在熱室中,因此要求儀器的體積和幾何結(jié)構(gòu)應(yīng)符合熱室要求,易于安裝和維護,這極大地增加了在線測量的難度。
本工作擬建立一套X射線熒光裝置,通過改變裝置的幾何結(jié)構(gòu)、采用透射內(nèi)標(biāo)、設(shè)計特殊結(jié)構(gòu)的樣品池、密封裝置、延長數(shù)據(jù)線,使X射線熒光裝置滿足臺架實驗的在線測量需求。
在線測量裝置由激發(fā)源、探測器、樣品流通池及數(shù)據(jù)獲取處理幾部分組成,如圖1所示。
圖1 在線測量裝置結(jié)構(gòu)示意圖
X光管產(chǎn)生的X射線照射到1AP樣品和樣品后面的內(nèi)標(biāo)上,激發(fā)樣品中鈾、钚和內(nèi)標(biāo)的特征X射線熒光,通過探測器接收處理,得到譜圖。根據(jù)鈾、钚的特征X射線熒光強度和內(nèi)標(biāo)的特征X射線強度的比值與鈾钚濃度的定量關(guān)系,計算得到鈾、钚的濃度。
該裝置的主要部件如下:XR-100SDD探測器(硅漂移室探測器),分辨率優(yōu)于130 eV(@5.9 keV),電制冷溫度210 K;Eclipse Ⅲ光源,Ag靶X光管,高壓最大電壓45 kV,最大電流50 μA;測量管為聚氯乙烯管(外徑2.9 mm,內(nèi)徑1.32 mm);釔片為內(nèi)標(biāo)。
1) 測量管材料測試
測量管材料選擇聚氯乙烯等輕質(zhì)材料(厚度0~1.6 mm),利用理學(xué)3070E型波長色散X射線熒光儀考察材料對鋯的Kα線(15.774 keV)的吸收。鈾的L線能量為:Lα,13.613 keV;Lβ,17.218 keV。鋯的能量與鈾的能量相近,故聚氯乙烯對鋯的吸收性能代表其對鈾的吸收性。
用ZrO2與微晶纖維素壓制φ18 mm的固體片,將0.1 mm厚的聚氯乙烯膜剪成圓片,覆蓋在壓片上,在50 kV、40 mA下測量疊加不同厚度聚氯乙烯膜對鋯強度(用5 min內(nèi)的計數(shù)表示)的影響,測試結(jié)果列于表1。
表1 不同厚度膜對鋯的Kα線強度的影響
從表1可看出,聚氯乙烯膜越厚對鋯的特征X射線吸收越嚴(yán)重,根據(jù)樣品量和射線的強度確定測量池厚度,為測量池的選擇提供了依據(jù)。
2) 密封碳化硼窗厚度測試
在線測量裝置需安裝在熱室中,為防止熱室中空氣污染腐蝕探測器和X光管的鈹窗,設(shè)計時將樣品測量池與探測器和X光管通過特定的窗口材料相隔離。初級窗口(X光管產(chǎn)生的入射X射線經(jīng)過的窗口)采用銀窗,根據(jù)經(jīng)驗,銀窗用0.2 mm厚銀箔,其內(nèi)表面再加一層Mylar膜;次級窗口(樣品產(chǎn)生的特征X射線熒光經(jīng)過的窗口)采用碳化硼窗,其結(jié)構(gòu)示意圖示于圖2,碳化硼對能量為13.61 keV和14.28 keV的X射線的吸收情況列于表2。
圖2 探測裝置結(jié)構(gòu)示意圖
碳化硼片越薄對鈾钚的特征X射線吸收越小,為盡量降低碳化硼吸收的影響,應(yīng)采用薄的碳化硼窗。由于碳化硼本身的性質(zhì)及加工性能的限制,實驗采用碳化硼窗厚度為0.5 mm。
3) 內(nèi)標(biāo)
內(nèi)標(biāo)能消除各種吸收-增強效應(yīng)、儀器的長期漂移、部分補償粉末和壓塊試樣密度差別的影響,也能補償液體密度、蒸發(fā)、氣泡形成的影響。內(nèi)標(biāo)的信號應(yīng)盡量靠近分析元素的信號,但不能引起譜線干擾。
表2 碳化硼對13.61 keV和14.28 keV X射線的吸收率
在線測量不能將內(nèi)標(biāo)加入樣品,由于測量池是內(nèi)徑1.32 mm的細塑料管,為保證樣品流通性,不能將內(nèi)標(biāo)置于樣品池內(nèi),因此將內(nèi)標(biāo)置于測量池外。測出每個試樣和標(biāo)樣發(fā)出的分析線強度和內(nèi)標(biāo)線強度,按通常方法,使用這兩者之比。若無干擾元素,這種內(nèi)標(biāo)是永久性的,無損耗。
根據(jù)本裝置的結(jié)構(gòu)特點將內(nèi)標(biāo)加以改進,裝在樣品池的背面。因無需透光,故采用金屬片。采用本裝置對含鈾和钚的混合樣品進行測量,其鈾、钚、釔的特征X射線譜示于圖3。從圖3可看出,鈾的特征X射線熒光能量為13.613 keV,钚的為14.278 keV,釔的為14.957 keV,鈾钚溶液對釔的特征X射線吸收作用相同,故選釔作內(nèi)標(biāo)。由于樣品池架空間有限,將釔片做成10 mm(長)×2 mm(寬)×0.2 mm(厚),將其置于光線聚焦點的后面。
圖3 鈾、钚、釔特征X射線譜
4) 探測器、樣品、源主要結(jié)構(gòu)尺寸的確定
在X熒光分析中,激發(fā)源、樣品、探測器三者的位置十分重要,決定著信號和背景信號的強度,因此設(shè)計加工了簡易的測試裝置,通過實驗確定裝置的主要結(jié)構(gòu)尺寸。簡易測試裝置的結(jié)構(gòu)如圖4所示。
圖4 簡易測試裝置主要結(jié)構(gòu)
入射光與出射光的夾角也影響著激發(fā)源、樣品、探測器三者的位置,因此改變?nèi)肷涔馀c出射光的夾角,進行激發(fā)源-樣品和探測器-樣品距離的實驗,綜合考慮峰背比和樣品強度,以確定較好的測量條件。
以1 g/L鈾溶液作為樣品,測量時間為300 s,改變?nèi)肷涔馀c出射光的夾角,研究其對信號強度(峰面積)的影響,結(jié)果列于表3。
表3 入射光與出射光的夾角對峰面積的影響
由表3可看出,入射光與出射光的夾角越小,峰面積計數(shù)越大,由于X光管和探測器本身結(jié)構(gòu)的限制,入射光與出射光的夾角不可能做到很小,在實際設(shè)計時盡可能選擇較小入射光與出射光的夾角,此處選擇60°。
采用美國AMPTEK公司生產(chǎn)的牛津Eclipse Ⅳ X光管和AMPTEK公司的硅漂移探測器(SDD)作為在線測量裝置的兩個主要部件。將探測器和X光管封裝在不銹鋼殼中,為確保不銹鋼殼內(nèi)部不受沾污,設(shè)計插片式密封后片,用真空封泥將電纜孔封死。為避免探測器窗和X光管窗被腐蝕和污染,探測器窗和X射線窗口分別采用0.5 mm厚的碳化硼片和0.2 mm厚的銀片,用不銹鋼壓環(huán)壓緊,并用環(huán)氧樹脂粘接,使探測器和X光管與熱室環(huán)境隔絕。
設(shè)計裝置的幾何結(jié)構(gòu)為:入射光線與出射光線夾角為60°,入射光線與出射光線的焦點為測量點,測量管的中心位于測量點上。為校正樣品自吸收及儀器漂移的影響,在測量管背面壓緊塊上粘接1片釔金屬片作為內(nèi)標(biāo)。設(shè)計好的在線測量裝置如圖5所示。
圖5 在線測量裝置
圖6 測量管及測量池的除氣泡結(jié)構(gòu)
在線測量時,樣品溶液不斷流過測量池,如果測量管中出現(xiàn)氣泡將影響測量結(jié)果,因此要求測量池中無氣泡。本文采用帶有除氣泡功能的測量池,如圖6所示。進液管的溶液流入第1個緩沖瓶,當(dāng)液面達到第2個溢流管高度時自動流出。進液管流速過小時,液面總能保持在第2個溢流管的高度,測量池中充滿液體。進液管流速過大,則通過第1個溢流管自動流入第2個緩沖瓶,始終保持測量池中充滿液體。
儀器長時間運行時,電壓、電流會有一定的漂移。手動調(diào)節(jié)電壓在41~45 kV、電流在46~50 μA范圍內(nèi)變化,考察X光管電壓、電流變化對測量結(jié)果的影響。結(jié)果顯示,采用釔作內(nèi)標(biāo)后,鈾計數(shù)與釔計數(shù)比值的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差為0.5%,說明儀器漂移對測量結(jié)果無影響。
X射線熒光法檢測限的計算公式為:
(1)
式中:LLD為檢測限;Nb為空白計數(shù);S為靈敏度。
采用濃度為0.44 g/L水相鈾和0.41 g/L有機相鈾測量1 000 s,用式(1)計算的水相鈾的檢測限為0.006 1 g/L,有機相鈾的檢測限為0.006 2 g/L。
將有機相標(biāo)準(zhǔn)鈾溶液和水相標(biāo)準(zhǔn)鈾溶液分別稀釋成系列溶液,取樣后采用本文所研制的X射線熒光裝置測量,然后繪制工作曲線,結(jié)果分別示于圖7、8。其中縱坐標(biāo)為Y與U的信號強度之比(NY/NU),橫坐標(biāo)為鈾濃度的倒數(shù)(1/ρ(U))。
圖7 有機相鈾工作曲線
采用圖7的工作曲線,取82.13 g/L有機相鈾標(biāo)準(zhǔn)溶液平行測量6次,平均測量值為84.58 g/L,相對標(biāo)準(zhǔn)偏差為0.42%,滿足工作要求。
臺架實驗連續(xù)運行100 h,X射線熒光裝置長期穩(wěn)定性用相對極差表示。采用圖8的工作曲線,取濃度為70.175 g/L的水相鈾樣品,每5 min測量1次,連續(xù)測量3 h,相對極差為1.6%。說明裝置的穩(wěn)定性較好,滿足測量要求。
圖8 水相鈾工作曲線
配置一系列不同濃度的鈾钚混合溶液(其中U與Pu的濃度比為100∶1)進行測量,分別繪制鈾工作曲線和钚工作曲線,如圖9、10所示。
圖9 鈾钚混合溶液中有機相鈾工作曲線
圖10 鈾钚混合溶液中有機相钚工作曲線
用圖7、8的工作曲線對某臺架實驗實際樣品進行了離線測試,測試結(jié)果列于表4。從表4可看出,測量鈾的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差為2.2%,钚的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差為10%,滿足測量要求。
表4 樣品測定結(jié)果
該裝置經(jīng)實際工作檢測,臺架實驗連續(xù)進行了100 h,本裝置運行正常,實時監(jiān)測的鈾濃度如圖11所示??梢姡狙b置能準(zhǔn)確監(jiān)測鈾濃度的變化,取樣點附近的在線測量值與取樣分析值一致,相對標(biāo)準(zhǔn)偏差為1.3%。
圖11 在線監(jiān)測鈾濃度圖
因屏蔽線中斷,造成探測器分辨率變差,未完成對Pu的在線測量。
本文設(shè)計了1AP在線測量裝置。經(jīng)測試,本裝置測量濃度為82.13 g/L的有機相鈾標(biāo)準(zhǔn)溶液的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差為0.42%;儀器穩(wěn)定性相對極差為1.6%。該裝置安裝在實驗臺架中用于1AP中鈾濃度在線測定,測量鈾濃度的相對標(biāo)準(zhǔn)偏差為1.3%。
該裝置穩(wěn)定可靠、測量時間短,對實時監(jiān)測試驗的運行狀況起到非常大的作用,為后續(xù)在線測量奠定了基礎(chǔ)。
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