吳曉慧

內(nèi)容摘要：石窟考古測(cè)繪在石窟考古工作中具有很重要的意義，為了科學(xué)、系統(tǒng)、準(zhǔn)確、全面地反映石窟的歷史遺跡，我們將繪制不同類型的測(cè)繪圖來(lái)反映洞窟的結(jié)構(gòu)、塑像、壁畫內(nèi)容。由于敦煌石窟群中具有不同形制的佛龕，不能在一個(gè)角度把龕內(nèi)壁畫內(nèi)容全面地記錄下來(lái)?？脊爬L圖工作必須采用龕內(nèi)展開這種特殊的測(cè)繪方法，將佛龕中的壁畫內(nèi)容客觀、真實(shí)、全面地一一展開在畫面上。

關(guān)鍵詞：正投影面；結(jié)構(gòu)；基線；分割線；關(guān)鍵點(diǎn)

中圖分類號(hào)：K879.21；K854 文獻(xiàn)標(biāo)識(shí)碼：A 文章編號(hào)：1000-4106（2016）02-0060-07

Abstract： Archaeological mapping plays a very important role in cave archaeology. In order to scientifically and comprehensively represent the contents of the historical relics of caves， different types of survey maps have been created to show the structure and contents of the caves. Since there are different types of niches in the Dunhuang Caves， contents of murals inside niches cannot be recorded from a single angle. Therefore， the archaeological mapping method of drawing unfolding graphs of niche interiors must be applied. By using this method， the contents of the murals inside niches can be unfolded on paper authentically and comprehensively.

Keywords： frontal plane of projection； structure； base line； cutting line； key points for unfolding drawing

所謂展開圖，顧名思義就是把圓球形的、曲面的、在某個(gè)空間中變形的內(nèi)容，以特殊的分割曲面的方法，以平面的形式把壁畫內(nèi)容直觀、完整地展現(xiàn)出來(lái)。敦煌莫高窟石窟群中具有多種形制的佛龕，在《敦煌石窟全集》第一卷《莫高窟第266—275窟考古報(bào)告》中的11個(gè)洞窟中，有闕形龕、雙樹圓券形龕、穹隆形龕三種龕形。不同的龕形采用不同的測(cè)繪方法。我們現(xiàn)在采用手工測(cè)繪的方法分別以莫高窟第275窟北壁西起第一個(gè)闕形龕和第285窟主室西壁中龕兩種不同形制的佛龕為例來(lái)說(shuō)明如何采用手工測(cè)繪龕內(nèi)展開圖的方法。

一 第275窟闕形龕內(nèi)展開圖的繪制

第275窟北壁西起第一個(gè)佛龕的龕形是闕形龕。闕形龕是具有中國(guó)漢晉傳統(tǒng)風(fēng)格的一種建筑形式，其特點(diǎn)是龕內(nèi)結(jié)構(gòu)基本上是方形的，所要展開的壁面大體是平面的，圖形的分割線基本上是直線，展開的畫面內(nèi)容變形比較小，下面采用手工測(cè)繪的近似展開的方法將這個(gè)佛龕內(nèi)的每個(gè)壁面分別展開。

（一）定義龕形

第275窟北壁西起第一龕是闕形龕，龕形基本上是長(zhǎng)方形，佛龕分為龕內(nèi)北壁、東壁、西壁、龕頂四個(gè)部分，北壁塑一身交腳菩薩像，佛座為方形座，分別定義獨(dú)立的投影面呈現(xiàn)出來(lái)的壁畫內(nèi)容變形都比較小。根據(jù)石窟考古測(cè)繪的原理，這種龕形是一種可以展開的圖形結(jié)構(gòu)（圖1）。

（二）定義比例與構(gòu)圖

a. 定義比例

我們根據(jù)佛龕的實(shí)際尺寸，可以將繪圖比例定義為1∶5，用線段在米格紙上畫出0—25厘米的比例尺，作為完成整幅展開圖的標(biāo)準(zhǔn)尺寸。

b. 構(gòu)圖

構(gòu)圖就是把將要分割的每一個(gè)壁面合理地定格在圖紙上，既符合考古測(cè)繪的要求，又滿足讀者的視覺。

（三）定義起點(diǎn)與終點(diǎn)

在龕內(nèi)佛座的左下角找一點(diǎn)作為這幅展開圖的起始點(diǎn)，在佛座的另一端確定一個(gè)終點(diǎn)，將高程不等的兩點(diǎn)連接起來(lái)，作為展開圖的定稿線（圖2）。

（四）繪制龕底邊線

確定佛龕龕底的每個(gè)高程不等的關(guān)鍵點(diǎn)，然后將每個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)連接起來(lái)，成為佛龕的底邊線，根據(jù)測(cè)出的關(guān)鍵點(diǎn)可以反映出佛龕底邊的平差（圖3）。

（五）分割壁面與壁面的分布

第275窟北壁西起第一個(gè)佛龕，龕內(nèi)壁畫內(nèi)容基本上都是獨(dú)立的畫面，壁面也比較平整，沒有曲面。我們可以將佛龕內(nèi)分割為北壁、東壁、西壁、龕頂四個(gè)畫面將其進(jìn)行展開繪制（圖4）。

（六）定義網(wǎng)格與塑像繪制

我們先制作一個(gè)以5厘米為單位的雙層網(wǎng)格，網(wǎng)格線要絕對(duì)地水平與垂直。然后將方格網(wǎng)架設(shè)在距塑像比較近的前方，也就是做一個(gè)正投影的鉛垂面，把塑像輪廓與細(xì)節(jié)都投影在方格網(wǎng)上。

（七）繪制龕內(nèi)北壁立面圖

龕內(nèi)北壁的壁畫居中繪有三角靠背和頭光，兩側(cè)繪兩身立姿者（供養(yǎng)天人）和忍冬紋。龕內(nèi)壁面和塑像在同一個(gè)投影面上，因此，繪制北壁立面圖和繪制塑像正視圖共同架設(shè)一個(gè)網(wǎng)格便能完成（圖5）。

（八）繪制龕內(nèi)東壁、西壁、龕頂立面圖

1. 定義壁面的位置（壁面與壁面之間）

龕內(nèi)東、西壁壁面繪單葉波狀忍冬紋，龕頂繪椽子。椽子前端浮塑乳釘狀椽頭。龕內(nèi)東、西壁壁面基本沒有弧度，比較平整，結(jié)構(gòu)呈長(zhǎng)方形，最寬的部位在中下部。如何定格東、西壁與北壁的位置，我們可以把壁與壁之間的公共點(diǎn)放在相對(duì)的水平線上，把東、西兩個(gè)展開的壁面放在北壁相鄰的位置，分別向東、西方向展開。

2. 定義基線

根據(jù)龕內(nèi)結(jié)構(gòu)和壁畫的內(nèi)容，分割畫面比較簡(jiǎn)單，壁面與壁面之間的內(nèi)容都比較獨(dú)立，分割線可以自然地隨著佛龕的結(jié)構(gòu)定義。畫面定義一條水平基線、一條垂直基線就可以滿足繪制壁畫的需要了。

3. 繪制龕內(nèi)壁畫

a. 繪制龕內(nèi)東壁、西壁、頂部立面圖（圖6）。

二 第285窟圓券形龕內(nèi)展開圖的繪制

第285窟是西魏時(shí)期開鑿的洞窟，是典型的禪窟，分別有前室、主室。主室西壁開三個(gè)佛龕，中間開一圓券形大龕，兩側(cè)各一個(gè)小龕，龕形均為圓券形龕，具有西域式風(fēng)格。西壁中龕龕內(nèi)由塑像、壁畫兩部分組成。塑像三身，中間塑主尊倚坐佛像，身著褒衣博帶式通肩袈裟，兩側(cè)壁各塑一身脅侍菩薩像。壁面繪有頭光、背光、供養(yǎng)菩薩、飛天，背光中繪多層火焰紋，壁畫內(nèi)容比較豐富、完整、精美。怎樣對(duì)龕內(nèi)的結(jié)構(gòu)與壁畫進(jìn)行分析與分割，才能合理、準(zhǔn)確地把龕內(nèi)壁畫內(nèi)容以平面的形式完整呈現(xiàn)在圖中的畫面上，我們采用手工展開的測(cè)繪方法，將佛龕壁畫內(nèi)容做出近似為相應(yīng)的可展曲面，近似展開，分以下幾個(gè)步驟進(jìn)行繪制。

（一）定義龕形

第285窟西壁中龕是一個(gè)圓券形佛龕，要將佛龕內(nèi)曲面壁畫的全部?jī)?nèi)容一一解析展開，只有采用手工測(cè)繪的方法將近似為相應(yīng)的可展曲面進(jìn)行展開（圖7）。

（二）定義比例

根據(jù)第285窟西壁中龕的實(shí)際尺寸，我們將繪圖比例設(shè)定為1∶5，在繪制中將這個(gè)比例作為繪圖中的標(biāo)準(zhǔn)尺寸。

（三）繪制龕內(nèi)塑像

1. 定義塑像的角度

定義繪制塑像的最佳角度，首先觀察塑像的整個(gè)動(dòng)態(tài)，頭部面部的視角是否與身體在同一個(gè)投影面上，如果頭部向左或者向右，則根據(jù)塑像視角的不同而定，我們?cè)诙x投影面時(shí)分兩種情況：

a. 塑像頭部面部與身體基本在同一個(gè)投影面上。

如果塑像的面部和身體在同一投影面上，我們將塑像的任何部位都保持在一個(gè)正投影面上繪制，不再測(cè)繪其他局部的圖。

b. 塑像頭部面部與身體不在一個(gè)投影面。

我們必須遵循以身體正面為投影面，頭部的角度不變，依附身體的角度做投影面，來(lái)繪制塑像正視圖。這樣繪制的塑像頭部是有角度的，是三分之二的側(cè)面圖。根據(jù)考古報(bào)告的要求，另外再繪制一幅頭部正面局部圖，來(lái)反映塑像的臉部造型與細(xì)部，以符合考古測(cè)繪的基本要求。

無(wú)論怎樣都必須遵循以塑像身體正面為投影面的原則。

2. 定義佛龕內(nèi)佛座的底線

a. 定義佛龕底邊起點(diǎn)與終點(diǎn)的高度。如何用手工測(cè)繪的方法把佛龕展開，使龕內(nèi)的每幅畫面都定格在圖紙上，也就是給佛龕內(nèi)的塑像定義一個(gè)虛擬的鉛垂面，觀測(cè)的每一個(gè)點(diǎn)都是正投影的，我們采用的方法是先確定一個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)，也就是把佛龕內(nèi)的佛座一側(cè)與佛龕地面相交的這個(gè)點(diǎn)命名為起點(diǎn)，再在佛座的另一端與佛龕地面相交的點(diǎn)確定為第二個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)，作為龕座底邊的終點(diǎn)，也就是整個(gè)佛龕的水平位置在圖紙上的一個(gè)定位；第二步是確定第二個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)，就是再在佛座底邊的另一端找出與地面相交的點(diǎn)，命名為佛座底邊的終點(diǎn)，用水平尺測(cè)量出兩點(diǎn)間的距離與水平差，就可以反映出佛座在整個(gè)佛龕中的水平關(guān)系（圖8）。

b. 定義佛龕底邊起點(diǎn)到終點(diǎn)的長(zhǎng)度。用手工測(cè)量的方法測(cè)量出佛龕底邊的準(zhǔn)確長(zhǎng)度。首先測(cè)量一個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)，以這個(gè)點(diǎn)的高程為準(zhǔn)確高度，用水平尺測(cè)出每個(gè)點(diǎn)位的平差，再用皮尺測(cè)量點(diǎn)與點(diǎn)之間的長(zhǎng)度，然后把每個(gè)點(diǎn)連接起來(lái)。有了佛座的準(zhǔn)確位置，就可以采用這種測(cè)量點(diǎn)位的方法，由佛座的起點(diǎn)與終點(diǎn)向南、北兩側(cè)進(jìn)行采集精準(zhǔn)的點(diǎn)，繪制出佛龕的底邊線（圖9）。

3. 在塑像前架設(shè)方格網(wǎng)

在手工測(cè)繪塑像時(shí)，對(duì)架設(shè)方格網(wǎng)的要求是非常高的，方格網(wǎng)必須保持橫杠平行，豎杠垂直，這樣投影在圖上的每一個(gè)點(diǎn)才會(huì)準(zhǔn)確，繪制出的圖才能達(dá)到考古報(bào)告的要求。

4. 繪制塑像的外輪廓線

首先測(cè)量出幾個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)確定塑像的高度與寬度，然后逐步測(cè)量出塑像的外輪廓的關(guān)鍵點(diǎn)，用線條連接起來(lái)，塑像的基本造型就顯現(xiàn)出來(lái)了，然后再對(duì)塑像進(jìn)一步描繪。測(cè)量的點(diǎn)位越多繪制出來(lái)的圖像對(duì)就越準(zhǔn)確。

5. 繪制塑像的次輪廓線

在塑像外輪廓完成以后，再對(duì)塑像的結(jié)構(gòu)、臉部、服飾的外輪廓以及佛座轉(zhuǎn)折比較明顯的部位進(jìn)行次輪廓的繪制，使外輪廓線與次輪廓線完美地結(jié)合，主次分明，具有層次感和立體感。

6. 繪制塑像的衣紋和塑像細(xì)部

龕內(nèi)主尊倚坐佛像，身著褒衣博帶，貼泥條式的衣紋，在繪制塑像衣紋與塑像細(xì)部時(shí)一定要注意衣紋與塑像結(jié)構(gòu)的穿插、疊壓關(guān)系，衣紋線條一定要準(zhǔn)確、流暢，隨著線條粗、細(xì)的變化，把塑像服飾的質(zhì)感繪制出來(lái)。這樣才能使繪制出來(lái)的塑像既客觀準(zhǔn)確又具有時(shí)代特征，也就達(dá)了真實(shí)與完美的統(tǒng)一，最終符合考古報(bào)告中所需要的考古實(shí)測(cè)圖（圖10）。

（四）定義佛龕外圍的周長(zhǎng)

首先在佛龕頂部周長(zhǎng)的中心，確定一個(gè)中心點(diǎn)位，也就是佛龕分割的關(guān)鍵點(diǎn)，然后轉(zhuǎn)換角度，向南、北分別轉(zhuǎn)90度，用垂球掛皮尺向北、南定義一條垂直線，在鉛垂線的不同高度上通過(guò)測(cè)量產(chǎn)生許多關(guān)鍵點(diǎn)，然后再把點(diǎn)與點(diǎn)之間連接起來(lái)。由于西壁的壁面是凹凸不平的，所以呈現(xiàn)出的佛龕外圍線的線形也是曲線，這條曲線即為佛龕外圍周長(zhǎng)的輪廓線（圖11）。

（五）分割龕內(nèi)壁畫

1. 分割的原則

a. 分割畫面時(shí)一定要在轉(zhuǎn)折明顯的位置進(jìn)行分割。

b. 分割時(shí)盡可能使畫面的藝術(shù)形象保持完整，分割畫面時(shí)盡量避免在臉部進(jìn)行分割，這樣可以保持形象的完整與畫面的美觀。

d. 分割時(shí)盡可能在壁面空白的位置進(jìn)行分割。

根據(jù)第285窟西壁龕內(nèi)壁畫內(nèi)容和結(jié)構(gòu)的特點(diǎn)，我們客觀地將壁畫內(nèi)容分割為五個(gè)畫面來(lái)展開，采用這樣的分割方法既達(dá)到了考古報(bào)告測(cè)繪圖的要求，也達(dá)到了審美與視覺上的統(tǒng)一。

第1部分 塑像的頭光與背光

塑像的頭光與背光的壁畫內(nèi)容均分布在不同方向的兩個(gè)畫面上，西壁與龕頂有明顯的結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)折，面與面連接的結(jié)構(gòu)線基本上是平直線，只需要在頭光與背光結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)折的上半部分直接向上延展，呈現(xiàn)在一個(gè)畫面上就可以了。這樣既使畫面達(dá)到完整，壁畫內(nèi)容又不會(huì)變形，是比較符合考古測(cè)繪的分割原則與方法的。

第2部分 龕內(nèi)南側(cè)壁畫中供養(yǎng)菩薩（10身）

龕內(nèi)南側(cè)壁面有相對(duì)的弧度，在展開時(shí)把供養(yǎng)菩薩與頭光和背光的外圍線作為公共邊，向外緩緩展開。壁畫中供養(yǎng)菩薩與飛天有穿插關(guān)系，所以我們?cè)诜指罟B(yǎng)菩薩、飛天畫面的關(guān)系中，采用了頭光和背光與供養(yǎng)菩薩分割為獨(dú)立的畫面，用兩種線形直線與曲線進(jìn)行分割將其展開。

第3部分 龕內(nèi)北側(cè)壁畫中供養(yǎng)菩薩（10身）

龕內(nèi)北壁與南壁分割方法相同。

第4部分 龕內(nèi)南側(cè)龕頂飛天2身

龕頂南、北兩側(cè)各有兩身向上的飛天，下方的飛天與供養(yǎng)菩薩的頭光有穿插關(guān)系，所以我們將采用兩種方法分割作出其近似展開：

a. 第一種是采用直線分割，繪制起來(lái)比較方便、簡(jiǎn)單。用直線將頂部飛天分割成兩部分，這樣分割的飛天畫面形象不完整。

b. 第二種是采用曲線分割，曲線分割可以使供養(yǎng)菩薩和飛天兩個(gè)獨(dú)立的畫面達(dá)到它的完整性。

第5部分 龕內(nèi)北側(cè)龕頂飛天2身

龕內(nèi)頂部北側(cè)展開方法同上。

2. 分割線的多樣性

a. 直線的分割方法。根據(jù)佛龕內(nèi)的龕形結(jié)構(gòu)進(jìn)行分割，原則是在佛龕轉(zhuǎn)折比較明顯的地方用直線進(jìn)行分割。這樣就能反映佛龕的結(jié)構(gòu)，直觀，簡(jiǎn)潔，明了，但分割的每一塊壁畫內(nèi)容中的形象具有不完整性。

b. 曲線的分割方法。根據(jù)佛龕壁畫內(nèi)容進(jìn)行分割，為了使壁畫中的藝術(shù)形象在畫面中保持完整，我們可以采用曲線的分割方法進(jìn)行分割。這樣分割的畫面藝術(shù)形象雖然完整，可是在不同程度上有一定的變形。

c.直線與曲線并用進(jìn)行分割畫面的分割方法。為了說(shuō)明采用直線與曲線分割龕內(nèi)畫面情況，這里我們以第272窟西壁佛龕穹隆頂?shù)恼归_圖為例，這個(gè)龕形的結(jié)構(gòu)比較圓緩，轉(zhuǎn)折不太明顯，為了使每個(gè)畫面保持它的完整性和獨(dú)立性，在分割時(shí)選用了曲線和折線兩種線型。這樣繪制出來(lái)的展開圖既體現(xiàn)了方法的靈活性，也達(dá)到了畫面的完整與審美的統(tǒng)一（圖12）。

以上采用三種不同龕內(nèi)展開的分割方法，繪制出來(lái)的圖中畫面各有其特點(diǎn)。直線分割畫面變形相對(duì)來(lái)說(shuō)比較大一些，藝術(shù)形象在分割畫面中不完整，優(yōu)點(diǎn)是在繪制完成后校對(duì)公共點(diǎn)直觀、便捷。曲線分割繪制出來(lái)的畫面最大的優(yōu)點(diǎn)是，畫面清晰完整，變形相對(duì)小一些，但是在繪制完成后核對(duì)曲線上的每個(gè)公共點(diǎn)比較復(fù)雜。

總之，無(wú)論采用直線、曲線分割龕內(nèi)壁畫的畫面，都要根據(jù)龕形的特點(diǎn)、龕內(nèi)壁畫內(nèi)容分布情況進(jìn)行分割。

（六）繪制龕內(nèi)壁畫

1. 繪制龕內(nèi)西壁主尊頭和背光

a. 定義基線。根據(jù)中龕龕內(nèi)西壁的結(jié)構(gòu)與畫面的分布狀況，我們分別在主尊的兩側(cè)壁面上定義兩條垂直基線和一條水平基線，這樣定義基線可以在測(cè)量每一個(gè)點(diǎn)位時(shí)便捷、準(zhǔn)確、全面。

b. 繪制壁畫。第285窟西壁中龕內(nèi)主尊佛的頭光和背光基本繪制在一個(gè)投影面上，壁畫內(nèi)容都是火焰紋，線條比較密集、復(fù)雜，測(cè)量時(shí)采集的點(diǎn)比較多。點(diǎn)與點(diǎn)連接時(shí)，連線一定要流暢、準(zhǔn)確、清晰，既使頭光和身光保持畫面的完整性，在做近似曲面展開，繪制的壁畫中的形象變形比較小，又體現(xiàn)了畫面在視覺上的美感。主尊的頭光和背光壁畫面積比較大，部分畫面在主尊的兩側(cè)和上面。根據(jù)畫面我們給它分別定義了一條水平基線、兩條垂直基線，這樣在測(cè)量每個(gè)點(diǎn)時(shí)比較準(zhǔn)確與便捷（圖13）。

2. 繪制龕內(nèi)南、北兩側(cè)供養(yǎng)菩薩

a. 定義基線。龕內(nèi)南、北兩側(cè)供養(yǎng)菩薩壁面呈半圓柱體，畫面由水平方向緩緩展開，這樣在畫面中分別定義兩條基線就可以測(cè)量到每個(gè)區(qū)域的壁畫了。

b. 繪制壁畫。龕內(nèi)南、北兩側(cè)壁畫分別繪制了10身供養(yǎng)菩薩，分三排站立。整個(gè)畫面線條密集，測(cè)量時(shí)采集的點(diǎn)位比較多，采集的點(diǎn)位越多繪制出來(lái)的壁畫內(nèi)容精準(zhǔn)率越就高，連線也比較容易。

3. 繪制龕頂南、北兩側(cè)飛天

a. 定義基線。龕頂南、北兩側(cè)分別是兩身飛天，在定義基線時(shí)水平基線定在畫面的中間，分割壁面時(shí)都要建立獨(dú)立的基線，也就是獨(dú)立的投影面。

b. 繪制壁畫。分布在龕頂兩側(cè)的飛天，下方的飛天繪制在龕內(nèi)側(cè)壁與龕頂交接的位置上，由于曲面是不規(guī)則的，展開這塊曲面壁畫難度相對(duì)比較大；下方的飛天展開有一點(diǎn)變形，在做近似可展曲面的近似展開時(shí)，關(guān)鍵要把握作直線分割的展開繪制中，每一條分割線上的公共點(diǎn)尺寸一定要一致，合拼時(shí)要吻合（圖14）。

每個(gè)畫面中的藝術(shù)形象都有無(wú)數(shù)個(gè)精準(zhǔn)測(cè)量的點(diǎn)位，用流暢的線條把它們一一連接起來(lái)。主尊塑像頭光與身光的每一個(gè)區(qū)域中線條錯(cuò)落有序地朝著一個(gè)方向排列，主尊塑像兩側(cè)的供養(yǎng)菩薩婀娜多姿、千姿百態(tài)，龕頂栩栩如生、渾厚質(zhì)樸的飛天以輕盈優(yōu)美的姿態(tài)飛舞在塑像上方，使整個(gè)畫面中的藝術(shù)形象，仿佛都注入了靈性和生命力，體現(xiàn)了早期壁畫藝術(shù)的風(fēng)采。

（七）審核、校對(duì)

審核和校對(duì)工作在考古測(cè)繪工作中是非常重要的一個(gè)環(huán)節(jié)，下面歸納以下幾點(diǎn)：

a. 分割線與分割線閉合時(shí)尺寸必須吻合。

b. 分割線上的公共點(diǎn)處于吻合狀態(tài)；

c. 核對(duì)佛龕的周長(zhǎng)與佛龕鑲嵌壁面的龕邊長(zhǎng)度尺寸是否吻合；

d. 核對(duì)佛龕結(jié)構(gòu)的每一個(gè)關(guān)鍵點(diǎn)是否相吻合；

e. 核對(duì)每一條公共邊的長(zhǎng)度是否相吻合；

f. 核對(duì)每一條公共邊上公共點(diǎn)是否相吻合。

（八）底圖清繪

清繪工作也就是把初繪圖用考古繪圖的規(guī)范對(duì)初繪圖進(jìn)行編輯定稿，采用不同的線條描繪，使畫面更加富有主次關(guān)系、層次關(guān)系。

a. 結(jié)構(gòu)線：設(shè)置為1.0線寬；

b. 塑像輪廓線：設(shè)置為1.2線寬；

c. 次輪廓線：設(shè)置為0.8線寬；

d. 壁畫線：設(shè)置為0.2線寬；

e. 塑像細(xì)部與衣紋線：設(shè)置為0.3線寬。

（九）定義圖名、圖例

a. 設(shè)置圖名：記錄圖在洞窟序號(hào)中的準(zhǔn)確位置和圖的類型；

b. 圖例：記錄線形、線寬在圖中的運(yùn)用與規(guī)范；

c. 比例尺：使每一個(gè)線段在規(guī)定的比例中完成；

d. 繪圖日期：記錄繪圖開始與結(jié)束的準(zhǔn)確時(shí)間；

e. 繪圖者：記錄每幅圖是誰(shuí)完成的，是獨(dú)立完成的還是合作完成的。

總之，在考古測(cè)繪工作中，手工測(cè)繪龕內(nèi)展開圖的方法是主要方法，由于佛龕龕形的多樣性、復(fù)雜性，繪圖方法也具有靈活性、多樣性，只要掌握了繪制展開圖的基本原理，繪制不同形態(tài)的佛龕就沒有問題了。隨著科學(xué)技術(shù)的發(fā)展，三維激光掃描技術(shù)在石窟考古測(cè)繪領(lǐng)域有著非常重要的意義，發(fā)揮著強(qiáng)大的優(yōu)勢(shì)，無(wú)論怎樣發(fā)展，測(cè)繪方法都是基于傳統(tǒng)的手工測(cè)繪方法和基本原理的，所以手工測(cè)繪在石窟考古測(cè)繪中依然發(fā)揮著巨大的作用。