付旻慧 劉 凱 劉 潔 譚沅良
1.華中科技大學(xué)材料成形及模具技術(shù)國(guó)家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室,武漢,430074
2.武漢理工大學(xué)材料科學(xué)與工程學(xué)院,武漢,430070
激光選區(qū)燒結(jié)(selective laser sintering,SLS)技術(shù)的原理是粉末通過(guò)預(yù)熱系統(tǒng)進(jìn)行預(yù)熱,激光束經(jīng)過(guò)振鏡體系的動(dòng)態(tài)匯聚形成激光光斑,然后依據(jù)計(jì)算機(jī)指令在其工作區(qū)的表面開(kāi)始掃描,使得其掃描面積內(nèi)的材料經(jīng)過(guò)熔化后粘連在一塊,逐層堆積直到成形出整個(gè)零件。該工藝的優(yōu)勢(shì)在于可滿足復(fù)雜零部件的先進(jìn)制造需求,不過(guò)對(duì)于陶瓷的SLS成形目前還在研究過(guò)程中,尤其是激光燒結(jié)陶瓷材料是研究的難點(diǎn)和重點(diǎn),目前的結(jié)構(gòu)材料成形還存在材料結(jié)構(gòu)剛性不強(qiáng)、黏接劑含量較高和成形精度較低等一系列問(wèn)題[1]。
碳化硅(SiC)陶瓷具有優(yōu)良的耐高溫性能、較高的強(qiáng)度和硬度等優(yōu)點(diǎn),在宇宙空間領(lǐng)域、材料、航空航天、能源、化工等行業(yè)備受關(guān)注[2-4]。目前,我國(guó)對(duì)SiC陶瓷SLS成形工藝進(jìn)行了深入研究。劉秀梅等[5]利用熱包覆的途徑形成了不一樣尺寸的SiC材料,同時(shí)通過(guò)SLS工藝合成了SiC陶瓷材料,分析得出預(yù)制體的翹曲量根據(jù)陶瓷顆粒大小的變化而變化,其表面粗糙程度以及尺寸大小都會(huì)因?yàn)轭w粒大小的變化而改變的結(jié)論。FRIEDEL[6]基于體積比為1/2的SiC和有機(jī)聚合物相互交互的材料來(lái)研究SLS成形工藝,發(fā)現(xiàn)其形成的SLS零件體積比在38%~60%之間。不過(guò),仍然還存在著黏接劑的用量較大且燒結(jié)部件結(jié)構(gòu)強(qiáng)度不足的情況。
為了解決以上問(wèn)題,本研究以SiC粉末、酚醛樹(shù)脂和六亞甲基四胺(烏洛托品)為復(fù)合粉末材料,通過(guò)SLS成形SiC陶瓷試樣,研究SLS工藝參數(shù)對(duì)該復(fù)合粉末的影響規(guī)律,并進(jìn)行優(yōu)化設(shè)計(jì)。本文研究重點(diǎn)為提出反應(yīng)燒結(jié)后處理工藝,提高SiC陶瓷SLS坯體的密度和強(qiáng)度,得到高以性能的SiC陶瓷異形件。
SiC陶瓷粉末的SLS及反應(yīng)燒結(jié)復(fù)合工藝流程如圖1所示,工藝原理如圖2所示。這項(xiàng)工藝的主要難點(diǎn)在于利用SLS快速成形SiC粉體,結(jié)合反應(yīng)燒結(jié)完成組織致密化。
圖1 碳化硅粉末SLS及反應(yīng)燒結(jié)復(fù)合工藝路線示意圖Fig.1 The flow chart of SLSand reaction bonded ceramic powder manufacturing process
圖2 SLS及反應(yīng)燒結(jié)制造陶瓷件工藝原理圖Fig.2 The schematic diagram of SLSand reaction bonded ceramic parts manufacturing process
實(shí)驗(yàn)過(guò)程中采用的SiC材料主要通過(guò)寧波伏爾肯機(jī)械密封件制造有限公司采購(gòu),其平均粒徑為148μm,SiC粉末色澤深灰,碳化硅粉末的SEM(scanning electron microscope)形貌如圖3所示。通過(guò)機(jī)械混合法將碳化硅粉末、黏接劑熱塑性酚醛樹(shù)脂(49.2μm,工業(yè)級(jí))和固化劑烏洛托品在球磨機(jī)上以135 r/min的轉(zhuǎn)速球磨12 h,獲得所需的酚醛樹(shù)脂 烏洛托品-SiC復(fù)合粉體。
圖3 碳化硅粉末SEM形貌Fig.3 SEM micrograph of silicon carbide powder
SiC素坯試樣的SLS成形在華中科技大學(xué)自行設(shè)計(jì)制造的HK500型快速成形機(jī)上完成。為了進(jìn)一步提高試樣的密度和強(qiáng)度,采取正交試驗(yàn)的方法設(shè)計(jì)了3因素3水平試驗(yàn),分析了SLS的工藝參數(shù)與SiC陶瓷材料的密度以及強(qiáng)度的關(guān)系,實(shí)驗(yàn)的樣品大小為31 mm×6.9 mm×6.9 mm,然后通過(guò)3×3的正交表構(gòu)建了9組數(shù)據(jù),單個(gè)數(shù)據(jù)有五個(gè)樣品。
如圖4所示,酚醛樹(shù)脂的熱晶體轉(zhuǎn)換點(diǎn)在105℃。SLS工藝的預(yù)熱溫度通常來(lái)說(shuō)要比其利用的材料的晶體轉(zhuǎn)變溫度低20℃左右,在這個(gè)溫度環(huán)境下,黏結(jié)劑因?yàn)榧訜岫哂幸欢ǖ牧鲃?dòng)性,能夠大大增強(qiáng)其黏結(jié)效果[7],所以,酚醛樹(shù)脂-SiC粉末需要的預(yù)熱溫度設(shè)為85℃。
圖4 酚醛樹(shù)脂的DSC(differential scanning calorimeter)分析Fig.4 DSC curve of Phenolic resin
由于激光選區(qū)燒結(jié)僅僅是利用高溫熔化酚醛樹(shù)脂黏結(jié)劑,繼而凝固并粘結(jié)SiC粉末的過(guò)程,因此燒結(jié)成形后,素坯中存在著一定量的孔洞,強(qiáng)度不高,表面粉末極易脫落。在這種情況下,需要在中溫碳化前對(duì)試樣固化處理。將SLS獲得的素坯零件置于真空干燥箱中,以2℃/min的速率升溫至170℃并保溫20 min,待其冷卻至室溫后取出。
根據(jù)德國(guó)耐馳儀器有限公司的一份研究報(bào)告,已固化的酚醛樹(shù)脂在300~650℃大量分解,失重30.74%,期間由于聚合物的裂解而釋放出酚醛、2,4二甲苯酚、甲烷等氣體物質(zhì),在650~850℃左右失重量達(dá)10.96%,此時(shí)因?yàn)榫酆衔镦湐嗔讯a(chǎn)生二氧化碳?xì)怏w。通過(guò)利用同步熱分析儀對(duì)酚醛樹(shù)脂的黏結(jié)劑粉末開(kāi)展熱重(thermal gravity,TG)研究分析能夠發(fā)現(xiàn)黏結(jié)劑粉末因?yàn)榧訜岫纸獾臓顩r。稱取物品10 mg,設(shè)置升溫速度為10℃/min,最終使得其溫度達(dá)到1 000℃,在這個(gè)過(guò)程中黏結(jié)劑物質(zhì)因?yàn)橛袣鍤獾谋Wo(hù)作用而開(kāi)始分解。圖5為黏結(jié)劑酚醛樹(shù)脂2123的熱重曲線。
圖5 酚醛樹(shù)脂的熱重分析Fig.5 The thermal gravity curve of the main binder Phenolic resin
由圖5可知,在400℃之前酚醛樹(shù)脂的分解速度較慢,而在溫度為400~600℃時(shí)其分解迅速,其中在450℃時(shí)的分解速率達(dá)到最大,脫脂后,酚醛樹(shù)脂的分解速率更慢,至900℃酚醛樹(shù)脂已基本沒(méi)有剩余。由圖5的TG曲線可知,所選黏結(jié)劑材料酚醛樹(shù)脂2123在900℃以后殘留物很少,適合作為SLS黏結(jié)劑使用。
通過(guò)黏結(jié)劑的TG圖像能夠得出更加科學(xué)的中溫碳化途徑,能夠讓碳化階段的高分子分解出現(xiàn)的氣體冒出更加迅速,樣品的脫脂階段碳化就通過(guò)氬氣的保護(hù)在其中溫管式燒結(jié)爐中開(kāi)展:第一步就是讓其從常溫升高到450℃,此過(guò)程溫升速率在2℃/min,溫度保留時(shí)間為1 h;第二步就是溫度從450℃變化到900℃,升溫速率為2℃/min,溫度保留時(shí)間為2 h;如果中溫碳化條件構(gòu)成,就可以慢慢地開(kāi)始降溫,降溫速率為4℃/min。樣品中溫碳化過(guò)程中各個(gè)條件的溫度變化如圖6所示。
圖6 中溫碳化工藝曲線圖Fig.6 The gragh of medium temperature carbonization process
中溫碳化后,隨著酚醛樹(shù)脂熱解,試樣內(nèi)部留下許多孔隙,為了防止試樣發(fā)生潰散,在碳化完成后對(duì)脫脂后的試樣進(jìn)行高溫滲硅。由于試樣表面具有較多孔洞,故需在滲硅前將經(jīng)過(guò)碳化后的試樣表面涂敷一層氮化硼溶液,以防止硅聚集在試樣表面造成結(jié)硅現(xiàn)象。然后將試樣放入滲硅爐中進(jìn)行高溫滲硅處理,在高溫滲硅工藝中,需要對(duì)工藝過(guò)程進(jìn)行嚴(yán)格控制,故制定了高溫滲硅工藝曲線(圖7)。在真空度為0.01 MPa條件下,以5℃/min的速率從室溫升至500℃并保溫1 h,以5℃/min的速率從500℃升至 800℃并保溫70 min,再以 5℃/min的速率從800℃升至1 250℃保溫80 min,最后以 5℃/min的速率從1 250℃升至1 500℃保溫8 h,然后隨爐冷卻至室溫。在高溫下排出熔融硅液后,試樣在爐內(nèi)緩慢冷卻至室溫。由于此過(guò)程試樣不可能完全排除硅液,會(huì)有一部分硅殘留在試樣表面,因此需要對(duì)試樣進(jìn)行除硅處理,即將試樣置于400℃的強(qiáng)堿(氫氧化鈉)溶液中反應(yīng)去除表面多余的硅。
圖7 高溫滲硅工藝曲線圖Fig.7 The gragh of high temperature siliconizing process
測(cè)量反應(yīng)燒結(jié)碳化硅的密度一般采用阿基米德排水法,測(cè)量素坯密度采用常用的測(cè)密度方法:通過(guò)電子游標(biāo)卡尺測(cè)量尺寸,機(jī)械天平測(cè)量空氣中的試樣質(zhì)量獲得密度。彎曲強(qiáng)度是利用電子萬(wàn)能材料試驗(yàn)機(jī)(Zwick)測(cè)量一定寬度跨距下,試樣中心受力時(shí)的彎曲強(qiáng)度曲線,并在曲線的峰值取得三點(diǎn)抗彎強(qiáng)度值。微觀圖像利用場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡(JSM-7600F),觀察零件斷口的形貌,并對(duì)部分區(qū)域做EDS能譜測(cè)試。熱重分析和差熱分析在熱重/差熱同步分析儀(STA449F3)上完成測(cè)試。
如圖8所示,碳化硅粉末經(jīng)過(guò)SLS工藝后成形密度較小。
圖8 SLS試樣斷口形貌Fig.8 SLSsample fracture morphology
SLS成形時(shí)若單層層厚過(guò)小則成形效率低且成形時(shí)層間移動(dòng)明顯,若單層層厚過(guò)大則成形時(shí)層間會(huì)黏結(jié)不牢甚至未黏結(jié),因此,根據(jù)SiC粉體的平均粒徑,并通過(guò)實(shí)驗(yàn),將SLS的單層層厚設(shè)定在0.15 mm較為合適。
SLS成形時(shí),激光能量密度的表達(dá)式如下[8]:
式中,q為能量密度,J/mm2;P為激光能量,W;H為掃描間距,mm;v為掃描速率,mm/s。
激光效率、掃描速率以及掃描間距對(duì)激光能量密度有關(guān)鍵的影響,同時(shí)激光能量密度也關(guān)系著SLS實(shí)驗(yàn)結(jié)果[9],所以為使得這幾個(gè)因素更加合理化,同時(shí)加強(qiáng)實(shí)驗(yàn)材料的密度和強(qiáng)度,研究進(jìn)行了3因素3水平的正交試驗(yàn),結(jié)果如表1所示。
表1 SLS成形碳化硅試樣正交試驗(yàn)結(jié)果Tab.1 Orthogonal experimental results of the SLSof composite powder
通過(guò)表1能夠得出:激光能量密度為0.04 J/mm2時(shí)SLS工藝形成的SiC陶瓷材料的密度最大,達(dá)到31.9%,較大的材料密度能夠大大促進(jìn)之后步驟中相對(duì)密度的提升,最終得到高密度SiC材料。
依照極差法研究得出如表2所示的結(jié)果。表2中的水平I~Ⅲ的數(shù)值體現(xiàn)出了SLS形成材料的相對(duì)密度的均值,這個(gè)數(shù)值變大,就證明了相對(duì)密度在這種條件下越大,而且均值的極差也體現(xiàn)出了這種狀況對(duì)密度變化的影響大小。根據(jù)表2得到的極差結(jié)果能夠看出:激光功率為8.0 W、掃描速率為2 000 mm/s、掃描間距為0.1 mm時(shí)的相對(duì)密度是最大的,激光功率以及掃描間距對(duì)密度有較大的關(guān)系,不過(guò)掃描速率在密度變化上的影響不是很突出。綜上所述,3個(gè)要素中對(duì)相對(duì)密度的作用大小分別為掃描間距、激光功率、掃描速率。深入研究其結(jié)論就能發(fā)現(xiàn),掃描間距改變0.05 mm對(duì)SLS成形SiC材料的相對(duì)密度變化要大于激光功率改變1 W的變化,且兩種因素的影響都要大于掃描速率改變200 mm/s的影響。
表2 各水平下的密度平均值及極差Tab.2 Average density and range of alumina parts at each level
通過(guò)以上結(jié)論得出,材料的強(qiáng)度因?yàn)榧す夤β实母淖兌霈F(xiàn)變化,不過(guò)它有一個(gè)最大值,如果大于這個(gè)最大值,樹(shù)脂在材料中的比例就會(huì)因?yàn)闊Y(jié)而變小,進(jìn)而導(dǎo)致其強(qiáng)度降低。掃描速率與強(qiáng)度的關(guān)系較大,因?yàn)閽呙杷俾首兇螅す庹丈涞哪芰棵芏茸冃?,而SLS燒結(jié)時(shí)是逐點(diǎn)掃描成形的,其過(guò)程較長(zhǎng)且樹(shù)脂揮發(fā)嚴(yán)重,掃描速率加大時(shí)其燒結(jié)時(shí)間變短,樹(shù)脂的揮發(fā)較少,能夠大大增加材料的密度。實(shí)驗(yàn)證明:激光功率為8.0 W、掃描速率為2 000 mm/s、掃描間距為 100μm、單層層厚為150μm時(shí),SLS成形效果最好。激光功率小能夠節(jié)省能量,掃描速度快加強(qiáng)了SLS作用效果,掃描間距小可以促進(jìn)SLS成形材料的強(qiáng)度增大。
為了分析激光能量密度對(duì)SLS工藝成形SiC材料強(qiáng)度的影響效果,分析了9組SLS成形SiC材料的強(qiáng)度,具體的結(jié)果如圖9所示。
圖9 不同工藝下SLS碳化硅試樣的彎曲強(qiáng)度正交試驗(yàn)結(jié)果Fig.9 Bending strength of silicon carbide parts in different levels after SLS
未經(jīng)過(guò)固化處理的試樣,通過(guò)中溫碳化后掉粉嚴(yán)重,經(jīng)過(guò)固化處理后的試樣基本沒(méi)有出現(xiàn)掉粉情況。以上述的加熱保溫措施對(duì)素坯碳化后,無(wú)論固化與否,形狀都能保持完好,未出現(xiàn)開(kāi)裂現(xiàn)象。這說(shuō)明按照上述中溫碳化曲線可以有效避免開(kāi)裂等缺陷的產(chǎn)生。
2.3.1 高溫滲硅對(duì)SiC陶瓷的性能分析
高溫滲硅之后,滲硅樣品密度相對(duì)于素坯密度有顯著提高:素坯試樣的平均密度為0.93 g/cm3,而滲硅試樣的平均密度達(dá)到2.62 g/cm3,如表3所示。
表3 高溫滲硅樣品密度Tab.3 The sample density of high temperature siliconizing
在高溫滲碳前,依據(jù)文獻(xiàn)[10-11]的公式,結(jié)合相關(guān)參數(shù)對(duì)高溫滲硅后密度進(jìn)行預(yù)測(cè),計(jì)算素坯碳密度的公式如下:
式中,ρc為試樣的碳密度;FSiC為碳化硅粉末在混合粉末中所占的質(zhì)量分?jǐn)?shù);MC和MSiC分別為碳和碳化硅的分子量;Fn為黏結(jié)劑的質(zhì)量分?jǐn)?shù);xC為黏結(jié)劑的殘?zhí)悸省?/p>
取素坯密度中比較穩(wěn)定的幾組數(shù)據(jù),計(jì)算其平均密度值為0.909 g/cm3,記為ρs,又由于碳化硅粉末和黏結(jié)劑分別占比70%和30%,碳化硅和碳的分子量分別為40和12,分析酚醛樹(shù)脂的TG曲線的點(diǎn)數(shù)據(jù)可得,經(jīng)過(guò)中溫碳化后其殘?zhí)悸始s為54.49%。
由以上數(shù)據(jù)可得ρC=0.339 g/cm3,又根據(jù)其燒結(jié)體理論密度公式
可以估測(cè)燒結(jié)體的密度。其中,ρSiC為碳化硅的密度,取3.20 g/cm3,而ρSi為硅的密度,取2.32 g/cm3。
聯(lián)立式(2),可將式(3)簡(jiǎn)化為
經(jīng)計(jì)算最后取得ρsh的值為2.63 g/cm3,而9組試樣的平均密度為2.64 g/cm3,和理論密度值十分接近。根據(jù)滲硅后平均密度值可計(jì)算出碳化硅的平均致密度為82.5%。
1-a、6-a、6-b等試樣相對(duì)密度偏小,其斷口通過(guò)肉眼可觀察到有一定量的具有光澤的硅晶體分布,這可能是熔融硅沿著試樣的孔隙填充了缺陷部分,由于硅的密度為2.33 g/cm3,單晶硅的存在使得碳化硅的致密度偏小。此外,在滲硅過(guò)程后仍殘留了一定數(shù)量的孔隙,這些孔洞的存在也是造成相對(duì)密度不高的原因。
不僅僅是滲硅樣品的密度顯著提高,其抗彎強(qiáng)度相對(duì)于素坯樣品也顯著提高,如表4所示。根據(jù)表3和表4數(shù)據(jù)可得圖10(圖中密度值為平均值)。
表4 高溫滲硅樣品三點(diǎn)抗彎強(qiáng)度Tab.4 The sample bending strength of high temperature siliconizing
圖10 不同滲硅試樣的抗彎強(qiáng)度和密度圖Fig.10 Bending strength and density of line chart in different siliconizing sample
當(dāng)試樣中可能存在不同組元成分(如游離硅)時(shí),有如下計(jì)算公式[12]:
式中,σr為材料在室溫下的抗彎強(qiáng)度;σSiC、σSi分別為碳化硅和硅在室溫下的彎曲強(qiáng)度;φSiC、φSi分別為碳化硅和硅的體積分?jǐn)?shù)。
這個(gè)模型可以計(jì)算碳化硅試樣中含有游離硅時(shí)試樣強(qiáng)度。
在本實(shí)驗(yàn)中,由EDS(energy dispersive spectrdmeter)能譜儀分析出滲硅樣品除Si元素和C元素以外,仍存在Na、B、N、O、H等10種元素。這些元素來(lái)自于滲硅或除硅過(guò)程中的添加物,如B、N的作用是防止在試樣表面結(jié)硅增加除硅難度。但這些元素都無(wú)法形成和碳化硅具有相當(dāng)強(qiáng)度的化合物,因此,碳化硅的強(qiáng)度仍有提高的空間。
2.3.2 高溫滲硅對(duì)SiC陶瓷的物相分析
由圖11可見(jiàn),高溫滲硅處理后的SiC陶瓷材料主要由α-SiC、β-SiC及 Si三相組成。其中,α-SiC為主晶相,它能保持原材料SiC粉體的結(jié)構(gòu)類型。β-SiC也是SiC陶瓷樣品的一種重要晶相,它屬于低溫穩(wěn)定相,所含缺陷較α-SiC多。LIM等[13]和CHAKRABARTI等[14]等曾解釋了β-SiC形成過(guò)程:當(dāng)Si熔化滲透于SiC坯體中后,C會(huì)溶解于液相Si中而逐漸飽和,最后以β-SiC的形式析出:β-SiC會(huì)依附于大的α-SiC顆粒表面或缺陷處,優(yōu)先析出長(zhǎng)大,遵循溶解-沉淀機(jī)制。β-SiC主要起到兩個(gè)作用:一方面提高了制品中SiC的含量,使得坯體密度提高;另一方面,β-SiC將相鄰α-SiC的顆粒連接起來(lái),使得燒結(jié)材料的強(qiáng)度增強(qiáng)。綜合而言,所形成的β-SiC改善了制品結(jié)構(gòu),有利于提高制品的綜合力學(xué)性能。此外,一定量的自由Si存在于反應(yīng)燒結(jié)SiC陶瓷樣品中。通常而言,自由Si對(duì)制品的性能不利,但是,自由Si可以填充制品的空隙,有助于消除制品中的氣孔,使得制品的致密度得到一定程度的改善。
圖11 高溫滲硅下SiC陶瓷樣品的XRD圖譜Fig.11 The XRD spectrum of the SiC ceramic sample under the high temperature siliconizing
2.3.3 高溫滲硅下SiC陶瓷的斷口形貌分析
由于6-a號(hào)樣品和7-a號(hào)樣品的相對(duì)密度差異較大,故選擇6-a號(hào)樣品和7-a號(hào)樣品在場(chǎng)發(fā)射掃描電子顯微鏡不同倍數(shù)下進(jìn)行斷口形貌分析。
圖12 6-a滲硅樣品斷口形貌Fig.12 The fracture morphology of siliconizing sample
分別在不同倍數(shù)下觀察6-a號(hào)樣品,結(jié)果如圖12所示。由圖12可見(jiàn),試樣內(nèi)部依然存在數(shù)量眾多的孔洞,這說(shuō)明該試樣滲硅并不徹底,即沒(méi)有產(chǎn)生足夠的次生碳化硅填補(bǔ)孔洞。這種情況可能是原生SiC表面存在SiO2薄層[11],在反應(yīng)燒結(jié)時(shí)發(fā)生和碳的反應(yīng),生成CO或CO2氣體,在試樣內(nèi)部聚集,氣壓逐漸升高使得熔融硅液無(wú)法進(jìn)入試樣內(nèi)部,造成滲硅阻塞,故6-a號(hào)樣品的相對(duì)密度僅為68.65%。
分別在不同倍數(shù)下觀察7-a號(hào)樣品,結(jié)果如圖13所示,可以看出,反應(yīng)過(guò)程中燒結(jié)過(guò)后的SiC樣品缺口很完整,在高分辨率下觀察到組織排列較為均勻,硅點(diǎn)在整個(gè)材料中分布是比較均勻的,大小也比較一致。這是由于碳和硅的反應(yīng)進(jìn)行得比較徹底,生成的SiC填充了酚醛樹(shù)脂碳化后所留下來(lái)的孔洞,使得次生SiC和原生SiC結(jié)合得更為緊密,所以實(shí)驗(yàn)結(jié)果的密度大大提高,其各種特性大大加強(qiáng)。SiC樣品在高溫下添加Si元素后,密度提高了近70%。
圖14所示是利用SLS/反應(yīng)燒結(jié)工藝制造的復(fù)雜SiC陶瓷零部件。
圖13 7-a滲硅樣品斷口形貌Fig.13 The fracture morphology of siliconizing sample
圖14 SLS/反應(yīng)燒結(jié)后碳化硅齒輪圖Fig.14 Silicon carbide gear manufactured by SLS/reaction sintering process
本研究采用機(jī)械混合的方法制備了SLS成形用SiC陶瓷復(fù)合粉體,并通過(guò)正交試驗(yàn)方法,對(duì)酚醛樹(shù)脂-烏洛托品-SiC粉末的SLS工藝進(jìn)行了優(yōu)化,激光照射的密度是0.04 J/mm2時(shí),SLS成形SiC坯體所形成的相對(duì)密度為31.9%;激光功率、掃描速率、掃描間距、單層厚度分別為8 W、2 000 mm/s、0.1 mm、0.15 mm時(shí),SLS坯體的相對(duì)密度較高。根據(jù)黏接劑的TG曲線制定了相應(yīng)的中溫碳化曲線,可以有效地保證碳化過(guò)程穩(wěn)定進(jìn)行,并保持試樣的形狀完整,避免試樣的開(kāi)裂。在1 500℃的高溫滲硅之后,對(duì)滲硅后試樣的SiC陶瓷進(jìn)行了物相分析、斷口形貌分析以及性能分析,試樣最終的相對(duì)密度達(dá)到86.66%,彎曲強(qiáng)度達(dá)到81MPa,并利用SLS及反應(yīng)燒結(jié)復(fù)合工藝成功制造了SiC陶瓷葉輪。