姚倫芳,羅雪芳,劉定富*
(1.貴州省環(huán)境工程評估中心,貴州貴陽 550002;2.貴州大學(xué)化學(xué)與化工學(xué)院,貴州貴陽
550025)
電鍍鉻因其硬度高、耐磨性好和外觀美觀等優(yōu)點(diǎn)被廣泛應(yīng)用于航天航空、機(jī)械儀器制造等諸多領(lǐng)域;但其鍍液因含有六價鉻,毒性大,不符合國家綠色生產(chǎn)要求,將會面臨被淘汰的風(fēng)險,因此促使了研究人員投入大量精力去尋找鍍鉻的替代品[1-4]。在這方面,電沉積Ni-W-B合金的鍍液不僅對環(huán)境友好,其合金的耐腐蝕性更優(yōu)于鍍鉻鍍層,被認(rèn)為是一種很好的代鉻鍍層[5-7]。在不同鍍液組成條件下獲得的電沉積Ni-W-B合金鍍層硬度大多在500~600 HV之間,相較于鍍鉻層硬度較低,然而經(jīng)熱處理后,硬度可高達(dá)900 HV以上,與鍍鉻層相當(dāng)[8-11]。
關(guān)于鎳的復(fù)合鍍,高玉新[12]、楊惠良[13]、曹卜元[14]、孔琳[15]、孫錫保[16]等做了有益的研究工作。他們采用激光重熔、電鍍、化學(xué)鍍、離子滲透等工藝,在Ni基涂層、基體鋼、鎢合金、H13鋼表面上進(jìn)行重熔、引入W、WC等表面處理,達(dá)到了減少或消除涂層中的裂紋、孔隙和夾雜等缺陷、晶粒細(xì)化、出現(xiàn)硬質(zhì)相的作用,提高了涂層的顯微硬度。
電沉積Ni-W-B合金鍍層熱處理的研究雖有報道,但針對的施鍍基材不同,采用的鍍覆方法各異,鍍液組成及施鍍工藝參數(shù)也各不相同,本文在一種新型鍍液組成條件下在黃銅基材上電沉積Ni-W-B合金鍍層,并探究熱處理溫度對電沉積的Ni-W-B合金鍍層表觀形貌、組織機(jī)構(gòu)、附著力及硬度等性能的影響,為電沉積Ni-W-B合金鍍層研究提供參考。
本實驗選用的陰極材料為65 mm×50 mm×0.2 mm的黃銅片,陽極為可溶性鎳板。
實驗流程:打磨(用600、800、1000#砂紙進(jìn)行打磨)→除油(檸檬酸銨10~20 g·L-1+硅酸鈉10~20 g·L-1+碳酸鈉10~20 g·L-1+OP-10乳化劑2~3 g·L-1,70℃,10 min)→浸蝕(條件:鹽酸300 g·L-1,室溫,5 s)→活化(條件:鹽酸200 g·L-1,室溫,2 min)→施鍍
鍍液組成:六水合硫酸鎳30 g·L-1,二水合鎢酸鈉65 g·L-1,二 甲 基 胺 硼 烷10 g·L-1,檸 檬 酸 三 銨100 g·L-1,十 二 烷 基 苯 磺 酸 鈉0.3 g·L-1,糖 精 鈉0.5 g·L-1,烯丙基磺酸鈉0.24 g·L-1,1,4-丁炔二醇0.5 g·L-1。施 鍍 工 藝 參 數(shù):pH7.0,60℃,時 間60 min,電流密度為8 A·dm-2,裝載比為1∶1。
使用日本日立Hitachi SU-1500型掃描電鏡(SEM)對所制鍍層試樣進(jìn)行表面形貌檢測。使用德國Bruker公司生產(chǎn)的D8ADVANCE型X射線多晶衍射(XRD)對所制鍍層試樣進(jìn)行結(jié)構(gòu)測試。入射射線為Kα,Cu靶輻射,波長(λ)為0.1546 nm,管電壓為40 kV,管電流為40 mA,掃描速率為0.02°/s,測試角度(θ)為20°到80°。使用MK-QFH型百格刀對鍍層的附著力進(jìn)行測試。對照GB/T 9286—1998標(biāo)準(zhǔn),評定鍍層與基體間附著力的大小。使用JMHVS1000AT型精密數(shù)顯顯微硬度儀對鍍層進(jìn)行顯微硬度測試,載荷為500 g,并保持10 s,每個鍍片試樣四角及中部位置各測一次,求平均值。
按照實驗方法進(jìn)行電鍍,到時間后將鍍片取出搽干,置于電熱鼓風(fēng)干燥箱中進(jìn)行熱處理,經(jīng)不同溫度熱處理后鍍層試樣的SEM圖如圖1所示。由圖可見,經(jīng)300℃熱處理后,鍍層的結(jié)構(gòu)逐漸細(xì)化致密。從300℃到400℃時,鍍層表面出現(xiàn)了許多細(xì)小孔洞,這可能是在電沉積過程中,電極陰極析氫過程中殘余氫氣因為熱處理溫度的升高,加快了氫氣的擴(kuò)散速率,同時鍍層原子逐漸擴(kuò)散重排,氫氣逸出后留下的孔洞。繼續(xù)升高溫度至500℃,鍍層原子又開始繼續(xù)擴(kuò)散重排、偏聚,鍍層中因氫氣存在的細(xì)小孔洞逐漸被填補(bǔ),鍍層又變得致密起來。但繼續(xù)升高熱處理的溫度,如圖1(e),600℃時,鍍層內(nèi)原子團(tuán)簇在一起出現(xiàn)一顆顆較大的晶粒,鍍層又變得粗糙起來,并且鍍層表面開始脫落現(xiàn)象。這是由于溫度的繼續(xù)升高,鍍層的壓應(yīng)力降低,從而導(dǎo)致鍍層的結(jié)合力變差,鍍層脫落。
圖1 不同熱處理溫度后鍍層表面的微觀形貌Fig.1 Surface micromorphology of coatings before and after heat treatment at different temperatures
實驗方法同前,經(jīng)不同溫度熱處理后鍍層試樣的XRD圖譜如圖2所示??梢悦黠@地看出,未經(jīng)熱處理前Ni-W-B合金鍍層是非晶態(tài)結(jié)構(gòu),與文獻(xiàn)報道結(jié)果一致。并且隨著熱處理溫度的升高,Ni-W-B合金鍍層從處于亞穩(wěn)態(tài)的非晶態(tài)逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)榉€(wěn)態(tài)的晶態(tài)結(jié)構(gòu)。在熱處理溫度從300℃上升至500℃期間,相比較于未經(jīng)熱處理的鍍層,晶化程度較明顯;隨溫度的升高,晶化程度越大。此時的衍射峰還是相對較弱,不夠尖銳,可以說此時鍍層晶化并不完全,只有部分組織晶化析出,此時鍍層中析出部分Ni4W、Ni2B等新相[17-18]。值得注意的是,當(dāng)熱處理溫度達(dá)到600℃時,與500℃對比,衍射峰突然增強(qiáng)并變得尖銳起來,此時鍍層已完全晶化。但此時鍍層卻變得粗糙起來,并且鍍層表面發(fā)生脫落現(xiàn)象。
圖2 不同溫度下熱處理Ni-W-B合金鍍層的XRD圖譜Fig.2 XRD patterns of Ni-W-B alloy coatings treated at different temperatures
經(jīng)不同溫度熱處理后鍍層的附著力測試結(jié)果如表1所示。在熱處理的溫度不超600℃之前,鍍層的平均剝離度均低于5%,根據(jù)GB/T 9286—1998標(biāo)準(zhǔn),此時鍍層的ISO等級為1,ASTM等級為4B,表明鍍層與基體之間的附著力良好。但是經(jīng)600℃的熱處理后,鍍層的平均剝離度達(dá)到了18.8%,此時鍍層的ISO等級為3,ASTM等級為2B,鍍層與基體之間的附著力明顯變差??偟膩碚f,在前處理相同的情況下,鍍層內(nèi)應(yīng)力和鍍層結(jié)構(gòu)變化嚴(yán)重影響著鍍層剝離度的大?。?9-20]。本身Ni-W-B合金鍍層和黃銅基體的熱膨脹系數(shù)就不同,在較高的溫度條件下進(jìn)行長時間的熱處理,就會導(dǎo)致鍍層與基體間的間隙被擴(kuò)大,鍍層的附著力反而下降。不僅如此,在熱處理溫度為600℃,鍍層的組織結(jié)構(gòu)轉(zhuǎn)變最大,由500℃時的不完全晶化結(jié)構(gòu)逐漸完全晶化,此時鍍層的體積收縮從而產(chǎn)生內(nèi)應(yīng)力,導(dǎo)致結(jié)合力降低。
表1 不同溫度下熱處理Ni-W-B合金鍍層的剝離度(%)Tab.1 Peel strength of Ni-W-B alloy coatings heat-treated at different temperatures(%)
經(jīng)不同溫度熱處理后鍍層的硬度如表2所示。結(jié)果表明,Ni-W-B合金鍍層的硬度隨熱處理溫度的升高,先上升后下降。經(jīng)300℃溫度的熱處理,鍍層的硬度得到了大幅度的上升,當(dāng)熱處理溫度從300℃升高至400℃時,鍍層硬度增幅程度不是很大。結(jié)合SEM圖和XRD譜圖可知,未經(jīng)熱處理的Ni-W-B合金鍍層呈非晶態(tài)結(jié)構(gòu),熱處理使鍍層組織結(jié)構(gòu)發(fā)生改變,鍍層硬度變化較大。在400℃時,由于鍍層中氫氣的大量析出后留下的孔洞還未被填補(bǔ),一定程度上抑制了鍍層硬度的增加,導(dǎo)致了鍍層300℃到400℃的熱處理時鍍層硬度的增幅不大。從表中可以得到,在鍍層的熱處理溫度為500℃時,鍍層的硬度達(dá)到最高,960.5 HV,此時硬度與鍍鉻層相當(dāng)(鍍鉻厚度20 μm以上,硬度在800~900 HV)。當(dāng)熱處理溫度繼續(xù)升高到600℃時,鍍層硬度反而急劇下降。導(dǎo)致鍍層硬度下降的原因可以從以下方面考慮:600℃時鍍層的附著力顯著降低,鍍層起皮脫落,導(dǎo)致鍍層硬度降低。
表2 不同溫度下熱處理Ni-W-B合金鍍層的硬度(HV)Tab.2 Hardness of Ni-W-B alloy coatings heat-treated at different temperatures(HV)
熱處理溫度變化將顯著影響鍍層的性能,對顯微硬度的影響尤其顯著。
(1)熱處理溫度增加,Ni-W-B合金鍍層從非晶態(tài)結(jié)構(gòu)逐漸轉(zhuǎn)變?yōu)榫B(tài)結(jié)構(gòu);
(2)當(dāng)熱處理溫度為500℃時,鍍層的表面最為致密,鍍層與基體間結(jié)合良好(ISO等級為1,ASTM等級為4B)。
(3)鍍層的硬度隨熱處理溫度的升高,先上升后下降。熱處理溫度為500℃時,鍍層的硬度達(dá)到最大值960.5 HV,與鍍鉻層相當(dāng),與未經(jīng)熱處理的鍍層(硬度值499.1 HV)相比,硬度增加了92.4%。