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多種類型缺陷的漏磁場(chǎng)特性研究*

2018-01-16 01:25韓文花張玉祥汪素青蘇曉燕
火力與指揮控制 2017年12期
關(guān)鍵詞:漏磁波峰軸向

韓文花,張玉祥,原 野,汪素青,蘇曉燕

(上海電力學(xué)院自動(dòng)化工程學(xué)院,上海 200090)

0 引言

隨著工業(yè)的發(fā)展和鐵磁性材料的普遍使用,漏磁檢測(cè)在諸多領(lǐng)域有著重要應(yīng)用,如油氣管道[1]、儲(chǔ)罐[2]、軌道[3]、武器裝備[4]等。由于服役時(shí)間增長(zhǎng),這些設(shè)施又多處于較惡劣的環(huán)境下,為防止發(fā)生諸如油氣泄露,污染環(huán)境等惡劣影響,需要對(duì)其進(jìn)行定期檢測(cè)維護(hù)[5]。漏磁檢測(cè)與其他檢測(cè)技術(shù)相比,具有速度快、效率高、成本低、易于實(shí)現(xiàn)檢測(cè)自動(dòng)化、受外界環(huán)境影響小等優(yōu)點(diǎn),并廣泛應(yīng)用于鐵磁性材料設(shè)備的腐蝕、裂紋和機(jī)械損傷等缺陷的檢測(cè)與評(píng)估[6],尤其在石油和天然氣管道的檢測(cè)中,漏磁檢測(cè)已經(jīng)成為使用最廣泛的非破壞性在線檢測(cè)技術(shù)[7]。漏磁檢測(cè)技術(shù)近年來(lái)發(fā)展迅速,從早期的僅能檢測(cè)較大面積腐蝕,到現(xiàn)在可以檢測(cè)和識(shí)別出各類微小的缺陷,并能重構(gòu)出缺陷輪廓[8-9],其原因有檢測(cè)裝置性能的提高,數(shù)據(jù)分析能力的進(jìn)步,漏磁檢測(cè)多年來(lái)的使用經(jīng)驗(yàn),以及對(duì)各類型缺陷特征提取的技術(shù)積累。

近年來(lái),漏磁檢測(cè)的數(shù)值模擬和缺陷漏磁信號(hào)的處理方面進(jìn)行了大量研究,包括三軸漏磁檢測(cè)模擬[10]、多種缺陷的建模[11-12]、基于智能算法的缺陷重構(gòu)[8-9]等,這些研究為漏磁檢測(cè)中缺陷的識(shí)別和量化提供了寶貴的理論依據(jù)。

本文利用ANSYS軟件建立了二維漏磁檢測(cè)模型,分析影響漏磁場(chǎng)的因素以及鄰近缺陷漏磁場(chǎng)的相互作用,并研究相似漏磁場(chǎng)與缺陷真實(shí)特征的對(duì)應(yīng)關(guān)系,以期為漏磁檢測(cè)中缺陷的識(shí)別和量化提供更可靠的依據(jù)。

1 缺陷漏磁場(chǎng)的建模

在ANSYS軟件中對(duì)缺陷漏磁場(chǎng)進(jìn)行建模,模型主要包括被測(cè)管壁、磁鐵、軛鐵、鐵刷以及空氣5部分,二維漏磁檢測(cè)仿真模型如圖1所示。需定義材料屬性如下:①管壁采用X52號(hào)鋼,設(shè)定相應(yīng)的B-H曲線;②磁鐵采用釹鐵硼磁鐵,根據(jù)其勵(lì)磁方向設(shè)定矯頑力的大小和方向,磁鐵產(chǎn)生的磁力作為整個(gè)結(jié)構(gòu)的載荷;③軛鐵和鐵刷的相對(duì)磁導(dǎo)率設(shè)為186 000;④空氣部分的相對(duì)磁導(dǎo)率設(shè)為1。然后對(duì)模型進(jìn)行網(wǎng)格劃分,磁力線分布密集的部分要進(jìn)行細(xì)致劃分。ANSYS軟件會(huì)將永磁材料轉(zhuǎn)化為等效電流并加載到每個(gè)單元和節(jié)點(diǎn)上,因此,只需定義無(wú)限遠(yuǎn)場(chǎng)單元為INFIN110,而無(wú)需其他設(shè)定,求解處理采用靜態(tài)的通用標(biāo)勢(shì)法[15]。后處理階段通過(guò)對(duì)路徑提取可獲得漏磁場(chǎng)的軸向分量和徑向分量,磁感應(yīng)強(qiáng)度云圖如圖2所示,從圖中可以直觀地觀察到漏磁場(chǎng)的分布情況。

2 缺陷漏磁場(chǎng)有限元分析

2.1 單個(gè)對(duì)稱缺陷漏磁場(chǎng)仿真分析

首先,為研究缺陷寬度與漏磁場(chǎng)的關(guān)系,將缺陷簡(jiǎn)化為矩形,對(duì)6個(gè)不同寬度的缺陷進(jìn)行了建模,其中缺陷深度為50%(4mm),提離值為2mm,缺陷寬度分別為 a:2mm,b:5mm,c:8mm,d:11mm,e:15mm,f:20mm,相應(yīng)的漏磁場(chǎng)分布如圖3所示。

從圖3可以看出,隨缺陷寬度的增加,軸向分量的峰值先升后降,缺陷寬度大于10mm之后,漏磁場(chǎng)軸向分量由單波峰變?yōu)殡p波峰,徑向分量的峰值先升后降,峰峰值亦先升后降,波峰和波谷之間水平間距逐漸增大。漏磁場(chǎng)軸向分量峰值和徑向分量的峰峰值隨寬度的變化曲線如圖4所示,可以看出,寬度為5mm時(shí)軸向分量波峰值為最大。

其次,為研究缺陷深度與漏磁場(chǎng)的關(guān)系,對(duì)6個(gè)不同深度的缺陷進(jìn)行了建模,其中缺陷寬度為10mm,提離值為 2mm,缺陷深度分別為 a:20%,b:30%,c:40%,d:50%,e:60%,f:70%,相應(yīng)的漏磁場(chǎng)分布如下頁(yè)圖5所示。

從圖5可以看出,隨缺陷深度的增加,軸向分量峰值增大,徑向分量峰峰值增大,而漏磁場(chǎng)軸向分量峰值和徑向分量峰峰值隨深度的變化曲線,如下頁(yè)圖6所示。

為研究不同的傳感器提離值與漏磁場(chǎng)的關(guān)系,缺陷寬度為10mm,深度為50%,提離值分別為a:1mm,b:2mm,c:3mm,d:4mm,e:5mm,f:6mm,相應(yīng)的漏磁場(chǎng)分布如下頁(yè)圖7所示。

從圖7可以看出,隨提離值的增大,檢測(cè)到的漏磁信號(hào)變小,不利于準(zhǔn)確的識(shí)別和量化缺陷,所以為獲取較完整的漏磁信號(hào)特征,提離值應(yīng)取較小一些。在實(shí)際工程設(shè)計(jì)中,要綜合考慮檢測(cè)裝置、管壁材料、工作環(huán)境等條件,設(shè)定合適的傳感器提離值。

2.2 單個(gè)不對(duì)稱缺陷漏磁場(chǎng)仿真分析

實(shí)際檢測(cè)中遇到的缺陷包括坑狀腐蝕缺陷、裂紋等多種類型,本文將底部不平整的缺陷簡(jiǎn)化為三角形進(jìn)行建模。

首先,對(duì)5個(gè)不同寬度的缺陷進(jìn)行了建模,其中缺陷最大深度為50%,缺陷寬度分別為a:2mm,b:5mm,c:10mm,d:20mm,e:30mm,相應(yīng)的漏磁場(chǎng)分布如圖8所示。

從圖8可以看出,隨缺陷寬度的增大,軸向分量波峰發(fā)生偏移,保持單波峰,且波峰增大,徑向分量波峰和波谷也發(fā)生偏移,波峰增大,波谷變小,峰峰值增大。

其次,缺陷深度不同時(shí),缺陷寬度為10mm,缺陷最大深度分別為 a:10%,b:30%,c:50%,d:70%,e:90%,相應(yīng)的漏磁場(chǎng)分布如下頁(yè)圖9所示。

從圖9可以看出,隨缺陷深度的增加,軸向分量波峰值增大,徑向分量的峰值增大。關(guān)于對(duì)稱缺陷與不對(duì)稱缺陷,缺陷寬度對(duì)漏磁場(chǎng)的影響規(guī)律是類似的。

2.3 鄰近缺陷漏磁場(chǎng)及其相互作用仿真分析

在實(shí)際檢測(cè)中會(huì)存在兩個(gè)甚至多個(gè)缺陷距離較近的情況[6],漏磁場(chǎng)之間會(huì)存在相互作用,為此,對(duì)兩個(gè)鄰近缺陷以及3個(gè)鄰近缺陷的漏磁場(chǎng)相互作用進(jìn)行了研究。

首先,假定兩個(gè)缺陷相鄰,對(duì)6個(gè)不同間距的鄰近缺陷進(jìn)行了建模,其中兩個(gè)鄰近缺陷中的單個(gè)缺陷寬度均為10mm,缺陷深度為50%,缺陷間距分別為 a:1mm,b:2mm,c:5mm,d:10mm,e:15mm,f:20mm,相應(yīng)的漏磁場(chǎng)分布如圖10所示。

從圖10可以看出,當(dāng)間距較小時(shí),漏磁場(chǎng)相互作用很大,軸向分量波峰近乎重合,鄰近缺陷的漏磁場(chǎng)可近似看作一個(gè)缺陷形成的漏磁場(chǎng),隨間距的增大,漏磁場(chǎng)的相互作用逐漸減弱,當(dāng)間距為20mm時(shí),鄰近缺陷之間的漏磁場(chǎng)相互作用可以忽略,并且軸向分量的波峰位置會(huì)相對(duì)移動(dòng)到漏磁場(chǎng)的兩邊。

對(duì)6個(gè)不同間距缺陷進(jìn)行了建模,其中兩個(gè)鄰近缺陷中的單個(gè)缺陷寬度均為20mm,缺陷深度為50%,缺陷間距分別為 a:2mm,b:4mm,c:10mm,d:20mm,e:30mm,f:40mm,相應(yīng)的漏磁場(chǎng)分布如圖 11 所示。

從圖11可以看出,缺陷寬度為20mm時(shí)漏磁場(chǎng)隨間距的變化規(guī)律與缺陷寬度為10mm時(shí)漏磁場(chǎng)隨間距的變化規(guī)律類似,在間距大于20mm之后,兩個(gè)缺陷之間的漏磁場(chǎng)相互作用可以忽略。

對(duì)4個(gè)不同深度的缺陷進(jìn)行了建模,其中兩個(gè)鄰近缺陷中的單個(gè)缺陷寬度均為10mm,缺陷間距為 2mm,缺陷深度分別為 a:20%,b:40%,c:60%,d:80%,相應(yīng)的缺陷漏磁場(chǎng)分布如圖12所示。

從圖12可以看出,即使深度變化,在間距20mm時(shí)兩個(gè)缺陷之間的漏磁場(chǎng)相互作用都可以忽略。

從圖10~圖12可以看出,在間距大于20mm時(shí)兩個(gè)缺陷之間的漏磁場(chǎng)相互作用可以忽略。

其次,假定3個(gè)缺陷相鄰,缺陷寬度均為10mm,缺陷深度為50%,缺陷間距分別為,a:1mm,b:2mm,c:5mm,d:10mm,e:15mm,f:20mm,相應(yīng)的缺陷漏磁場(chǎng)分布如圖13所示。

從圖13可以看出,在間距接近20mm時(shí),可以完全區(qū)分出3個(gè)缺陷漏磁場(chǎng),而在間距較小時(shí)中間缺陷的波峰和波谷會(huì)消失,可近似看成兩個(gè)鄰近缺陷產(chǎn)生的漏磁場(chǎng),或者一個(gè)缺陷產(chǎn)生的漏磁場(chǎng)。

此外,從圖3、圖10、圖13可以看出,寬度和深度相同的情況下,3個(gè)鄰近缺陷比兩個(gè)鄰近缺陷漏磁場(chǎng)的軸向分量峰值小,2個(gè)鄰近缺陷又比單個(gè)缺陷漏磁場(chǎng)的軸向分量峰值小,圖14給出單個(gè)、2個(gè)鄰近、3個(gè)鄰近缺陷且間距為2mm缺陷漏磁場(chǎng)的軸向分量峰值隨寬度的變化曲線。

為研究鄰近缺陷漏磁場(chǎng)峰值降低的規(guī)律,對(duì)單個(gè)深度50%缺陷與2個(gè)等寬深度為65%間距為2mm的鄰近缺陷進(jìn)行了建模,單個(gè)缺陷和2個(gè)鄰近缺陷的漏磁場(chǎng)軸向分量峰值隨寬度的變化曲線如圖15所示,可以看出缺陷寬度大于12mm時(shí),兩種缺陷漏磁場(chǎng)的軸向分量峰值變化基本一致。

3 相似漏磁場(chǎng)與缺陷真實(shí)特征的對(duì)應(yīng)關(guān)系

從上述實(shí)驗(yàn)得知,不同的缺陷會(huì)產(chǎn)生相似的漏磁場(chǎng),實(shí)測(cè)漏磁信號(hào),可能對(duì)應(yīng)單個(gè)缺陷或多個(gè)缺陷,為此,研究相似漏磁場(chǎng)與缺陷真實(shí)特征的對(duì)應(yīng)關(guān)系,前提是單個(gè)缺陷的寬度和兩個(gè)鄰近缺陷加上其間距的總寬度相同。

首先,關(guān)于對(duì)稱缺陷,深度30%為例,對(duì)多個(gè)不同寬度的單個(gè)缺陷和兩個(gè)鄰近缺陷,其相應(yīng)的缺陷漏磁場(chǎng)的軸向分量峰值隨寬度的變化曲線如圖16所示,可以看出在缺陷寬度大于12mm后,兩種缺陷的峰值變化基本相同,可推斷,在缺陷寬度大于12mm之后,單個(gè)缺陷和2個(gè)鄰近缺陷會(huì)產(chǎn)生相似漏磁場(chǎng)。

缺陷深度均為30%。第一組寬度22mm、間距1mm,相應(yīng)的缺陷漏磁場(chǎng)分布如圖17所示。第二組寬度32mm、間距2mm,相應(yīng)的缺陷漏磁場(chǎng)分布如圖18所示。第三組寬度10mm、間距2mm,相應(yīng)的缺陷漏磁場(chǎng)分布如圖19所示。圖17、18中,漏磁場(chǎng)分布情況基本相同,圖19中軸向分量峰值稍有不同,這是因?yàn)槿毕輰挾葹?0mm,正如圖16中小于12mm。因此,上述推論成立,缺陷寬度小于12mm時(shí),是否會(huì)產(chǎn)生相同的漏磁場(chǎng),則需進(jìn)一步研究。

其次,關(guān)于不對(duì)稱缺陷,假定單個(gè)不對(duì)稱缺陷最大深度60%,寬度22mm,2個(gè)相鄰等寬缺陷深度分別為30%和60%,間距2mm,相應(yīng)的不對(duì)稱缺陷漏磁場(chǎng)分布如下頁(yè)圖20所示。從圖20可以看出,對(duì)于不對(duì)稱缺陷,上述推論仍然成立。

最后,關(guān)于3個(gè)鄰近缺陷,從圖14可以看出3個(gè)鄰近缺陷產(chǎn)生的漏磁場(chǎng)軸向分量峰值非常低。實(shí)驗(yàn)發(fā)現(xiàn),只改變?nèi)毕輰挾龋?個(gè)鄰近缺陷很難產(chǎn)生與單個(gè)缺陷或兩個(gè)鄰近缺陷類似的漏磁場(chǎng)。

據(jù)圖15中的規(guī)律,對(duì)相同寬度34mm的深30%的單個(gè)缺陷和深50%的3個(gè)鄰近缺陷,漏磁場(chǎng)分布如圖21所示,可看出漏磁場(chǎng)分析情況基本相同??梢?,存在3個(gè)鄰近缺陷與單個(gè)缺陷產(chǎn)生相似漏磁場(chǎng)的情況,但缺陷輪廓特征需滿足一定的規(guī)律,經(jīng)過(guò)驗(yàn)證,改變?nèi)毕輰挾?,漏磁?chǎng)分布情況仍然相同。

4 結(jié)論

本文利用有限元方法對(duì)缺陷進(jìn)行建模,除了常規(guī)的矩形缺陷外,還有不對(duì)稱的三角形缺陷、2個(gè)鄰近缺陷、3個(gè)鄰近缺陷,獲得了包括寬度、深度、提離值等因素對(duì)缺陷漏磁場(chǎng)的影響規(guī)律,得到了缺陷的漏磁場(chǎng)發(fā)生相互作用的間距范圍,及漏磁場(chǎng)在相互作用時(shí)隨間距變化的規(guī)律,發(fā)現(xiàn)了相似漏磁場(chǎng)可能由不同種類缺陷產(chǎn)生,可以得到以下4個(gè)結(jié)論:

①對(duì)于單個(gè)對(duì)稱缺陷,隨寬度的增大,軸向分量峰值先增后降,由單波峰變?yōu)殡p波峰,徑向分量峰峰值先增后降;隨深度的增加,軸向分量峰值增大,徑向分量峰峰值增大;提離值較小時(shí)漏磁檢測(cè)裝置能夠檢測(cè)到較完整的漏磁信號(hào)。

②對(duì)于單個(gè)不對(duì)稱缺陷,隨寬度的增大,漏磁場(chǎng)的波峰隨著缺陷最深處的位置移動(dòng)而發(fā)生偏移,軸向分量波峰值增大,徑向分量波峰值增大,波谷值的絕對(duì)值變小,峰峰值增大;隨深度的增加,軸向分量峰值增大,徑向分量峰峰值增大。

③隨鄰近缺陷間距的增大,漏磁場(chǎng)相互作用減弱,間距大于20mm時(shí)相互作用可以忽略,此規(guī)律受缺陷寬度和缺陷深度影響較??;鄰近缺陷漏磁場(chǎng)相互作用時(shí),軸向分量波峰位置會(huì)相對(duì)移動(dòng)到漏磁場(chǎng)的兩邊,波峰值較單個(gè)缺陷產(chǎn)生的漏磁場(chǎng)軸向分量波峰值小,相互作用的漏磁場(chǎng)越多,此規(guī)律越明顯,且峰值降低的規(guī)律和缺陷深度的變化對(duì)峰值的影響有一定對(duì)應(yīng)關(guān)系。

④檢測(cè)到的漏磁場(chǎng),可能是由一個(gè)缺陷產(chǎn)生,也可能是由多個(gè)缺陷的漏磁場(chǎng)相互作用產(chǎn)生,給出了不同缺陷產(chǎn)生相似漏磁場(chǎng)的規(guī)律,在實(shí)際檢測(cè)過(guò)程中可以利用這些規(guī)律,為快速、準(zhǔn)確地識(shí)別和量化缺陷提供理論依據(jù)。

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