狄瑩瑩,任鵬剛,宋丹萍
(1.陜西工業(yè)職業(yè)技術(shù)學(xué)院機械工程學(xué)院,陜西 咸陽 712000;2.西安理工大學(xué)印刷包裝與數(shù)字媒體學(xué)院,西安710048)
PLA由于其良好的生物相容性和降解性在生物醫(yī)學(xué)領(lǐng)域得到了廣泛應(yīng)用,如一次性輸液用具、免拆型手術(shù)縫合線等[1-3]。然而,純PLA的氣體阻透性能差、耐熱性不良、結(jié)晶速率慢、質(zhì)地脆等不足嚴(yán)重限制了其作為通用塑料在包裝中的廣泛應(yīng)用[4-9]。提高PLA的綜合性能,特別是氣體阻透性能,已成為PLA替代傳統(tǒng)塑料而在包裝材料中使用的亟待解決問題。
石墨烯是目前發(fā)現(xiàn)的最薄、強度最高的一種二維納米材料,具有高的比表面積和大的縱橫比,作為理想的增強體和阻隔填料廣泛應(yīng)用于聚合物改性之中[10-13]。然而,較強的表面惰性使石墨烯與PLA基體的相容性較差,嚴(yán)重的團聚及弱的界面結(jié)合限制了石墨烯的增強效果[14-20]。填料與樹脂基體間的界面作用對復(fù)合材料的綜合性能有直接影響,目前,界面改性對力學(xué)性能的影響研究較多,但對于氣體阻透性的研究相對較少,具體影響規(guī)律尚不明確,在一定程度制約了PLA在包裝及農(nóng)用地膜中的推廣應(yīng)用[21]。
為此,本文利用氨基與GO表面含氧基團的親核取代反應(yīng)實現(xiàn)氧化石墨烯的功能化改性,通過選用不同鏈長的EDA、DA和ODA獲得一系列結(jié)構(gòu)各異的功能化GO納米填料(FGO)。在此基礎(chǔ)上制備了具有不同界面結(jié)構(gòu)的PLA/GO-g-EDA、PLA/GO-g-DA和PLA/GO-g-ODA納米復(fù)合膜,研究了界面結(jié)構(gòu)對納米填料的分散性、復(fù)合薄膜力學(xué)性能、熱穩(wěn)定性以及氧氣滲透性能的影響,為后續(xù)相關(guān)研究提供理論依據(jù)。
PLLA,4032D,美國Nature Works公司,重均相對分子質(zhì)量為2.23×105g/mol,相對分子質(zhì)量分散性指數(shù)(PDI)為2.10;
GO,自制;
EDA、DA、ODA、NH3·H2O、CHCl3、CH3OH、C2H6O、N,N-二甲基甲酰胺(DMF),分析純,西安三浦精細(xì)化工廠。
超聲分散儀,060S,德意生有限公司;
電熱真空恒溫干燥箱,DZF-6020,康恒工業(yè)有限公司;
粉碎機,HC-500T2,永康市天祺盛世工貿(mào)有限公司;
壓機,QYL20,上海頂業(yè)機械制造有限公司;
熱重分析儀(TG),EXSTAR6000,日本精工株式會社;
掃描電子顯微鏡(SEM),S-450,日本JEOL公司;
X射線衍射分析(XRD),Y-2000X,丹東奧龍射線儀器集團有限公司;
差示掃描熱分析(DSC),AQ2000,美國Perkin公司;
拉伸測試儀,PT-1176PC,東莞威邦儀器設(shè)備有限公司;
壓差法氣體透過率測定儀,N530,廣州標(biāo)際包裝設(shè)備有限公司。
GO-g-EDA的制備:采用改進的Hummers法制備GO[22],將0.3g GO加入到300 mL的DMF溶液中,超聲攪拌30 min,得到GO懸浮液;將3.6 mL的EDA加入混合液中,并加入0.9 mL濃氨水,在95 ℃下攪拌6 h后,將溶液過濾并用去離子水/乙醇混合液反復(fù)洗滌,然后于60 ℃下真空干燥24 h,得到GO-g-EDA顆粒;
GO-g-DA(ODA)的制備:取2 g GO粉末均勻分散在去離子水中,超聲30 min;將3 g DA(ODA)緩慢加入GO分散液中,室溫下機械攪拌60 h,過濾,用乙醇充分洗滌,于60 ℃下真空干燥24 h,得到GO-g-DA(ODA)顆粒;
PLA/FGO納米復(fù)合材料的制備:稱取將一定量的PLA顆粒加入CHCl3中,超聲攪拌,使PLA完全溶解在CHCl3中,然后按比例加入適量的FGO (為消除含量的影響,填料含量均固定為0.5 %),超聲攪拌至均勻分散后,將混合液倒入大量的CH3OH中絮凝;隨后將絮凝物反復(fù)洗滌、過濾,晾曬36 h后,60 ℃烘干4 h;最后將其在粉碎機中打粉,用壓機熱壓成型;于180 ℃下,保持恒壓10 MPa;純PLA薄膜的制備方法同上,純PLA和PLA/FGO復(fù)合薄膜的厚度在0.2~0.3 mm之間。
TG分析:氮氣環(huán)境,樣品約為5 mg,從室溫加熱到700 ℃,加熱速度為10 ℃/min;
SEM分析:將試樣在液氮下脆斷,表面噴金后用SEM觀察其形貌;
XRD分析:Cu靶,波長(λ)為0.154 178 nm,輻射管電壓為30 kV,管電流為80 mA,測試速度為0.06 (° )/s,掃描范圍(2θ)為10 °~25 °;
DSC分析:在氮氣氣氛下,以10 ℃/min的速率從100 ℃升溫至200 ℃,恒溫5 min,再以10 ℃/min降至室溫,經(jīng)二次升溫后測得DSC曲線;
力學(xué)性能測試:每個樣品裁制成5組相同大小的啞鈴狀樣條,利用拉伸測試儀進行測試,拉伸速率為1 mm/min,取5個樣條的平均值;
透氧性能測試:采用壓差法氣體透過率測定儀測試,每組薄膜取3個直徑為100 mm的試樣,測試模式為高阻透模式。
1—GO-g-ODA 2—GO-g-DA 3—GO-g-EDA 4—GO 5—石墨圖1 石墨、GO和FGO的XRD曲線Fig.1 XRD curves of graphite, GO and FGO
從圖1可以看出,石墨在2θ=26.2 °處出現(xiàn)一個強衍射峰,參照布拉格方程(2dsinθ=nλ)分析可知,石墨晶體所對應(yīng)的層間距約為0.34 nm,GO的峰值在2θ=10.8 °處,其對應(yīng)的層間距增大至0.88 nm,表明石墨被成功氧化成了GO。氧化過程中,石墨的片層表面引入了大量含氧基團,增大的片層間距可有效削弱分子間的范德華力,有利于片層的剝離與分散。此外,可以看出,GO-g-EDA、GO-g-DA和GO-g-ODA的衍射峰分別移動至11.39 °、7.99 °和6.83 °,對應(yīng)的層間距分別為0.78、1.11、1.29 nm,與GO相比較,GO-g-DA和GO-g-ODA的層間距隨著接枝鏈的增長而增大,這是因為接枝于GO片層上的長鏈增加了GO片層的間距。由圖還可以看出,GO-g-EDA片層間距略小于GO片層間距,這主要歸因于部分的EDA分子鏈同時與2個GO片層反應(yīng),減小GO的片層間距。XRD結(jié)果表明EDA、DA和ODA均成功接枝于GO片層上。
1—GO-g-ODA 2—GO-g-DA 3—GO-g-EDA 4—GO(a)TG (b)DTG圖2 GO和FGO的TG和DTG曲線Fig.2 TGand DTG curves of GO and FGO
1—PLA 2—PLA/GO 3—PLA/GO-g-EDA 4—PLA4/GO-g-DA 5—PLA/GO-g-ODA圖3 PLA、PLA/GO和PLA/FGO復(fù)合材料的XRD曲線Fig.3 XRD curves of PLA, PLA/GO and PLA/FGO
從圖3可以看出,純PLA的特征峰出現(xiàn)在16.64 °和19.04 °處,4種復(fù)合材料的特征峰與純PLA特征峰相似,沒有出現(xiàn)顯著變化,也未出現(xiàn)GO、GO-g-EDA、GO-g-DA和GO-g-ODA的特征峰,說明納米填料的加入未對基體的晶型產(chǎn)生影響,且在基體中未出現(xiàn)大面積團聚現(xiàn)象。
由圖4可知,PLA的熔點(Tm)為167.4 ℃,GO、GO-g-EDA、GO-g-DA和GO-g-ODA填充復(fù)合材料的Tm分別為167.6、168.4、168.7、169.1 ℃。復(fù)合材料的Tm隨前接枝鏈長度的增加而提高,長鏈改性的納米填料與PLA基體間結(jié)合力更強,從而限制了PLA分子的運動,使復(fù)合材料的Tm升高。
1—PLA 2—PLA/GO 3—PLA/GO-g-EDA 4—PLA/GO-g-DA 5—PLA/GO-g-ODA圖4 PLA、PLA/GO和PLA/FGO復(fù)合材料的DSC曲線Fig.4 DSC curves of PLA, PLA/GO and PLA/FGO
(a)PLA (b)PLA/GO (c)PLA/GO-g-EDA (d)PLA/GO-g-DA (e)PLA/GO-g-ODA圖5 PLA、PLA/GO和PLA/FGO的SEM照片F(xiàn)ig.5 SEM images ofPLA,PLA/GO and PLA/FGO
如圖5所示,純PLA斷面呈現(xiàn)出均勻、光滑的形態(tài)[圖5(a)],表現(xiàn)出典型的脆性斷裂。而圖5(b)、(c)、(d)和(e)斷面較為粗糙。這是由于納米填料的加入引起的應(yīng)力集中、裂紋偏轉(zhuǎn)及填料的部分團聚造成的。對比復(fù)合材料的斷口形貌可以發(fā)現(xiàn),隨著改性鏈長的增加,F(xiàn)GO在基體中分散性變好,GO及GO-g-EDA 復(fù)合材料中可以觀察到明顯的填料團聚現(xiàn)象,這是由于較弱的界面結(jié)合引起的。雖然GO-g-EDA在基體中出現(xiàn)少量團聚,但相比于PLA/GO,分散性也得到了一定的提升。而GO-g-DA和GO-g-ODA在PLA中的有良好的分散,幾乎觀察不到填料團聚現(xiàn)象,這是因為較長的DA和ODA鏈與PLA大分子間能形成相互纏繞,從而形成了FGO的良好分散和剝離。
1—PLA 2—PLA/GO 3—PLA/GO-g-EDA 4—PLA/GO-g-DA 5—PLA/GO-g-ODA■—拉伸強度 ■—斷裂伸長率圖6 PLA及其復(fù)合材料的拉伸強度及斷裂伸長率Fig.6 Tensile strength and the elongation at break of PLA, PLA/GO and PLA/FGO nanocomposites
如圖6所示,純PLA和PLA/GO復(fù)合材料的拉伸強度為56.97 MPa和64.23 MPa,F(xiàn)GO的加入可明顯提高復(fù)合材料的拉伸強度,且增強效果隨著接枝鏈長的增加而增大,GO-g-EDA、GO-g-DA和GO-g-ODA填充的復(fù)合材料拉伸強度分別達到74.83、81.74、88.52 MPa。然而,復(fù)合材料的斷裂伸長率并沒有得到有效改善,純PLA的斷裂伸長率為10.58 %,GO、GO-g-EDA、GO-g-DA和GO-g-ODA的斷裂伸長率分別為3.34 %,7.59 %,8.94 %和9.68 %。這是因為納米填料屬于剛性材料,加入基體后顯著降低了復(fù)合材料的韌性,從而使復(fù)合材料的斷裂伸長率發(fā)生了下降。但是,在復(fù)合材料中,隨著FGO表面接枝分子鏈的增長,界面結(jié)合力增強,斷裂伸長率也依次增大。
1—PLA 2—PLA/GO 3—PLA/GO-g-EDA 4—PLA/GO-g-DA 5—PLA/GO-g-ODA圖7 PLA、PLA/GO和PLA/FGO的氧氣滲透系數(shù)Fig.7 Oxygen permeability coefficient of PLA, PLA/GO and PLA/FGO
從圖7可以看出,純PLA的滲透系數(shù)為4.21×10-13cm3cm/(cm2·s·Pa),GO及其功能化納米填料的加入能明顯降低復(fù)合材料的氧氣滲透系數(shù),PLA/GO、PLA/GO-g-EDA、PLA/GO-g-DA和PLA/GO-g-ODA復(fù)合材料的氧氣滲透系數(shù)分別下降到2.81×10-13、1.18×10-13、5.62×10-14、1.17×10-14cm3cm/(cm2·s·Pa),下降幅度分別為:33.3 %、72.0 %、86.7 %和97.2 %。這是因為隨著接枝分子鏈的增長,納米填料在基體中的分散性提高,形成了更多的納米阻隔墻,從而產(chǎn)生更多曲折的滲透路徑,減少氧氣透過量。另外,隨著接枝鏈的增長,F(xiàn)GO與PLA基體間的界面結(jié)合更加牢靠,較少的界面缺陷也有利于阻隔氧氣沿界面擴散,從而有效降低了氧氣的滲透系數(shù)。
(1)采用親核取代反應(yīng)成功制備了具有不同接枝鏈長的功能化FGO,并通過熱壓成型的方法制備了不同功能化的PLA/FGO納米復(fù)合薄膜;
(2)隨著表面接枝分子鏈的增長,F(xiàn)GO在PLA中的分散性及界面相互作用增強,相應(yīng)的復(fù)合材料耐熱性、力學(xué)性能及阻氧性能也相續(xù)提高;
(3)當(dāng)ODA-g-GO填加量為0.5 %時,PLA復(fù)合材料的拉伸強度和氧氣滲透系數(shù)達到了88.52 MPa和1.17×10-14cm3cm/(cm2·s·Pa),較純PLA分別提高了55.38 %和97.2 %。