董攀飛,徐志高,吳 明,沙傲陽,何正艷,瞿 軍
中南民族大學資源與環(huán)境學院,催化轉化與能源材料化學教育部重點實驗室,資源轉化與污染物控制國家民委重點實驗室,催化材料科學湖北省重點實驗室,湖北 武漢 430074
鋯(zirconium,Zr)鉿(hafnium,Hf)濕法分離中溶劑萃取法是常用的Zr和Hf分離方法[1-2]。在工業(yè)上萃取分離Zr和Hf的工藝有MIBKHSCN[3]、TBP[4]、TOA/N235[5]等。但TBP和TOA/N235均是優(yōu)先萃取Zr,只有MIBK-HSCN體系是優(yōu)先Hf。由于Zr和Hf的物理性質和化學性質相似,Zr化學品中Hf一般占Zr和Hf總量為1%~3%[6],優(yōu)先萃取Hf的工藝不僅能減少操作步驟,縮短分離時間,而且能節(jié)省萃取劑用量。而MIBK-HSCN體系中,中性萃取劑MIBK的水溶性較高[7],經過多次萃取會造成大量的有機相損失。更為重要的是MIBK在優(yōu)先萃取Hf時需使用SCN-,酸性條件下極易分解[8]。為增強SCN-的穩(wěn)定性,Larsson等[9]在分離稀土時采用陽離子型萃取劑甲基三辛基氯化銨(Aliquat336,N263,A336)以使陽離子型萃取劑預先與SCN-形成[A336][SCN]。在此基礎上,開發(fā)出N263-HSCN體系萃取分離Zr和Hf的方法,需要對反萃取工藝進行研究。
在Zr和Hf的反萃取研究中,有較多試劑被用來反萃分離Zr和Hf。Bhatta等[10]在Alamine336和H2SO4萃取體系中,使用Na2CO3和NaCl作為反萃劑,Zr和Hf的反萃率均大于90%。徐志高等[11]采用不同濃度的鹽酸和硫酸從DIBK-TBP體系和DIBK-P204體系的負載有機相中反萃Zr和Hf,發(fā)現使用鹽酸和硫酸溶液可以成功地反萃這兩種負載有機相中的Zr和Hf。Pandey等[12]在混合烷基氧化膦(MAPO)和HNO3體系中,分別采用C2H2O4、HCl、H2SO4、H2SO4+H2O2、C2H4O2、(NH4)2CO3和(NH4)2NO3反萃分離Zr和Hf,發(fā)現C2H2O4和C2H4O2對Zr和Hf均有較高的反萃率,而其他反萃劑的反萃效果并不理想。Yadollahi等[13]研究了TBP和Cyanex-272協同萃取體系反萃取工藝,分別采用(NH4)2CO3、HCl、HClO4、H2SO4、C2H4O2和C4H6O6對負載有機相進行反萃取,發(fā)現C2H4O2和C4H6O6對Zr和Hf的反萃率都能達到80%以上,但分離系數都較低;H2SO4作反萃劑時,Zr和Hf的反萃率分別達到95.17%和66.10%,分離系數高達10.10。Conradie等[14]分別采用H2SO4、(NH4)2CO3、CaCl2和C2H2O4反萃取D2EHPA-H2SO4體系負載有機相,發(fā)現C2H2O4對Zr和Hf的反萃率分別達92%和99%,而H2SO4對Zr和Hf沒有反萃能力。可見,在不同的萃取體系中,相同的反萃劑反萃取的結果并不相同。因此,有必要研究N263-HSCN體系負載有機相的反萃行為。
本文擬分別采用HCl、H2SO4、HNO3、(NH4)2CO3、C2H2O4和C4H6O6等作為反萃劑對N263-HSCN分離Zr和Hf體系的負載有機相進行反萃行為研究,探索不同反萃劑濃度和相比對Zr和Hf反萃的影響規(guī)律,以篩選出較佳的反萃劑和反萃工藝參數,為開發(fā)反萃工藝提供理論指導。
N263(純度>95%,上海麥克林公司)。NH4SCN、(NH4)2SO4、HCl、HNO3、H2SO4和(NH4)2CO3(國藥公司),乙酸戊酯、酒石酸和草酸(上海麥克林公司),以上試劑均為分析純且無進一步純化。ZrOCl2·8H2O(99%,Hf約占Zr和Hf總量的2.24%,中凱新材料有限公司)。
取一定量的N263與稀釋劑乙酸戊酯混合配成30%(V/V)的有機溶液作為萃取有機相;再取一定量的鹽酸和NH4SCN溶解在去離子水中,制備2.2 mol/L的HSCN溶液作為水相??刂葡啾龋∣/A)為1/1,室溫下攪拌20 min,靜置,用分液漏斗分相,得到預飽和有機相可用于后續(xù)Zr和Hf的萃取。
取 一 定 量 的Zr(Hf)OCl2·8H2O、(NH4)2SO4、NH4SCN溶解在去離子水中,用鹽酸調節(jié)酸度,配制含Zr和Hf總量為110 g/L,(NH4)2SO4濃度為0.6 mol/L、HSCN濃度為2.5 mol/L的料液,與預飽和有機相混合,保持相比(O/A)為2/1,在室溫下攪拌15 min,靜置、分相,得到負載有機相和萃余相。
在一定的相比條件下,負載有機相和不同濃度的反萃劑溶液接觸,在室溫下攪拌10 min后,靜置、分相,取水相進行檢測分析,并用下面的公式計算反萃率(R)和反萃分配比(D):
式中,βHf/Zr為Zr相對于Hf的分離系數,[M]為金屬離子的濃度,M表示是Zr和Hf;org表示有機相;aq表示萃取后水相。
水相中Zr和Hf離子的濃度分別使用電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜(ICP-OES)測定,有機相中的Zr和Hf離子的濃度采用差減法進行計算。
2.1.1 鹽 酸 負載有機相中Zr和Hf的質量濃度分別為19.50和1.10 g/L。在室溫下,保持相比(O/A)為1/2、反萃時間10 min,探索反萃劑HCl濃度對Zr和Hf的反萃率和分離系數影響規(guī)律,如圖1所示。
圖1 HCl濃度對Zr和Hf反萃率和分離系數的影響Fig.1 Effects of HCl concentration on stripping yields and separation factors of zirconium and hafnium
Zr和Hf的反萃率均隨鹽酸濃度的增加而不斷增加,分離系數隨著鹽酸濃度增加而不斷下降。當HCl濃度在6.0 mol/L時,Zr和Hf的反萃率分別為44.38%和13.97%,分離系數為3.17。隨著鹽酸濃度的增加,Zr和Hf的反萃率增加不多,且分離系數也較低,可見鹽酸對Zr和Hf的反萃能力較低。
2.1.2 硝 酸 控制其他條件不變,探索反萃劑硝酸濃度對Zr和Hf反萃率和分離系數的影響規(guī)律,如圖2所示。
圖2 HNO3濃度對Zr和Hf反萃率和分離系數的影響Fig.2 Effects of HNO3 concentration on stripping yields and separation factors of zirconium and hafnium
Zr和Hf的反萃率和分離系數均隨著硝酸濃度的增加而不斷下降。當HNO3濃度大于2.0 mol/L后,有機相中出現大量黃色沉淀物(圖3)。這是由于在高濃度HNO3條件下,有機相中的硫氰酸根被氧化分解生成硫化物沉淀。此外,硝酸作反萃劑時,有機相中的Zr和Hf幾乎沒有被反萃到水相中。
圖3 不同濃度HNO3反萃后現象Fig.3 Phenomenons of stripping with different concentrations of nitric acid
2.1.3 硫 酸 控制其他條件不變,探索反萃劑硫酸濃度對Zr和Hf反萃率和分離系數的影響規(guī)律,如圖4所示。
圖4 H 2SO4濃度對Zr和Hf反萃率和分離系數的影響Fig.4 Effects of H2SO4 concentration on stripping yields and separation factors of zirconium and hafnium
當硫酸濃度小于3.0 mol/L時,Zr的反萃率快速增加,而Hf的反萃率緩慢增加;當硫酸大于3.0 mol/L時,Zr的反萃率緩慢增加,而Hf的反萃率大幅增加。因此,在低濃度時,Zr和Hf的反萃率相差較大,而在高濃度時,Zr和Hf的反萃率均較大。當硫酸為3.0 mol/L時,Zr和Hf的反萃率分別為82.26%和30.89%;當H2SO4的濃度為6.0 mol/L時,Zr和Hf的反萃率分別為94.12%和92.39%??梢园l(fā)現,在硫酸濃度較低時,Zr的反萃率是遠大于Hf的,這可能是因為游離的SO42+與Zr(IV)的結合能大于和Hf(IV)的結合能[15],使有機相中較多的Zr(IV)能與SO42+結合而被反萃到水相中。分離系數隨著硫酸濃度的增加先增大后不斷下降,Zr和Hf分離系數在硫酸濃度為0.5 mol/L時可達10.16,表明在低酸度下硫酸對Zr和Hf有較好的分離能力。
2.1.4 草 酸 控制其他條件不變,探索反萃劑草酸(H2C2O4)濃度對Zr和Hf反萃率和分離系數的影響規(guī)律(圖5)。
圖5 H2C2O4濃度對Zr和Hf反萃率和分離系數的影響Fig.5 Effects of H 2C2O4 concentration on stripping yields and separation factors of zirconium and hafnium
Zr的反萃率隨著草酸的濃度增加,先不斷增加后稍有下降;Hf的反萃率隨著草酸濃度增加,先增加后下降;分離系數隨著草酸濃度增加,先不斷下降后增加。當草酸濃度為1.25 mol/L時,Zr和Hf的反萃率分別為98.50%和80.24%。由于Zr的4f是空軌道,Zr有利于與有機酸形成絡合物更穩(wěn)定的絡合物[16],導致Zr的反萃率大于Hf的反萃率。Zr和Hf的分離系數隨著草酸濃度增加而先下降后增加,但分離系數始終都偏小,說明草酸不能用作Zr和Hf選擇性分離的反萃劑。
2.1.5 酒石酸 控制其他條件不變,探索反萃劑酒石酸(C4H6O6)濃度對Zr和Hf反萃率和分離系數的影響規(guī)律,如圖6所示。
圖6 C4H6O6濃度對Zr和Hf反萃率和分離系數的影響Fig.6 Effects of C4H 6O6 concentration on stripping yields and separation factors of zirconium and hafnium
隨著酒石酸的濃度增加,Zr和Hf的反萃率先增加后下降。當酒石酸加入量為2.5 mol/L時,Zr的反萃率為91.70%,Hf的反萃率為72.54%。Zr的反萃率大于Hf的反萃率是由于酒石酸與Zr形成的絡合物的穩(wěn)定性大于Hf的[17],導致酒石酸與Zr更易絡合而轉移到水相中。分離系數隨著酒石酸濃度的增加而先減小后基本不變。表明酒石酸不能作為Zr和Hf選擇性分離的反萃劑。
2.1.6 碳酸銨 控制其他條件不變,探索反萃劑碳酸銨濃度對Zr和Hf反萃率和分離系數的影響規(guī)律(圖7)。
圖7 (NH 4)2CO3濃度對Zr和Hf反萃率和分離系數的影響Fig.7 Effects of(NH4)2CO3 concentration on stripping yields and separation factors of zirconium and hafnium
Zr和Hf的反萃率隨著碳酸銨濃度的增加,先增加后維持不變;分離系數隨碳酸銨濃度的增加,先減小后基本不變。當碳酸銨濃度為1.0 mol/L時,Zr和Hf的反萃率分別達75.45%和81.17%,分離系數僅為0.93??梢娞妓徜@能很好地同時洗脫負載有機相中的Zr和Hf,但對兩者沒有選擇性,表明碳酸銨也不能作為Zr和Hf選擇性分離的反萃劑。
綜合以上研究結果,選用3.0 mol/L的硫酸作反萃劑,研究不同相比對反萃分離的影響(圖8)。
圖8 H2SO4作反萃劑時不同相比對Zr和Hf反萃率和分離系數的影響Fig.8 Effect of different phase ratios on stripping yields and separation factors of zirconium and hafnium using H2SO4 as stripping agent
隨著水相體積的不斷增加,Zr的反萃率先增加后減小,而Hf的反萃率不斷增加,分離系數不斷下降。當相比(O/A)為4/1時,Zr和Hf的反萃率分別為58.87%和4.60%,分離系數可達12.81。
(1)采用不同反萃劑對N263-HSCN體系負載有機相進行反萃取時,Zr的反萃率大小順序為C2H2O4>H2SO4>C4H6O6>(NH4)2CO3>HCl>HNO3,Hf的反萃率大小順序:H2SO4>(NH4)2CO3>C2H2O4>C4H6O6>HCl>HNO3。
(2)H2SO4作為反萃劑時,低濃度H2SO4對負載有機相中的Zr和Hf的反萃取有較大的分離系數,而高濃度H2SO4對負載有機相中的Zr和Hf有較小的分離系數,但反萃率較高。
(3)先選用3.0 mol/L H2SO4作反萃劑,相比(O/A)為4∶1時,Zr和Hf的反萃率分別為58.87%和4.60%,分離系數可達12.81,反萃后再選用6.0 mol/L H2SO4對Hf進行洗脫,Hf的洗脫率為92.39%。