龐偉科
(1 蒙娜麗莎集團(tuán)股份有限公司 廣東 佛山 528211)
(2 廣東省大尺寸陶瓷薄板企業(yè)重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室 廣東 佛山 528211)
近年來(lái),隨著建筑陶瓷市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)的日益白熱化,陶瓷產(chǎn)品更新?lián)Q代的節(jié)奏正在加快,作為一個(gè)有競(jìng)爭(zhēng)力的建筑陶瓷企業(yè),必須在產(chǎn)品創(chuàng)新方面下功夫。針對(duì)目前市場(chǎng)出現(xiàn)的一些五花八門的功能性陶瓷產(chǎn)品,同時(shí)為了迎合市場(chǎng)對(duì)功能性陶瓷產(chǎn)品的各種需求,在此筆者對(duì)一種具有裝飾性的功能類陶瓷產(chǎn)品進(jìn)行研究,并應(yīng)用到生產(chǎn)的技術(shù)中。電鍍是利用電解原理在某些材料(比如玻璃金屬及人造石材)表面上鍍上一薄層其他金屬或合金的過(guò)程,是利用電解作用使金屬或其它材料制件的表面附著一層金屬膜的工藝從而起到防止金屬氧化,提高耐磨性、導(dǎo)電性、反光性、抗腐蝕性及增進(jìn)美觀等作用。
與電鍍技術(shù)有所不同,利用本技術(shù)將通過(guò)高溫窯爐燒成達(dá)到飽和析出金屬晶相使陶瓷表面具有亮光的金屬電鍍效果,可以強(qiáng)化陶瓷的表面裝飾作用。該產(chǎn)品具有亮光的鏡面效果,平整度好,而且產(chǎn)品的坯釉層結(jié)合良好,熱穩(wěn)定性高,具有很好的反光隔熱作用,同時(shí)能滿足作為陶瓷產(chǎn)品的一些性能要求,本技術(shù)可以作為一種裝飾材料應(yīng)用到陶瓷生產(chǎn)中,能夠豐富陶瓷產(chǎn)品的品類結(jié)構(gòu)。
釉用原料有:鉀長(zhǎng)石,石英粉,方解石,燒滑石,熔塊,煅燒氧化鋅,中山黑泥,氧化鋁,碳酸鋇,鈦白粉(二氧化鈦)等。
著色氧化物有:氧化銅,氧化錳,氧化鎳等。
坯用原料的選擇及配方的組成:坯體中主要使用的原料為慶鉀砂、鈉石粉、水磨石粉、力鴻鉀砂、南峰低溫砂、邦砂、球土、東基泥、黑滑石等多種泥砂料的復(fù)合。經(jīng)過(guò)實(shí)驗(yàn)所得的中試坯體配方其比例為(質(zhì)量%):慶鉀砂8、鈉石粉9、水磨石粉9、力鴻鉀砂7、南峰砂8、邦砂30、球土20、東基泥7、黑滑石2,經(jīng)球磨除鐵加工和噴霧干燥制成坯粉后再通過(guò)壓機(jī)壓制成形。
實(shí)驗(yàn)儀器和設(shè)備主要有:電子天平(JJ500),快速球磨機(jī)(MJ008-1),電子干燥箱(JC101),噴槍,國(guó)家標(biāo)準(zhǔn)檢驗(yàn)篩網(wǎng)(325目)維氏硬度計(jì),耐磨實(shí)驗(yàn)機(jī)等。
工藝過(guò)程為:原料選取→原料稱量→球磨→過(guò)篩除鐵→噴釉→烘箱烘干→窯爐燒成→磨邊
(1)工藝參數(shù)為:料漿細(xì)度0.3%~0.5%(325目);
(2)料漿密度為:底釉和面釉1.42~1.65 kg/cm3;
(3)窯爐燒成溫度及曲線(見(jiàn)圖1):表面溫度為1 215℃,測(cè)溫環(huán)實(shí)測(cè)溫度為1 163 ℃,燒成時(shí)間為68 min。在該公司普通仿古磚窯爐燒成,過(guò)程并不需要對(duì)窯爐曲線進(jìn)行特定的調(diào)整。
圖1 窯爐燒成曲線
對(duì)釉面進(jìn)行XRD、SEM 測(cè)試分析、耐磨性能(磨耗)、維氏硬度。
按照實(shí)驗(yàn)步驟,面釉經(jīng)過(guò)初步調(diào)試之后確定了基礎(chǔ)配方比例,然后再根據(jù)基礎(chǔ)配方設(shè)計(jì)了下列4組配方,并進(jìn)行對(duì)比的試驗(yàn)分析。根據(jù)實(shí)驗(yàn)得出的結(jié)果進(jìn)行討論并進(jìn)行了進(jìn)一步實(shí)驗(yàn)。
在進(jìn)行面釉調(diào)整之前,通過(guò)實(shí)驗(yàn)確定了底釉配方(見(jiàn)表1)。首先底釉配方盡可能的接近坯體的成分,膨脹系數(shù)比坯體稍微小一些,同時(shí)為了確保底釉的平整度,要求底釉的細(xì)度比普通的仿古底釉稍低一些,細(xì)度控制范圍在0.2~0.5,底釉施釉釉漿密度為(1.45±2)kg/cm3,施釉重量為(70±2)g/盤(200 mm×600 mm)。其中底釉采用了一種鋁含量比較高的化妝土,通過(guò)和金屬面釉的結(jié)合,該底釉更有利于在快速燒成時(shí)減少釉面的缺陷。
表1 底釉配方成分(質(zhì)量%)
通過(guò)實(shí)驗(yàn)對(duì)比證明,采用該底釉的鏡面效果更好,
釉面更加平整,底釉成分非常接近坯料成分,坯釉結(jié)合性非常良好。單燒只噴底釉的素坯沒(méi)有發(fā)現(xiàn)痱子,穿底孔等一些常見(jiàn)釉燒缺陷,底釉防污一般,輕微吸墨,底釉光澤度在5°~6°。
面釉里通過(guò)熔塊引入(見(jiàn)表2、表3)鈣、鎂、鋅助熔劑組分,一方面目的是減少一些生料在燒成過(guò)程中揮發(fā)對(duì)釉面平整度及燒結(jié)過(guò)程變形的影響,其中通過(guò)熔塊引入大量的氧化鈣,它可以降低石英的高溫黏度,提高釉的流動(dòng)性和釉面光澤度。同時(shí)部分的氧化鈣和坯料互滲發(fā)生化學(xué)反應(yīng),促進(jìn)坯釉的結(jié)合,能夠形成平整的鏡面效果。氧化鎂是強(qiáng)的活性助溶劑,可提高熔體的流動(dòng)性,同時(shí)促進(jìn)坯釉中間層的形成,一方面減少釉面的龜裂,另一方面能提高釉面的硬度,用作建筑瓷釉能提高釉面的耐磨性。配方中氧化鋅的引入主要有兩部分,一部分通過(guò)熔塊引入,另一部分通過(guò)化工料煅燒氧化鋅引入,該實(shí)驗(yàn)中鋅鈦飽和析晶形成了很微小的晶花,同時(shí)通過(guò)添加氧化銅進(jìn)行著色,使其高溫飽和時(shí)析出類似金屬顏色的晶體。其中熔塊含有少量的PbO,適量的Pb O 更有利于降低面釉的膨脹系數(shù),使熱穩(wěn)定性提高,并降低熔體黏度,使釉具有良好的流動(dòng)性,同時(shí)可以增加釉的熔融溫度范圍,提高釉面彈性和光澤度,由于氧化鉛有毒性,一般通過(guò)熔塊引入到釉料中。面釉施釉密度為1.63 kg/cm3,細(xì)度控制在0.2~0.4,施釉重量為(75±2)g/盤(200 mm×600 mm)。
表2 面釉里熔塊的化學(xué)成分(質(zhì)量%)
表3 釉用原料的化學(xué)組成(質(zhì)量%)
本次試驗(yàn)采用兩個(gè)不同方案共設(shè)計(jì)4組對(duì)比實(shí)驗(yàn)(見(jiàn)表4):第一組實(shí)驗(yàn)鏡面效果非常好,但晶花比較大,而且整體顏色偏黑,光澤度偏低;第二組實(shí)驗(yàn)比第一組實(shí)驗(yàn)的鏡面效果好一些,釉面非常平整,且晶花很小,顏色偏黑棕,幾乎看不到細(xì)毛孔,光澤度比較適合,基本能滿足本實(shí)驗(yàn)要求;第三組實(shí)驗(yàn)鏡面效果一般,晶花很小,顏色呈灰白,釉面毛孔比較多,較細(xì)較密集;第四組實(shí)驗(yàn)鏡面效果好,晶花小,但顏色呈灰白色,毛孔很少,釉面平整度好。在第一輪實(shí)驗(yàn)的基礎(chǔ)上,各選一組單獨(dú)外加氧化鋁和碳酸鋇的進(jìn)行優(yōu)化及對(duì)比實(shí)驗(yàn)。
表4 面釉配方設(shè)計(jì)
第二階段實(shí)驗(yàn),筆者選擇了4組不同的配方對(duì)比設(shè)計(jì)(見(jiàn)表5),實(shí)驗(yàn)配方中適當(dāng)增加了熔塊和鉀長(zhǎng)石的引入比例,目的是適當(dāng)降低一些燒結(jié)溫度和釉的高溫黏度,更有利于微小晶體的生成,同時(shí)使釉面能夠形成更好的鏡面效果。從實(shí)驗(yàn)的結(jié)果可以看出,實(shí)驗(yàn)B2配比,鏡面效果好,釉面非常平整,晶花很小,光澤度高,反光效果最好。實(shí)驗(yàn)B4配比,鏡面效果較好,釉面也非常平整,晶花小,但反光效果一般。
表5 優(yōu)化后面釉配方設(shè)計(jì)
通過(guò)上述對(duì)比,最終選擇實(shí)驗(yàn)B2,該實(shí)驗(yàn)?zāi)芑緷M足本項(xiàng)目的產(chǎn)品要求。實(shí)驗(yàn)B2適當(dāng)?shù)募尤肷倭垦趸X更有利于提高熱穩(wěn)定性,并可以抑制晶花進(jìn)一步長(zhǎng)大或使熔體只生成極小的結(jié)晶體,過(guò)多即造成釉面無(wú)光或者晶花邊緣發(fā)暗,B1加入過(guò)多的氧化鋁,釉面發(fā)黑,偏啞光,因此B2 調(diào)整時(shí)把鋁含量適當(dāng)降低一些。在實(shí)驗(yàn)B4中,加入碳酸鋇到結(jié)晶釉里,碳酸鋇達(dá)到一定量時(shí),可以提高結(jié)晶性能,并且使晶花有特殊的形態(tài),但當(dāng)碳酸鋇大于10%則會(huì)阻礙析晶,B3碳酸鋇加入量過(guò)多時(shí),磚面泛白無(wú)光,從實(shí)驗(yàn)結(jié)果來(lái)看,實(shí)驗(yàn)B4的鏡面稍微偏青白,對(duì)比B2整體效果稍微偏差一點(diǎn),故此在這里不選用實(shí)驗(yàn)B4的方案。
對(duì)燒成后的釉面進(jìn)行SEM(見(jiàn)圖2和圖3)對(duì)比。從圖2中可以看出,非析晶區(qū)的晶體(見(jiàn)圖4)結(jié)構(gòu)明顯少于有析晶的地方(見(jiàn)圖5)。
圖2 非析晶區(qū)域的XRD 圖譜
圖3 析晶區(qū)域的XRD 圖譜
圖4 非析晶區(qū)域的SEM 圖
圖5 析晶區(qū)域的SEM 圖
隨著結(jié)晶的厚度的增加,晶體數(shù)目會(huì)逐漸增多,晶體結(jié)構(gòu)呈樹(shù)片狀分布在不同區(qū)域,結(jié)合圖6、圖7 的EDS能譜分析,檢測(cè)區(qū)域主要元素為O、Na、Al、Si、K、Mg、Zn、Ti,有晶花的區(qū)域Zn、Ti的量明顯比非結(jié)晶的區(qū)域多,表明析晶的地方形成了鋅鈦的細(xì)小微結(jié)晶體才呈現(xiàn)出亮光的金屬效果。
圖6 析晶區(qū)EDS能譜圖
圖7 非析晶區(qū)EDS能譜圖
耐磨性能方面(磨耗)對(duì)比如表6所示。
表6 磨耗對(duì)比
上述結(jié)果表明,6000r/h磨耗,鏡面電鍍陶瓷磚明顯比普通拋釉和自然面仿古磚要低一些。
維氏硬度計(jì)算公式為:
其中:F——負(fù)荷,N;
S——壓痕表面積,mm2;
Α——壓頭相對(duì)面夾角=136°;
D——平均壓痕對(duì)角線長(zhǎng)度,mm。
報(bào)告維氏硬度值的標(biāo)準(zhǔn)格式為x HVy。例如185HV5中,185是維氏硬度值,5指的是測(cè)量所用的負(fù)荷值(單位:kgf)。
本項(xiàng)目鏡面電鍍陶瓷和普通拋釉磚和自然面仿古磚維氏硬度壓痕(300gf)實(shí)驗(yàn)結(jié)果如表7所示。
表7 維氏硬度對(duì)比
由圖8可知,維氏硬度值越大材料硬度越大,通過(guò)對(duì)比可知鏡面電鍍陶瓷磚的維氏硬度明顯要大于普通拋釉磚和自然面仿古磚的數(shù)值。從磨耗數(shù)據(jù)對(duì)比和維氏硬度壓痕照片和數(shù)值說(shuō)明,鏡面電鍍瓷磚的硬度要優(yōu)于普通拋釉磚和自然面仿古磚,由此判定其耐磨性能比普通的拋釉磚和仿古磚更優(yōu)。
圖8 壓痕對(duì)比效果圖
圖9 亮光鏡面電鍍陶瓷磚效果圖
在莫氏硬度方面,其鏡面電鍍陶瓷在5~6級(jí),普通拋釉磚只能達(dá)到4級(jí),普通仿古磚5級(jí)左右。
(1)在該釉中,要形成良好的鏡面金屬效果裝飾陶瓷,鋅鈦的加入量需要控制在15%~20%,著色氧化物氧化銅的加入量需控制在5%~10%,同時(shí)部分氧化鋁的加入可以抑制晶花進(jìn)一步增大,是保證形成鏡面金屬效果裝飾陶瓷的關(guān)鍵因素。
(2)釉中添加方解石以后降低了釉的高溫黏度,同時(shí)能使結(jié)晶細(xì)小均勻地分布。其用量一般不超過(guò)18%,否則會(huì)形成無(wú)光釉面,達(dá)不到實(shí)驗(yàn)?zāi)康摹?3)釉中適當(dāng)增加了熔塊和鉀長(zhǎng)石的用量,通過(guò)助熔劑的引入,從而適當(dāng)降低一些燒成溫度,同時(shí)能促進(jìn)玻璃相的形成,能夠使釉面形成更好的鏡面效果。
(4)二氧化鈦通過(guò)鈦白粉(納米級(jí)二氧化鈦)引入,二氧化鈦本身的熱穩(wěn)定性非常高,同時(shí)具有屏蔽紫外線作用,及有良好的分散性作用等。
(5)在坯體和釉層之間加施一道超平底釉,有助于釉面質(zhì)量的進(jìn)一步改善,保證成鏡面金屬效果裝飾陶瓷的平整度。